JPS5914557B2 - メツキ方法 - Google Patents
メツキ方法Info
- Publication number
- JPS5914557B2 JPS5914557B2 JP6121976A JP6121976A JPS5914557B2 JP S5914557 B2 JPS5914557 B2 JP S5914557B2 JP 6121976 A JP6121976 A JP 6121976A JP 6121976 A JP6121976 A JP 6121976A JP S5914557 B2 JPS5914557 B2 JP S5914557B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plating
- oxide film
- passive oxide
- base metal
- metal
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
＜要旨の解説〉
この発明は極めて強固であつて、化学的に安定な不働態
酸化膜を形成し易い金属、即ち、チタニウム、ジルコニ
ウム、ハフニウム、ニオブ、又は、タルタル単体、及び
、それらの金属相互、或いは、それらの金属とそれらの
金属以外の合金から成る金属の基体金属に対して確実、
且つ、強固にメッキ接着が出来るようにしたメッキ方法
に関する発明であわ、特に、予備処理により厚手酸化膜
を除去し、薄手酸化膜を有する状態にし、その後、酸性
メッキ液中で該薄手酸化膜除去とメッキ物質の５ 析出
被膜を同時併行裡に行なうことにより完全強固なメッキ
物を得るメッキ方法に係る発明である。
酸化膜を形成し易い金属、即ち、チタニウム、ジルコニ
ウム、ハフニウム、ニオブ、又は、タルタル単体、及び
、それらの金属相互、或いは、それらの金属とそれらの
金属以外の合金から成る金属の基体金属に対して確実、
且つ、強固にメッキ接着が出来るようにしたメッキ方法
に関する発明であわ、特に、予備処理により厚手酸化膜
を除去し、薄手酸化膜を有する状態にし、その後、酸性
メッキ液中で該薄手酸化膜除去とメッキ物質の５ 析出
被膜を同時併行裡に行なうことにより完全強固なメッキ
物を得るメッキ方法に係る発明である。
＜従来技術＞周知の如く、チタニウム、ジルコニウム、
・・フニウム、ニオブ、又はタンタル単体金属、及び、
１０それらの金属相互の合金、或いは、それらの金属と
他の金属との合金等の基体金属は極めて強固で、しかも
、化学的に安定した不働態酸化膜を急成付帯形成してい
る。
・・フニウム、ニオブ、又はタンタル単体金属、及び、
１０それらの金属相互の合金、或いは、それらの金属と
他の金属との合金等の基体金属は極めて強固で、しかも
、化学的に安定した不働態酸化膜を急成付帯形成してい
る。
そのため、該基体金属へのメッキについては不１５動態
酸化膜を予め第一次的に適宜の機械的手段により剥離削
除した後、第二次的に化学的溶解除去するといラ前処理
をとらざるを得ず、しかも、その後、不働態酸化膜の急
速形成を避けるべ＜、可及的速やかにメッキ浴プロセス
に移行させて基体金２０属表面が不働態酸化膜でおゝわ
れる前に迅速にメッキ物析出被覆を行なうという方法が
従来より基本的に採用されているものであわ、上述前処
理、或いは、該前処理とメッキ処理との組合せについて
の種々の改良技術か案出提案されてきている。
酸化膜を予め第一次的に適宜の機械的手段により剥離削
除した後、第二次的に化学的溶解除去するといラ前処理
をとらざるを得ず、しかも、その後、不働態酸化膜の急
速形成を避けるべ＜、可及的速やかにメッキ浴プロセス
に移行させて基体金２０属表面が不働態酸化膜でおゝわ
れる前に迅速にメッキ物析出被覆を行なうという方法が
従来より基本的に採用されているものであわ、上述前処
理、或いは、該前処理とメッキ処理との組合せについて
の種々の改良技術か案出提案されてきている。
２５＜従来技術の問題点＞
さわながら、上記前処理を伴なうメッキ方法は不働態酸
化膜を上記第一、二次工程で可及的に完全剥離除去する
工程とその後のメッキ−［程との段階的分離工程を経時
的にたどることになり）したがつ３０て、理論には実施
可能であわ、又、実験的に完全なデータが開示されては
いても、実工場で多量、或いは、大型の製品をメッキす
る場合には工程間の時間ズレが避けられず、そのため、
完全なメッキは期し難い難点があわ、前処理工程からメ
ッキ３５工程に移行するプロセスで不安定な要因による
不働態酸化膜が、しかも、かなわのバラツキをもつて不
可避的に形成されることになわ、そのため、一応メツキ
が形成されても、接着不良に起因するメツキ物の脱落が
生ずるという欠点があつた。
化膜を上記第一、二次工程で可及的に完全剥離除去する
工程とその後のメッキ−［程との段階的分離工程を経時
的にたどることになり）したがつ３０て、理論には実施
可能であわ、又、実験的に完全なデータが開示されては
いても、実工場で多量、或いは、大型の製品をメッキす
る場合には工程間の時間ズレが避けられず、そのため、
完全なメッキは期し難い難点があわ、前処理工程からメ
ッキ３５工程に移行するプロセスで不安定な要因による
不働態酸化膜が、しかも、かなわのバラツキをもつて不
可避的に形成されることになわ、そのため、一応メツキ
が形成されても、接着不良に起因するメツキ物の脱落が
生ずるという欠点があつた。
そして、このような不利点は基体金属の種類によつても
異なり、例えば、ニオブ、タンタル等の不働態酸化膜が
形成され易い、安定な基体金属ではメツキ物の確実強固
な製品がまず得られていない。く発明の目的〉 この発明の目的は上述従来技術に際しての複段処理に与
える不働態酸化膜を形成し易く化学的に安定した基体金
属のメツキ方法の問題点を解決すべき技術的課題とし、
前記従来技術の基本金属の実質的不働態酸化膜除去をメ
ツキ浴中で行なうという基本的提起を行なうのみならず
、予め第一次的に機械的に厚手不働態酸化膜を削除した
後、薄手不働態酸化膜を有したま＼の基体金属を陰極と
してメツキ液中に浸漬し、該メツキ液中に添加したフツ
化物からのフツ素イオンにより上記薄手不働態酸化膜を
破壊除去すると共に同時併行的に目的とするメツキ物質
の析出被膜を行なうことにより完全に基体金属表面に不
働態酸化膜不形成、非存在の状態を維持して強固なメツ
キを接着させることが可能であるようにして各種産業に
おける工業製品利用分野に益する優れたメツキ方法を提
供せんとするものである。
異なり、例えば、ニオブ、タンタル等の不働態酸化膜が
形成され易い、安定な基体金属ではメツキ物の確実強固
な製品がまず得られていない。く発明の目的〉 この発明の目的は上述従来技術に際しての複段処理に与
える不働態酸化膜を形成し易く化学的に安定した基体金
属のメツキ方法の問題点を解決すべき技術的課題とし、
前記従来技術の基本金属の実質的不働態酸化膜除去をメ
ツキ浴中で行なうという基本的提起を行なうのみならず
、予め第一次的に機械的に厚手不働態酸化膜を削除した
後、薄手不働態酸化膜を有したま＼の基体金属を陰極と
してメツキ液中に浸漬し、該メツキ液中に添加したフツ
化物からのフツ素イオンにより上記薄手不働態酸化膜を
破壊除去すると共に同時併行的に目的とするメツキ物質
の析出被膜を行なうことにより完全に基体金属表面に不
働態酸化膜不形成、非存在の状態を維持して強固なメツ
キを接着させることが可能であるようにして各種産業に
おける工業製品利用分野に益する優れたメツキ方法を提
供せんとするものである。
く発明の構成〉
上述目的に沿い先述特許請求の範囲を要旨とするこの発
明の構成は前述問題点を解決するために被メツキ処理金
属としての基体金属、例えば、チターウム金属板等に対
して強固、且つ、安定に形成されている不働態酸化膜に
対して第一次的に切削、研摩等の機械的剥離除去作用を
行い、厚手酸化膜を除去した後、第二次的にアルカリ脱
脂等の化学的予備処理を行なつて、薄手不働態酸化膜の
存在下で目的メツキ金属の金、銀、銅、白金族、又は、
これらの台金を析出する酸性メツキ液にフツ化水素等の
フツ素イオンを遊離するフツ素化合物を添加してあるメ
ツキ浴に陰極として浸漬し、適宜陽極をセツトし、基体
金属の種類、メツキ浴の種類（濃度）、温度、電流密度
、フツ素イオン規定フツ素化合物添加量について実験デ
ータに基づき最適匍脚を行つて通電すると、フッ素化合
物から電離するフツ素イオンは基体金属表面に於て溶解
反応を促し、水素発生を伴なつてメツキ浴中に浸漬する
際、前述の如く付帯していた薄手不働態酸化膜は化学的
に破壊除去され、その作用と同時併行的に酸性メツキ浴
からは目的とする所定のメツキ物質が析出して基体金属
の不働態酸化膜が除去された露呈部へ被覆し、その作用
が相互に同時に反復的に継続して行なわれるこの場合の
条件は最適条件を逸脱すると、例えば、フツ素イオンの
量が多すぎると、上記基体金属表面の化学的溶解作用が
激し過ぎるようになり、その結果、水素発生が激甚に過
ぎて起きるようになジ、そのため目的とするメツキ物質
の化学的沈漬が生じて接着強度が著るしく低下させてし
まうおそれがあるために上述の如く実験データ等に基づ
ぎ正確に設定通りに行なうことにより、結果的に基体金
属に不働態酸化膜が完全に無い状態で強固にメツキ被膜
を覆せた製品を得ることが出来るようにした技術的手段
を講じたものである。
明の構成は前述問題点を解決するために被メツキ処理金
属としての基体金属、例えば、チターウム金属板等に対
して強固、且つ、安定に形成されている不働態酸化膜に
対して第一次的に切削、研摩等の機械的剥離除去作用を
行い、厚手酸化膜を除去した後、第二次的にアルカリ脱
脂等の化学的予備処理を行なつて、薄手不働態酸化膜の
存在下で目的メツキ金属の金、銀、銅、白金族、又は、
これらの台金を析出する酸性メツキ液にフツ化水素等の
フツ素イオンを遊離するフツ素化合物を添加してあるメ
ツキ浴に陰極として浸漬し、適宜陽極をセツトし、基体
金属の種類、メツキ浴の種類（濃度）、温度、電流密度
、フツ素イオン規定フツ素化合物添加量について実験デ
ータに基づき最適匍脚を行つて通電すると、フッ素化合
物から電離するフツ素イオンは基体金属表面に於て溶解
反応を促し、水素発生を伴なつてメツキ浴中に浸漬する
際、前述の如く付帯していた薄手不働態酸化膜は化学的
に破壊除去され、その作用と同時併行的に酸性メツキ浴
からは目的とする所定のメツキ物質が析出して基体金属
の不働態酸化膜が除去された露呈部へ被覆し、その作用
が相互に同時に反復的に継続して行なわれるこの場合の
条件は最適条件を逸脱すると、例えば、フツ素イオンの
量が多すぎると、上記基体金属表面の化学的溶解作用が
激し過ぎるようになり、その結果、水素発生が激甚に過
ぎて起きるようになジ、そのため目的とするメツキ物質
の化学的沈漬が生じて接着強度が著るしく低下させてし
まうおそれがあるために上述の如く実験データ等に基づ
ぎ正確に設定通りに行なうことにより、結果的に基体金
属に不働態酸化膜が完全に無い状態で強固にメツキ被膜
を覆せた製品を得ることが出来るようにした技術的手段
を講じたものである。
く実施例〉
次にこの発明の実施例を示せば以下の通りである。
（実施例 １）
基本金属として純Ｔａ板を適宜機械的研摩手段により不
働態酸化膜を大部分、即ち、薄膜状までに第一次的に研
摩剥離し、次いで、アルカリ脱脂を行なつて第二次的に
化学的に予備処理を行ない、若干の時間をおいて、表１
に示す様な組成の硫酸酸性の銅メツキ浴に陰極として浸
漬し、次のような条件でメツキを行なつた。
働態酸化膜を大部分、即ち、薄膜状までに第一次的に研
摩剥離し、次いで、アルカリ脱脂を行なつて第二次的に
化学的に予備処理を行ない、若干の時間をおいて、表１
に示す様な組成の硫酸酸性の銅メツキ浴に陰極として浸
漬し、次のような条件でメツキを行なつた。
上述実施例の結果はＴａ板基体金属面に約４ミクロンの
光沢あるＣｕメツキ層が得られ、しかも、該メツキ層は
その後折り曲げ試験を行なつても全く剥離現象は発生せ
ず、密着性は極めて良好であつた。
光沢あるＣｕメツキ層が得られ、しかも、該メツキ層は
その後折り曲げ試験を行なつても全く剥離現象は発生せ
ず、密着性は極めて良好であつた。
（実施例 ２）
基体金属として純Ｔｉ板上記実施例同様適宜機械的研摩
手段により形成されている不働態酸化膜をその厚い部分
を第一次的に機械的に強制剥離し、次いで、第二次的に
化学的に予備処理を行なつて薄膜状の不働態酸化膜を有
させた状態で表２に示す組成の塩酸々性の白金メツキ浴
中に陰極にして浸漬し、次条件でメツキを行つた。
手段により形成されている不働態酸化膜をその厚い部分
を第一次的に機械的に強制剥離し、次いで、第二次的に
化学的に予備処理を行なつて薄膜状の不働態酸化膜を有
させた状態で表２に示す組成の塩酸々性の白金メツキ浴
中に陰極にして浸漬し、次条件でメツキを行つた。
その結果は純Ｔｉ板基体金属面に約３ミクロンの半光沢
のあるＰｔメツキ層が得られ、該メツキ層を大気中８０
０℃で１０分間の加熱試験を行なつたところ何ら剥離現
象も見られず、メツキ接着が非常に良好であることが実
証された。
のあるＰｔメツキ層が得られ、該メツキ層を大気中８０
０℃で１０分間の加熱試験を行なつたところ何ら剥離現
象も見られず、メツキ接着が非常に良好であることが実
証された。
（実施例 ３）
基体合金としてＺｒｌ及び、Ｚｒ−２．５ｗｔ％Ｎｂ合
金板を前述実施例同様適宜第一次的機械的研摩手段によ
り被覆されている不働態酸化膜の厚手部分を強制剥離し
た後、第二次的に化学的に脱脂処理を行ない、薄膜状の
不働態酸化膜を有して表３に示す組成の第１のメツキ浴
である硫酸々性Ｃｕメツキ浴で陰極浸漬らＣｕメツキ処
理を行なつた後、表４に示す組成の第２のメツキ浴であ
るフッ素イオンを含まない硫酸々性Ｃｕメツキ浴へ移行
して陰極浸漬して同じくＣｕメツキ処理を行なつた。
金板を前述実施例同様適宜第一次的機械的研摩手段によ
り被覆されている不働態酸化膜の厚手部分を強制剥離し
た後、第二次的に化学的に脱脂処理を行ない、薄膜状の
不働態酸化膜を有して表３に示す組成の第１のメツキ浴
である硫酸々性Ｃｕメツキ浴で陰極浸漬らＣｕメツキ処
理を行なつた後、表４に示す組成の第２のメツキ浴であ
るフッ素イオンを含まない硫酸々性Ｃｕメツキ浴へ移行
して陰極浸漬して同じくＣｕメツキ処理を行なつた。
尚、それらのメツキ条件は次の通りである。
く第１メツキ浴〉その結果、約１００ミクロンのＣｕメ
ツキ層が両基体金属表面に被覆され、目的とするメツキ
層が得られた。
ツキ層が両基体金属表面に被覆され、目的とするメツキ
層が得られた。
而して、第１メツキ浴にて薄メツキを行ない、次いで、
通常の第２メツキ浴で厚メツキにしても、その後の折り
曲げ試験では何らの剥離現象も見られなかつた。
通常の第２メツキ浴で厚メツキにしても、その後の折り
曲げ試験では何らの剥離現象も見られなかつた。
尚、上述実施例に示す如く、最適メツキ条件は反復実験
データにより確定されるものである。
データにより確定されるものである。
又、この発明による薄膜の不働態酸化膜除去とメツキ被
覆を反復同時併行裡に行なうことを上述第３実施例に示
す如く薄メツキ被覆に用い、しかる後に通常のメツキ法
より厚手メツキにすることも設計上の問題に過ぎない。
く発明の効果〉 上述の如くこの発明によれば、一般に強固で、且つ。
覆を反復同時併行裡に行なうことを上述第３実施例に示
す如く薄メツキ被覆に用い、しかる後に通常のメツキ法
より厚手メツキにすることも設計上の問題に過ぎない。
く発明の効果〉 上述の如くこの発明によれば、一般に強固で、且つ。
化学的に安定した不働態酸化膜が形成され易いチタニウ
ム、その他の金属、合金々属に対して予め不働態酸化膜
を厚手除去した後、即ち、薄手不働態酸化膜の状態にし
てフツ素イオンを遊離するフツ素化合物を添加した酸性
メツキ浴中でメツキ処理を行なうようにした＼めに、該
メツキ浴中への移行に際して薄手の不働態酸化膜形成状
態が何ら妨げとならず、メツキ浴中でフツ素イオンによ
り該薄手不働態酸化膜を破壊しながら同時併行的に析出
メツキ物を被覆させることが出来るため、該メツキ浴中
で基体金属面に確実にメツキが行なわれ、したがつて、
強固、且つ、安定した接着メツキ物が得られる効果が奏
される。又、形式的には厚手不働態酸化膜剥離除去の前
段処理を含む継続的な二段処理ではあつても実質的には
一段処理であるため処理工程も短縮され、それだけコス
ト的にも安くつく利点がある。
ム、その他の金属、合金々属に対して予め不働態酸化膜
を厚手除去した後、即ち、薄手不働態酸化膜の状態にし
てフツ素イオンを遊離するフツ素化合物を添加した酸性
メツキ浴中でメツキ処理を行なうようにした＼めに、該
メツキ浴中への移行に際して薄手の不働態酸化膜形成状
態が何ら妨げとならず、メツキ浴中でフツ素イオンによ
り該薄手不働態酸化膜を破壊しながら同時併行的に析出
メツキ物を被覆させることが出来るため、該メツキ浴中
で基体金属面に確実にメツキが行なわれ、したがつて、
強固、且つ、安定した接着メツキ物が得られる効果が奏
される。又、形式的には厚手不働態酸化膜剥離除去の前
段処理を含む継続的な二段処理ではあつても実質的には
一段処理であるため処理工程も短縮され、それだけコス
ト的にも安くつく利点がある。
Claims (1)
- １ 不働態酸化膜易形成金属の基体金属に対して予備処
理により酸化膜を除去した後酸性メッキ液中にてＣｕ、
Ｐｔのいづれかを電気メッキするメッキ方法において、
上記基体金属に対し予備処理により厚手酸化膜を除去し
て薄手酸化膜を有する状態にした該基体金属を陰極とし
てフッ素イオンを遊離するフッ化物添加酸性Ｃｕメッキ
液とフッ化物添加酸性Ｐｔメッキ浴とのいづれかのメッ
キ浴中に浸漬して通電メッキすることを特徴とするメッ
キ方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6121976A JPS5914557B2 (ja) | 1976-05-28 | 1976-05-28 | メツキ方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6121976A JPS5914557B2 (ja) | 1976-05-28 | 1976-05-28 | メツキ方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS52144335A JPS52144335A (en) | 1977-12-01 |
| JPS5914557B2 true JPS5914557B2 (ja) | 1984-04-05 |
Family
ID=13164862
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6121976A Expired JPS5914557B2 (ja) | 1976-05-28 | 1976-05-28 | メツキ方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5914557B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0664449U (ja) * | 1993-03-02 | 1994-09-13 | 積水化成品工業株式会社 | 養液栽培装置 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62247095A (ja) * | 1986-04-21 | 1987-10-28 | Seiko Instr & Electronics Ltd | チタン及びチタン合金用の金めつき浴 |
-
1976
- 1976-05-28 JP JP6121976A patent/JPS5914557B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0664449U (ja) * | 1993-03-02 | 1994-09-13 | 積水化成品工業株式会社 | 養液栽培装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS52144335A (en) | 1977-12-01 |
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