JPS59148064U - イオンビ−ムスパツタリング装置 - Google Patents

イオンビ−ムスパツタリング装置

Info

Publication number
JPS59148064U
JPS59148064U JP4142783U JP4142783U JPS59148064U JP S59148064 U JPS59148064 U JP S59148064U JP 4142783 U JP4142783 U JP 4142783U JP 4142783 U JP4142783 U JP 4142783U JP S59148064 U JPS59148064 U JP S59148064U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ion beam
beam sputtering
sputtering equipment
ion gun
analyzer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP4142783U
Other languages
English (en)
Inventor
澄夫 佐々木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Jeol Ltd
Original Assignee
Jeol Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Jeol Ltd filed Critical Jeol Ltd
Priority to JP4142783U priority Critical patent/JPS59148064U/ja
Publication of JPS59148064U publication Critical patent/JPS59148064U/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
  • Electron Tubes For Measurement (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は本考案の一実施例を示すための図、第２図は被
加工材料を説明するための図、第３図は、二次イオンの
検出信号の経時変化を例示するための図である。 １：イオン銃、２：１！源、３：集束レンズ、４：被加
工材料、５：アナライザー、６：検出端、７：増幅器、
８：比較回路、９：基準電源、ＳＥ二二次イオン、ＩＢ
、イオンビーム。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. イオン銃と、該イオン銃を稼動させるための電源と、該
    イオン銃よりのイオンビームの照射によって被加工材料
    より発生する荷電粒子を質量又はエネルギーに応じて選
    別するためのアナライザーと、該アナライザーによって
    選別された荷電粒子−を検出するためめ検出器と、該検
    出器の検出信号値を基準値と比較し、該検出信号値が基
    準値に到達したら前記電源に停止信号を供給するための
    手段とを備えることを特徴とするイオンビームスパッタ
    リング装置。
JP4142783U 1983-03-23 1983-03-23 イオンビ−ムスパツタリング装置 Pending JPS59148064U (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4142783U JPS59148064U (ja) 1983-03-23 1983-03-23 イオンビ−ムスパツタリング装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4142783U JPS59148064U (ja) 1983-03-23 1983-03-23 イオンビ−ムスパツタリング装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS59148064U true JPS59148064U (ja) 1984-10-03

Family

ID=30172004

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4142783U Pending JPS59148064U (ja) 1983-03-23 1983-03-23 イオンビ−ムスパツタリング装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS59148064U (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63263455A (ja) * 1987-04-21 1988-10-31 Shimadzu Corp 分析制御装置
JP2012252941A (ja) * 2011-06-06 2012-12-20 Hitachi High-Technologies Corp 荷電粒子線装置及び試料作製方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63263455A (ja) * 1987-04-21 1988-10-31 Shimadzu Corp 分析制御装置
JP2012252941A (ja) * 2011-06-06 2012-12-20 Hitachi High-Technologies Corp 荷電粒子線装置及び試料作製方法
US8933423B2 (en) 2011-06-06 2015-01-13 Hitachi High-Technologies Corporation Charged particle beam device and sample production method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS6251144A (ja) 質量分析計
JPS58110956U (ja) 荷電粒子照射装置
JPS59148064U (ja) イオンビ−ムスパツタリング装置
JPS6016756U (ja) イオンビ−ムスパツタリング装置
JPS58194879U (ja) 電子ビ−ム溶接機
JPS6132954U (ja) 荷電粒子線分析装置
JPS5912463U (ja) 電子線装置制御用コンピユ−タの自動リセツト装置
JPS5985571U (ja) 荷電粒子線装置等の試料ホルダ−
JPS6119774U (ja) 走査電子顕微鏡を用いた電位測定装置
JPS58172864U (ja) イオンマイクロアナライザ−用試料室
JPS6419664A (en) Ion beam device
JPS5823161U (ja) 荷電粒子分析装置
JPS59128161U (ja) イオン線装置
JPS5941856U (ja) 分析装置等における試料面エツチング装置
JPS613662U (ja) ２次電子検出装置
JPS5933765U (ja) イオンミリングエツチング装置
JPS6071064U (ja) 分析電子顕微鏡
JPS5971561U (ja) 粒子線装置の真空保護装置
JPS58129636U (ja) 電子ビ−ム露光におけるマ−ク検出装置
JPS5765660A (en) Ion beam device
JPS623046U (ja)
OTTINGER et al. Microstability of a focussed ion beam propagating through a Z-pinch plasma[Interim Report]
JPS59181573U (ja) 荷電粒子線装置における試料室排気装置
JPS5580255A (en) Charged particle beam processing device
JPS6453190A (en) Neutron particle measuring instrument