JPS59148761A - プロスタグランジン類およびその製造方法 - Google Patents
プロスタグランジン類およびその製造方法Info
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- JPS59148761A JPS59148761A JP58021995A JP2199583A JPS59148761A JP S59148761 A JPS59148761 A JP S59148761A JP 58021995 A JP58021995 A JP 58021995A JP 2199583 A JP2199583 A JP 2199583A JP S59148761 A JPS59148761 A JP S59148761A
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- represented
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Furan Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規な７−フルオロプロスタグランジン類およ
びその製造方法に関するものである。
びその製造方法に関するものである。
さらに本発明はこの新規な７−フルオロプロスタグラン
ジン類を用いた基本的に公知である７−フルオロプロス
タグランジン類２類の新規な製造方法に関するものであ
る。
ジン類を用いた基本的に公知である７−フルオロプロス
タグランジン類２類の新規な製造方法に関するものであ
る。
下記式（４）で表わされる７−フルオロプロスタグラン
ジン類！類、別名７−フルオロプロスタサイクリン類（
またはＲ１０が水素原子のときはその非毒性塩）は公知
であシ、たとえば、特開昭５７−９９５８０号公報、特
開昭５７−１６５３８２号公報、特開昭５７−１７１９
８８号公報などに記載されている。
ジン類！類、別名７−フルオロプロスタサイクリン類（
またはＲ１０が水素原子のときはその非毒性塩）は公知
であシ、たとえば、特開昭５７−９９５８０号公報、特
開昭５７−１６５３８２号公報、特開昭５７−１７１９
８８号公報などに記載されている。
晶Ｕ
なお、上記式ｌにおいて炭素原子に付した１〜１５０番
号は炭素原子の位置を表わす。
号は炭素原子の位置を表わす。
天然のグロスタグランジンエ、類（以下合成物も含めて
ＰＧ工２という）は化学的に不安定で中性または弱酸性
の条件下では取り扱うことが困難であるが、上記式（３
）で表わされる７−フルオロプロスタグランジン類（以
下７−ＦＰＧ工、という）は上記条件下でも極めて安定
であり、また薬理作用の選択性向上の面で有用であると
考えられている。この７ＦＰＧ工、は７−ヒドロキシＰ
Ｇ工２のフッ素化（上記特開昭５７−１６５３８２号公
報参照）や上記特開昭５７−１７１９８８号公報記載の
方法で製造される。しかしながら、これらの方法は選択
性や収率が低いこと、反応工程が複雑すぎることなど糧
々の問題点かあシ、これらの問題の解決が望まれていた
。
ＰＧ工２という）は化学的に不安定で中性または弱酸性
の条件下では取り扱うことが困難であるが、上記式（３
）で表わされる７−フルオロプロスタグランジン類（以
下７−ＦＰＧ工、という）は上記条件下でも極めて安定
であり、また薬理作用の選択性向上の面で有用であると
考えられている。この７ＦＰＧ工、は７−ヒドロキシＰ
Ｇ工２のフッ素化（上記特開昭５７−１６５３８２号公
報参照）や上記特開昭５７−１７１９８８号公報記載の
方法で製造される。しかしながら、これらの方法は選択
性や収率が低いこと、反応工程が複雑すぎることなど糧
々の問題点かあシ、これらの問題の解決が望まれていた
。
本発明者は、７−Ｆ ＰＧＩ１の製造方法について種々
の研究検討を行い、フッ素化された新規なプロスタグラ
ンジン類を製造する優れた方法を見い出すに至った。さ
らに本発明は、この新規な７−フルオロプロスタグラン
ジン類を中間体として使用することを特徴とする前記の
ように基本的に公知である７−ＦＰＧＩ、類を製造する
方法に関するものである。
の研究検討を行い、フッ素化された新規なプロスタグラ
ンジン類を製造する優れた方法を見い出すに至った。さ
らに本発明は、この新規な７−フルオロプロスタグラン
ジン類を中間体として使用することを特徴とする前記の
ように基本的に公知である７−ＦＰＧＩ、類を製造する
方法に関するものである。
本発明の新規な７−フルオロプロスタグランジン類（以
下７−１ｐ ＰＧＦという）は下記式（１）で表わされ
る化合物である。
下７−１ｐ ＰＧＦという）は下記式（１）で表わされ
る化合物である。
なお、上記式（１）において炭素原子に付した１〜１５
の番号は炭素原子の立置を表わす。
の番号は炭素原子の立置を表わす。
本発明は、また下記式１〕で表わされる７−ヒドロキシ
プロスタグランジン類（以下？ −０ＨＰＧＦという）
ｔ−フッ素化し、所望により脱保護および／または加水
分解して上記式（１）で表わされる７ −Ｆ ＰＧＦ
ｉ製造する方法に関するものである。
プロスタグランジン類（以下？ −０ＨＰＧＦという）
ｔ−フッ素化し、所望により脱保護および／または加水
分解して上記式（１）で表わされる７ −Ｆ ＰＧＦ
ｉ製造する方法に関するものである。
１１ｓＲ＠
またさらに、本発明は上記式〔０で表わされる２−ＰＰ
ＧＩＰｔ−使用することを特徴とする環化反応を経て前
記式ｌで表わされる７ −ＦＰＧ：（、（またはＲ１０
が水素原子であると自はその非毒性塩）を製造する新規
な７−ＦＰＧＩ、の製造方法に関するものである。
ＧＩＰｔ−使用することを特徴とする環化反応を経て前
記式ｌで表わされる７ −ＦＰＧ：（、（またはＲ１０
が水素原子であると自はその非毒性塩）を製造する新規
な７−ＦＰＧＩ、の製造方法に関するものである。
上記式〔０〜（Ｉ［ｌｌなどの構造式において、先細の
線（ト）はβ−配向（分子の面の上）にある置換基を示
し、点線（−−−）はα−配向（分子の面の下）にある
置換基を示し、波線（ヘベはα−あるＶｈはβ−配向ま
たはこれらの異性体の混合物である置換基を示す０また
、これらは光学異性体、ラセミ体、その他の型の化合物
を含むものである。
線（ト）はβ−配向（分子の面の上）にある置換基を示
し、点線（−−−）はα−配向（分子の面の下）にある
置換基を示し、波線（ヘベはα−あるＶｈはβ−配向ま
たはこれらの異性体の混合物である置換基を示す０また
、これらは光学異性体、ラセミ体、その他の型の化合物
を含むものである。
上記式（１）で表わされる７−ＦＰＧＩ２において、Ｒ
１は特にメチル基あるいはエチル基が好ましいＯＲ”、
Ｒ”、 Ｒ’は同一あるいは異る保護基であることが
好ましい。保護基としては、トリアルキルシリル２ｉＩ
Ｉ（３個のアルキル基は同一あるいは異るものであって
もよい）、アルカノイル基、テトラヒドロピラニル基、
テトラヒドロフラニル基。
１は特にメチル基あるいはエチル基が好ましいＯＲ”、
Ｒ”、 Ｒ’は同一あるいは異る保護基であることが
好ましい。保護基としては、トリアルキルシリル２ｉＩ
Ｉ（３個のアルキル基は同一あるいは異るものであって
もよい）、アルカノイル基、テトラヒドロピラニル基、
テトラヒドロフラニル基。
ベンゾイル基、メトキシエトキシエチル基、ソの他のも
のがある。特に保護基としては、炭素数１〜４の同一あ
るいは異るアルキル基を有するトリアルキルシリル基が
好ましい。Ｒ１１としては、特に直鎖アルキル基、特に
ｎ−アミル基が好ましい。式叩で表わされる７−ＯＨＰ
ＧＦにお−て、Ｒ６はＲ１と同様のアルキル基であり、
Ｒ？、 Ｈａ、 ＲｅもＲ”、 Ｒ”、 Ｒ’と同様の
保護基である０即ち、Ｒ１−Ｒ９が水素原子であると、
その部分がフッ素化反応に影響されるので、代印におけ
るＲ１−Ｒ６と異シ、これらは水素原子であってはなら
ない。式圓で表わされる？−Ｆ’ＰＧ工３の場合、１１
０． Ｒ１１，Ｒ１１ｌは式〔０の７−ＦＰＧＦにおけ
るＲ１，Ｒ３，Ｒ４と同じ基であってもよく、異る基に
変換したものであってもよい。
のがある。特に保護基としては、炭素数１〜４の同一あ
るいは異るアルキル基を有するトリアルキルシリル基が
好ましい。Ｒ１１としては、特に直鎖アルキル基、特に
ｎ−アミル基が好ましい。式叩で表わされる７−ＯＨＰ
ＧＦにお−て、Ｒ６はＲ１と同様のアルキル基であり、
Ｒ？、 Ｈａ、 ＲｅもＲ”、 Ｒ”、 Ｒ’と同様の
保護基である０即ち、Ｒ１−Ｒ９が水素原子であると、
その部分がフッ素化反応に影響されるので、代印におけ
るＲ１−Ｒ６と異シ、これらは水素原子であってはなら
ない。式圓で表わされる？−Ｆ’ＰＧ工３の場合、１１
０． Ｒ１１，Ｒ１１ｌは式〔０の７−ＦＰＧＦにおけ
るＲ１，Ｒ３，Ｒ４と同じ基であってもよく、異る基に
変換したものであってもよい。
式ＣＩ）で表わされる７−ＦＰＧＦとして好ましい具体
的化合物は以下の化合物である。
的化合物は以下の化合物である。
ａ、５．６−ジヒドロ−ツーフルオロ−Ｐ（）Ｆ、α。
１）、５．６−テヒ）”ロー７−フルオロ−ＰＧＦ２α
メチルエステル。
メチルエステル。
ａ、 ５．６−テヒドロー７−フルオーローＰＧＩＩ
’、αエチルエステル。
’、αエチルエステル。
ａ、 ５．６−−ｙヒトロー７−フルオロ−ＰＧＦ、
αメチルエステル１１．１５−ビス（ジメチル−ｔ−グ
チル）シリル９− ） Ｕエチルシリルエーテル。
αメチルエステル１１．１５−ビス（ジメチル−ｔ−グ
チル）シリル９− ） Ｕエチルシリルエーテル。
ｅ、５．６−７’ヒドロ−７−フルオロ−ＰＧＦ２αメ
チルエステル１１．１５−ジアセテート ９−トリエチ
ルシリルエーテル。
チルエステル１１．１５−ジアセテート ９−トリエチ
ルシリルエーテル。
ｆ、 ５．６−テヒドロー７−フルオローＰＧＦ、α
メチルエステル１１．１５−ビス−テトラヒドロピラニ
ルエーテル９− ） ！Ｊエチルシリルエーテル。
メチルエステル１１．１５−ビス−テトラヒドロピラニ
ルエーテル９− ） ！Ｊエチルシリルエーテル。
代印で表わされる７ −ＯＨＰＧＦのフッ素化は公知の
方法で行いうる。フッ素化は、通常溶媒に溶解した７−
０ＨＰＧＦにフッ素化剤？加えることによシ行なわれる
。フッ素化剤としては′−ゝ＼ ＲｌＢ Ｎ−日Ｆ３（Ｒ１１：炭素数４〜７の酸素を
有していてもよい環を形成する炭化水素基）や１〜５の
アルキル基）などのアミノサルファートリフルオライド
系フッ素化剤、ポリフルオロオレフィン−ジアルキルア
ミン系フッ素化剤（たとえば、ＣＦ３ＣＨＦＣＦ、ＮＥ
ｊ２． ＣＨＣ：ＩＦｃＦ２ＮＦｔｔ２）。
方法で行いうる。フッ素化は、通常溶媒に溶解した７−
０ＨＰＧＦにフッ素化剤？加えることによシ行なわれる
。フッ素化剤としては′−ゝ＼ ＲｌＢ Ｎ−日Ｆ３（Ｒ１１：炭素数４〜７の酸素を
有していてもよい環を形成する炭化水素基）や１〜５の
アルキル基）などのアミノサルファートリフルオライド
系フッ素化剤、ポリフルオロオレフィン−ジアルキルア
ミン系フッ素化剤（たとえば、ＣＦ３ＣＨＦＣＦ、ＮＥ
ｊ２． ＣＨＣ：ＩＦｃＦ２ＮＦｔｔ２）。
８Ｆ４．５ｅＦ４． ＰｈＳＦ３． ＰｈＰＦ４ 、
Ｐｈ３ ＰＦ２ などを使用しうる。好ましいフッ素
化剤はピペリジノザルファートリフルオライド、ジエチ
ルアミノサルファートリフルオライドなどのアミノサル
ファートリフルオライド系のフッ素化剤である。
Ｐｈ３ ＰＦ２ などを使用しうる。好ましいフッ素
化剤はピペリジノザルファートリフルオライド、ジエチ
ルアミノサルファートリフルオライドなどのアミノサル
ファートリフルオライド系のフッ素化剤である。
フッ素化剤としてアミノサルファートリフルオライド系
フッ素化剤を使用する場合、塩基が併用されることが好
ましく、たとえばピリジン。
フッ素化剤を使用する場合、塩基が併用されることが好
ましく、たとえばピリジン。
トリエチルアミン、ジメチルアニリン等を使用すること
ができる。溶媒としては、塩化メチレン、ジクロルメタ
ン、クロロホルム、四塩化炭素などのハロゲン化炭化水
素、ベンゼンやトルエンなどの炭化水素、テトラヒドロ
フランや各糧アルキルエーテルなどのエーテル、その他
の溶媒を使用しうる。反応温度は一１００℃〜５０℃が
適当である。必要により抽出やクロマトグラフィーによ
る精製を行い、成田で表わされる化合物７−ＦＰＧＦを
得る。
ができる。溶媒としては、塩化メチレン、ジクロルメタ
ン、クロロホルム、四塩化炭素などのハロゲン化炭化水
素、ベンゼンやトルエンなどの炭化水素、テトラヒドロ
フランや各糧アルキルエーテルなどのエーテル、その他
の溶媒を使用しうる。反応温度は一１００℃〜５０℃が
適当である。必要により抽出やクロマトグラフィーによ
る精製を行い、成田で表わされる化合物７−ＦＰＧＦを
得る。
上記方法によシ得られた生成物は所望によシ脱保護や加
水分解を行いうる。脱保護は保護基がトリアルキルシリ
ル基の場合、テトラブチルアンモニウムフルオライドな
どのテトラアルキルアンモニウムフルオライドを用いる
方・法が適当である。テトラアルキルアンモニウムフル
オライドは、トリアルキルアミンなどの塩基と併用する
こともできる。溶媒としては、テトラヒドロフランなど
のエーテルが適当である。保護基がアシル基などの場合
、脱保護はアルカリによる加水分解が適当である。また
、Ｒ１がアルキル基の場合、同様のアルカリ加水分解に
より水素原子に変えることができる。アルカリ加水分解
は水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、その他のアルカ
リの水溶液を使用し、所望によジアルコールなどの水溶
性有機溶媒を併用して行うことが好ましい。これらのフ
ッ素化、脱保護、および加水分解反応は基本的に公知で
あシ、たとえば前記特開昭５７−１６５３８２号公報な
どに記載されている。本発明においても、この基本的に
公知の方法を採用しうる。
水分解を行いうる。脱保護は保護基がトリアルキルシリ
ル基の場合、テトラブチルアンモニウムフルオライドな
どのテトラアルキルアンモニウムフルオライドを用いる
方・法が適当である。テトラアルキルアンモニウムフル
オライドは、トリアルキルアミンなどの塩基と併用する
こともできる。溶媒としては、テトラヒドロフランなど
のエーテルが適当である。保護基がアシル基などの場合
、脱保護はアルカリによる加水分解が適当である。また
、Ｒ１がアルキル基の場合、同様のアルカリ加水分解に
より水素原子に変えることができる。アルカリ加水分解
は水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、その他のアルカ
リの水溶液を使用し、所望によジアルコールなどの水溶
性有機溶媒を併用して行うことが好ましい。これらのフ
ッ素化、脱保護、および加水分解反応は基本的に公知で
あシ、たとえば前記特開昭５７−１６５３８２号公報な
どに記載されている。本発明においても、この基本的に
公知の方法を採用しうる。
式（５）で表わされる７−ＦＰＧＰ２Ｏ３造は、前記式
（１）で表わされる７ −Ｆ ＰＧＦ ｆ：用いて、環
化反応を経ることによって行なわれる。このためには、
式〔Ｄで表わされる７−ＦＰＧＦは９位の水酸基が脱保
護された（即ち、Ｒ２，Ｒ３、およびＲ４が水素原子で
ある）化合物で返ることが好ましく、またｕｌ ｎアル
キル基であることが好ましい。
（１）で表わされる７ −Ｆ ＰＧＦ ｆ：用いて、環
化反応を経ることによって行なわれる。このためには、
式〔Ｄで表わされる７−ＦＰＧＦは９位の水酸基が脱保
護された（即ち、Ｒ２，Ｒ３、およびＲ４が水素原子で
ある）化合物で返ることが好ましく、またｕｌ ｎアル
キル基であることが好ましい。
環化の基本的反応は公知であシ、” Ｊ、 Ａｍｅｒ、
Ｃｈｅｍ。
Ｃｈｅｍ。
ｓｏｃ、 、 Ｉ Ｏ４巻、 ５８４２頁〜５８４４頁
（１９８２）に記載されている。１！！（］ち、トリフ
ルオロ酢酸水銀によシ環化せしめ、次いで水嵩化剤で氷
菓化することにより、目的の７−ＦＰＧＰ２Ｏ３造する
ことができる。トリフルオロ酢酸の代りに環化第二水銀
や酢酸第二水銀などを使用することができ、また水素化
剤としては、水素化ホウ素ナトリウム（Ｎａ Ｂ Ｈ４
） を水素化ホウ素亜鉛（Ｚｎ（ＢＨ４）＊ ）などを
使用しうる。反応生成物より所望により洗浄、抽出、精
製等の手段で目的物である純度の高い７−ＦＰＧ工、を
得る。
（１９８２）に記載されている。１！！（］ち、トリフ
ルオロ酢酸水銀によシ環化せしめ、次いで水嵩化剤で氷
菓化することにより、目的の７−ＦＰＧＰ２Ｏ３造する
ことができる。トリフルオロ酢酸の代りに環化第二水銀
や酢酸第二水銀などを使用することができ、また水素化
剤としては、水素化ホウ素ナトリウム（Ｎａ Ｂ Ｈ４
） を水素化ホウ素亜鉛（Ｚｎ（ＢＨ４）＊ ）などを
使用しうる。反応生成物より所望により洗浄、抽出、精
製等の手段で目的物である純度の高い７−ＦＰＧ工、を
得る。
７−ＦＰＧＰ２Ｏ３ｌＧがアルキル基の１ま、または加
水分解により Ｒ１０を水素原子に変え、保護基がある
場合には脱保護を行って、公知の７−ＦＰＧ工、の場合
と同様、医薬として種々の用途に使用しうる。Ｒが水素
原子の場合、７−ＦＰＧＰ２Ｏ３種の塩基と反応させて
非毒性塩とし、これを医薬として使用することもできる
。塩基としてはアルカリ金属の水酸化物や（重）炭酸塩
。
水分解により Ｒ１０を水素原子に変え、保護基がある
場合には脱保護を行って、公知の７−ＦＰＧ工、の場合
と同様、医薬として種々の用途に使用しうる。Ｒが水素
原子の場合、７−ＦＰＧＰ２Ｏ３種の塩基と反応させて
非毒性塩とし、これを医薬として使用することもできる
。塩基としてはアルカリ金属の水酸化物や（重）炭酸塩
。
アルカリ土類金属の水酸化物、アンモニア、モノあるい
はジアルカノールアミン、などが適当である。
はジアルカノールアミン、などが適当である。
本発明の特徴は、前記の好ましいフッ素化剤を用いるこ
とＫよシフ位の炭素原子のフッ素化が極めて高い選択率
で起り、７−ＦＰＩＦの収率が極めて高い点にある。こ
の理由は７−ＯＨＰＧＦにおける水酸基が三重結合を有
する炭素原子（６位の炭素原子）に隣接しておシ・活性
化されているためであろうと考えられる。たとえば、５
．６位が二重結合や一重結合であると、脱離反応による
オレフィンやジエンの生成が優先し、７７ＰＧＦの収率
は極めて低くなる。一方、７−Ｆ ＰＧＦの環化反応に
よる７−ＦＰＧＰ２Ｏ３率も上記公知の５．６−デヒド
ロＰＧＦｊαの環化反応と同様高い収率を達成しうるも
のであり、総合的にみて、７−ＦＰＧ工３の生成は前記
公知列に比較して極めて選択性が高いものである。
とＫよシフ位の炭素原子のフッ素化が極めて高い選択率
で起り、７−ＦＰＩＦの収率が極めて高い点にある。こ
の理由は７−ＯＨＰＧＦにおける水酸基が三重結合を有
する炭素原子（６位の炭素原子）に隣接しておシ・活性
化されているためであろうと考えられる。たとえば、５
．６位が二重結合や一重結合であると、脱離反応による
オレフィンやジエンの生成が優先し、７７ＰＧＦの収率
は極めて低くなる。一方、７−Ｆ ＰＧＦの環化反応に
よる７−ＦＰＧＰ２Ｏ３率も上記公知の５．６−デヒド
ロＰＧＦｊαの環化反応と同様高い収率を達成しうるも
のであり、総合的にみて、７−ＦＰＧ工３の生成は前記
公知列に比較して極めて選択性が高いものである。
なお、式製で表わされる７ −ＯＨＰＧＦは、下記式（
ｌνＪで表わされる化合物、たとえば５．６−ジヒドロ
−ツーヒドロキシ−ＰＧＦ、αアルキルエーテルの１１
位および１５位の水酸基を保護した化合物よシ、９位の
水酸基のみを選択的に保護することによシ得られる。
ｌνＪで表わされる化合物、たとえば５．６−ジヒドロ
−ツーヒドロキシ−ＰＧＦ、αアルキルエーテルの１１
位および１５位の水酸基を保護した化合物よシ、９位の
水酸基のみを選択的に保護することによシ得られる。
ただし、９位の水酸基のみに１段の反応で保護基を導入
することは困難であり、たとえば、まず７位の水酸基に
トリメチルシリル基などの保護基Ｒ” を導入しく２つ
の水酸基の反応性の差により９位の水酸基はトリメチル
シリル基で保護されない条件で行うことができる）、次
いで９位の水酸基にトリエチルシリル基などの保護基Ｒ
１６よりも耐脱保護性の高い保護基Ｒ７を導入し、その
後保護基Ｒ１６のみを脱保護して代印で表わされる７−
ＯＨＰＧＦとする。なお、保護基Ｒ８およびＲｏはいず
れも保護基Ｒ１６よシも高い耐脱保護性を有している必
要があり、たとえば、ジメチル−ｔ−ブチルシリル基な
どが適当である。なお、上記成製で表わされる化合物は
、たとえば” Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒ
ｓ ’、 ２３巻。
することは困難であり、たとえば、まず７位の水酸基に
トリメチルシリル基などの保護基Ｒ” を導入しく２つ
の水酸基の反応性の差により９位の水酸基はトリメチル
シリル基で保護されない条件で行うことができる）、次
いで９位の水酸基にトリエチルシリル基などの保護基Ｒ
１６よりも耐脱保護性の高い保護基Ｒ７を導入し、その
後保護基Ｒ１６のみを脱保護して代印で表わされる７−
ＯＨＰＧＦとする。なお、保護基Ｒ８およびＲｏはいず
れも保護基Ｒ１６よシも高い耐脱保護性を有している必
要があり、たとえば、ジメチル−ｔ−ブチルシリル基な
どが適当である。なお、上記成製で表わされる化合物は
、たとえば” Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒ
ｓ ’、 ２３巻。
５５６３頁〜５５６６頁（１９８２）に記載されている
公知の化合物である。
公知の化合物である。
以下本発明を実施例等で具体的に説明するが、本発明は
これら実施例のみに現定されるものではない。
これら実施例のみに現定されるものではない。
参考例
代印で表わされる化合物の合成
５、ｅ−テヒドロー７−ヒドロキシーＰＧＦ２αメチル
エステル １１．１５−ビス（ジメチル−ｔ−７チル）
シリルエーテル（式■において Ｒ５がｎ−アミル基。
エステル １１．１５−ビス（ジメチル−ｔ−７チル）
シリルエーテル（式■において Ｒ５がｎ−アミル基。
Ｒ６がメチル基、Ｒ８およびＲ＠がジメチル−ｔ−ブチ
ルシリル基である化合物）２０５■（０，３３６ｍｍｏ
ｌ）の無水アセトン溶液（８ｄ）に−４０℃でトリメチ
ルシリルジエチルアミド４９０μＡ！（２，５９ｍｍｏ
ｌ）を滴下し、同条件下で２時間攪拌した。これを氷冷
した飽和炭酸水素す゛トリウム水溶液（２０ｍｅ）にて
注ぎ、水層金工チルエーテル（１０ｒｒｔｌ ）で２回
抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥後、低沸点成分を減圧除去すると、５．
６−ジヒドロ−ツートリメチルシロキシ−ＰＧＦ、αメ
チルエステル１１．１５−ビス（ジメチル−１−ブチル
）シリルエーテルが無色の粘稠な液体として得られｆｃ
（収量２３０■、収率はぼ１００ｑｂ）。
ルシリル基である化合物）２０５■（０，３３６ｍｍｏ
ｌ）の無水アセトン溶液（８ｄ）に−４０℃でトリメチ
ルシリルジエチルアミド４９０μＡ！（２，５９ｍｍｏ
ｌ）を滴下し、同条件下で２時間攪拌した。これを氷冷
した飽和炭酸水素す゛トリウム水溶液（２０ｍｅ）にて
注ぎ、水層金工チルエーテル（１０ｒｒｔｌ ）で２回
抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥後、低沸点成分を減圧除去すると、５．
６−ジヒドロ−ツートリメチルシロキシ−ＰＧＦ、αメ
チルエステル１１．１５−ビス（ジメチル−１−ブチル
）シリルエーテルが無色の粘稠な液体として得られｆｃ
（収量２３０■、収率はぼ１００ｑｂ）。
上記生成物を無水塩化メチレン（２ｄ）に溶解し、この
溶液に０℃でトリエチルシリルジエチルアミド３ｚｓｐ
ｌ（１，３４ｒｎ ｍｏｂ ）、次イテトリエチルシリ
ルク四リド２０μｌ （０，１３４ｍｆｉＱｌ ）を滴
下した。３０分間同条件で攪拌後、エチルエーテル（１
０ｍＪり、次いで飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（１０
ｄ）ｔ’加えた。水層をエチルエーテル（１０ｍ？）で
２回抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥後、低沸点成分を減圧除去することに
より、収率約９５俤で５．６−ジヒドロ−ツートリメチ
ルシロキシ−ＰＧＦ、αメチルエステル １１．１５−
ビス（ジメチル−ｔ−ブチル）シリル９− ） ＩＪエ
チルシリ／ｌｚエ−テｋｆ得り。”Ｃ−ＮＭＲ（Ｃ：Ｄ
Ｃ１３゜ＴＭ８ 、 ｐｐｍ ） ：δ６１．１５（Ｃ
−７）、 ７Ｌ５（Ｃ−１１）。
溶液に０℃でトリエチルシリルジエチルアミド３ｚｓｐ
ｌ（１，３４ｒｎ ｍｏｂ ）、次イテトリエチルシリ
ルク四リド２０μｌ （０，１３４ｍｆｉＱｌ ）を滴
下した。３０分間同条件で攪拌後、エチルエーテル（１
０ｍＪり、次いで飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（１０
ｄ）ｔ’加えた。水層をエチルエーテル（１０ｍ？）で
２回抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥後、低沸点成分を減圧除去することに
より、収率約９５俤で５．６−ジヒドロ−ツートリメチ
ルシロキシ−ＰＧＦ、αメチルエステル １１．１５−
ビス（ジメチル−ｔ−ブチル）シリル９− ） ＩＪエ
チルシリ／ｌｚエ−テｋｆ得り。”Ｃ−ＮＭＲ（Ｃ：Ｄ
Ｃ１３゜ＴＭ８ 、 ｐｐｍ ） ：δ６１．１５（Ｃ
−７）、 ７Ｌ５（Ｃ−１１）。
７＆２（Ｃ−１１５）、 ７７．２ＣＣ−９）上記生
成物２５３ ｔｑ （’０．３１９ ｍｍｏｌ） ｆ入
れた反応容器に酢酸−テトラヒドロフラ／（以下ＴＨＦ
’とい°う）−水（８：８：１）の混合液３．２ＷＬｌ
を０℃で加えた。室温で４０時間攪拌後、低沸点成分を
０℃で減圧除去した。残渣にエチルエーテル１０ｄと飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液１０ｍを加え、水層をエチ
ルエーテル（５１１ｔ＆’）で３回抽出した。有機層を
飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後濃
縮した。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサ
ン／酢酸エチル＝７０７３’０） で精製し、純粋な
目的化合物である５、６−ジヒドロ−ツーヒドロキシ−
ＰＧＦ２α メチルエステル １１．１５−ビス（ジメ
チル−ｔ−ブチル）シリル９−）ＩＪエチルシリルエー
テル（式■においてＲ５がｎ−アミル基、Ｒ６がメチル
基、Ｒ７がトリエチルシリル基、Ｒ８およびＲ９がジメ
チル−ｔ−ブチルシリル基である化合物）を得た。出発
物質（式■の化合物）からの総収率は約８５％であった
。
成物２５３ ｔｑ （’０．３１９ ｍｍｏｌ） ｆ入
れた反応容器に酢酸−テトラヒドロフラ／（以下ＴＨＦ
’とい°う）−水（８：８：１）の混合液３．２ＷＬｌ
を０℃で加えた。室温で４０時間攪拌後、低沸点成分を
０℃で減圧除去した。残渣にエチルエーテル１０ｄと飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液１０ｍを加え、水層をエチ
ルエーテル（５１１ｔ＆’）で３回抽出した。有機層を
飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後濃
縮した。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサ
ン／酢酸エチル＝７０７３’０） で精製し、純粋な
目的化合物である５、６−ジヒドロ−ツーヒドロキシ−
ＰＧＦ２α メチルエステル １１．１５−ビス（ジメ
チル−ｔ−ブチル）シリル９−）ＩＪエチルシリルエー
テル（式■においてＲ５がｎ−アミル基、Ｒ６がメチル
基、Ｒ７がトリエチルシリル基、Ｒ８およびＲ９がジメ
チル−ｔ−ブチルシリル基である化合物）を得た。出発
物質（式■の化合物）からの総収率は約８５％であった
。
”Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣＩ８． ＴＭＳ、 ｐｐｍ ）
：δ６３．２（Ｃ−７）。
：δ６３．２（Ｃ−７）。
７７．０（Ｃ−９）、 ８１．１（Ｃ−５）、 ８４．
８ （Ｃ−６）実施Ｍｌ （式（Ｊ）で表わされる化
合物の合成）ピペリジノサルファートリフルオライド３
７ｐｉ （０，３’１２ｍｒｎｏ１）、ビリジｙ ３０
ｐｌ （０，３７２ｍｍｏｌ）および塩化メチレン１
ｍの混合物に一７８℃で上記参考例で得られた最終生成
物１３４ｇＡＩ（０，１８６ｍｍｏｌ）の塩化メチレン
（ｌ ｄ ）溶液を滴下した。５分後、あらかじめ−７
８℃に冷却したエチルエーテル１０ｄｉ加えて希釈し、
氷冷した飽和炭酸水素ナトリウム水溶液ｌｏｗ／に注い
だ。
８ （Ｃ−６）実施Ｍｌ （式（Ｊ）で表わされる化
合物の合成）ピペリジノサルファートリフルオライド３
７ｐｉ （０，３’１２ｍｒｎｏ１）、ビリジｙ ３０
ｐｌ （０，３７２ｍｍｏｌ）および塩化メチレン１
ｍの混合物に一７８℃で上記参考例で得られた最終生成
物１３４ｇＡＩ（０，１８６ｍｍｏｌ）の塩化メチレン
（ｌ ｄ ）溶液を滴下した。５分後、あらかじめ−７
８℃に冷却したエチルエーテル１０ｄｉ加えて希釈し、
氷冷した飽和炭酸水素ナトリウム水溶液ｌｏｗ／に注い
だ。
水層をエーテル（５ｄ）で２回抽出し、エーテル層を氷
冷した１規定塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、お
よび飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥後、減圧下で濃縮した。残渣ｉカラムクロマトグラ
フィー（ヘキサン／酢酸エチル＝９１）／り）により精
製し、Ｒ６−ジヒドロ−ツーフルオロ−ＰＧＦ！、メチ
ルエステル １１．１５−ビス（ジメチル−ｔ−ブチル
）シリル ９−トリエチルシリルエーテル（式〔Ｄにお
いて Ｒ１がメチル基、Ｒがトリエチルシリル基 Ｒ１
およびＲ４がジメチル−ｔ−ブチルシリル基、Ｒがｎ−
アミル基である化合物）８２ ｓｙ （収率６１％）ｔ
−無色の液体として得た。
冷した１規定塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、お
よび飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥後、減圧下で濃縮した。残渣ｉカラムクロマトグラ
フィー（ヘキサン／酢酸エチル＝９１）／り）により精
製し、Ｒ６−ジヒドロ−ツーフルオロ−ＰＧＦ！、メチ
ルエステル １１．１５−ビス（ジメチル−ｔ−ブチル
）シリル ９−トリエチルシリルエーテル（式〔Ｄにお
いて Ｒ１がメチル基、Ｒがトリエチルシリル基 Ｒ１
およびＲ４がジメチル−ｔ−ブチルシリル基、Ｒがｎ−
アミル基である化合物）８２ ｓｙ （収率６１％）ｔ
−無色の液体として得た。
”Ｈ−ＨＭＲ（ＣＤＣユＲ＊ ＴＭ’ｅ ’Ｐｐｍ
）： δ ５，１７（１１１，ｔｌ、Ｊ＝４８，１０
Ｈｇ、ＣＨＩ’ ）”Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、、ＴＭ８
．ｐｐｍ）； δ５１．４（Ｃ−７，ｄ、 、Ｔ＝
４８Ｈ２） 実施例２ （式（１）の化合物） 実施例１で得られたフッ素化物７２町（０，１０ｍ ｍ
ｏｌ ） ｔｌ） ＴＨＦ溶液（０，５ｍ／）に０℃で
テトラブチルアンモニウムフルオリドの１モルＴＨＦ溶
液０．５ ｔｓｌ （０，５１ｎ ｍｏｘ） ｔ−滴下
し、同条件下テ２時間攪拌した。次に、氷水（３ｍｌ）
’（Ｈ加え、さらに５０％食塩水（３ＷＬｌりｖｆ−加
え、生成物をエチルエーテル：酢酸エチル（］：］）３
ｍで１０回抽出した。有機ｉを飽和食塩水で洗浄し、無
水硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮してほぼ純粋の５，
６−ジヒドロ−ツーフルオロ−ＰＣ）ＩＩ’２αメチル
エステル（式〔０においてＲ１がメチル基、Ｒ２，Ｒａ
およびＲ４が水素原子、Ｒ８がｎ−アミル基である化合
物）が定量的に得られた。
）： δ ５，１７（１１１，ｔｌ、Ｊ＝４８，１０
Ｈｇ、ＣＨＩ’ ）”Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、、ＴＭ８
．ｐｐｍ）； δ５１．４（Ｃ−７，ｄ、 、Ｔ＝
４８Ｈ２） 実施例２ （式（１）の化合物） 実施例１で得られたフッ素化物７２町（０，１０ｍ ｍ
ｏｌ ） ｔｌ） ＴＨＦ溶液（０，５ｍ／）に０℃で
テトラブチルアンモニウムフルオリドの１モルＴＨＦ溶
液０．５ ｔｓｌ （０，５１ｎ ｍｏｘ） ｔ−滴下
し、同条件下テ２時間攪拌した。次に、氷水（３ｍｌ）
’（Ｈ加え、さらに５０％食塩水（３ＷＬｌりｖｆ−加
え、生成物をエチルエーテル：酢酸エチル（］：］）３
ｍで１０回抽出した。有機ｉを飽和食塩水で洗浄し、無
水硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮してほぼ純粋の５，
６−ジヒドロ−ツーフルオロ−ＰＣ）ＩＩ’２αメチル
エステル（式〔０においてＲ１がメチル基、Ｒ２，Ｒａ
およびＲ４が水素原子、Ｒ８がｎ−アミル基である化合
物）が定量的に得られた。
” Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ Ｃｌ ｇ、 、 Ｔ Ｍ ８
、 ｐ ｐ Ｅｌｌ ） ：δ５．２０（Ｉ Ｈｒ
ｔ ＆ ＋ Ｊ ＝４８ ＋ １０ Ｈｚ ＋
Ｃ旦Ｆ）実施例３ （式（５）で表わされる化合物の製
造）実施例２で得られたフッ素含有トリオール３８１ｑ
ｌ （０，１０ｍ ｍｏｌ ）のＴＨＦ溶液（１−）に
、−７８℃でトリフルオ日酢酸水銀４７９（０，１１１
１１ｍ０１）のＴＨＦ溶液（ｏ、５ｄ）ｒ滴下した。同
条件で５分攪拌後トリエチルアミン２８μｌ（０，２０
ｍ ｍｏｌ ） ｔ−滴下し、続いて水素化ホウ素ナト
リウム３８Ｗｑ） （１，Ｏｍｍｏｌ）、水酸化ナトリ
ウム４町（０，１０ｍｍｏｌ ）、およびメタノール１
−の混合物を同一条件下で滴下し友。−７８℃で１時間
攪拌しエチルエーテルで希釈後、セライ）を通してｒ過
した。ｒ液を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥後減圧濃縮した。生成物をカラムクロマトグラ
フィー（フロリジル、１％のトリエチルアミンを含むヘ
キサン−酢酸エチル（ｔ：Ｘ））で生成し、純粋な７−
フルオロＰＧ工、メチルエステル（式（６）において
Ｒ１１がｎ−アミル基、ＲＩＯがメチル基、Ｈｌｉおよ
びＲ１２が水素原子である化合物）３１町（収率８２％
）を得た。
、 ｐ ｐ Ｅｌｌ ） ：δ５．２０（Ｉ Ｈｒ
ｔ ＆ ＋ Ｊ ＝４８ ＋ １０ Ｈｚ ＋
Ｃ旦Ｆ）実施例３ （式（５）で表わされる化合物の製
造）実施例２で得られたフッ素含有トリオール３８１ｑ
ｌ （０，１０ｍ ｍｏｌ ）のＴＨＦ溶液（１−）に
、−７８℃でトリフルオ日酢酸水銀４７９（０，１１１
１１ｍ０１）のＴＨＦ溶液（ｏ、５ｄ）ｒ滴下した。同
条件で５分攪拌後トリエチルアミン２８μｌ（０，２０
ｍ ｍｏｌ ） ｔ−滴下し、続いて水素化ホウ素ナト
リウム３８Ｗｑ） （１，Ｏｍｍｏｌ）、水酸化ナトリ
ウム４町（０，１０ｍｍｏｌ ）、およびメタノール１
−の混合物を同一条件下で滴下し友。−７８℃で１時間
攪拌しエチルエーテルで希釈後、セライ）を通してｒ過
した。ｒ液を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥後減圧濃縮した。生成物をカラムクロマトグラ
フィー（フロリジル、１％のトリエチルアミンを含むヘ
キサン−酢酸エチル（ｔ：Ｘ））で生成し、純粋な７−
フルオロＰＧ工、メチルエステル（式（６）において
Ｒ１１がｎ−アミル基、ＲＩＯがメチル基、Ｈｌｉおよ
びＲ１２が水素原子である化合物）３１町（収率８２％
）を得た。
’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、、ｐｐｍ ）： δ４．７
７（ＩＨ，ｔ、Ｊ＝ｙＨ２，ｃ旦＝＝Ｃ（Ｃ−５））４
、ｇ３ （ＩＨ，ｂｄ、Ｊ＝５Ｈ２，ＣＨＦ ）−Ｊ
入続有ｎＮ−、Ｅ相： 昭和５８年３月ムムロ 特許庁長官 若杉和夫殿 １、事件の表示 昭和５８年特許願第２１９９５号 ２、発明の名称 プロスタグランジン類およびその製造方法３、補ｉＥを
する者 事件との関係 特許出願人 住所 東京都千代１ｎ区丸の内二丁目１番２号氏名
（００４）旭硝子株式会社 ４、代理人 〒１０５ 住所 東京都港区虎ノ門−丁目１６番２号虎、ノ門丁
・代［１１ビル ６、補正により増力１１オる発明の数 なし７、補
正の対象 明細書ニド特許請求の範囲Ｊおよび「発
明の詳細な説明、（の欄 ８、補正の内容 （１） 明細書第１頁〜第４頁の特許請求の範囲を別
紙の通シ補正する。
７（ＩＨ，ｔ、Ｊ＝ｙＨ２，ｃ旦＝＝Ｃ（Ｃ−５））４
、ｇ３ （ＩＨ，ｂｄ、Ｊ＝５Ｈ２，ＣＨＦ ）−Ｊ
入続有ｎＮ−、Ｅ相： 昭和５８年３月ムムロ 特許庁長官 若杉和夫殿 １、事件の表示 昭和５８年特許願第２１９９５号 ２、発明の名称 プロスタグランジン類およびその製造方法３、補ｉＥを
する者 事件との関係 特許出願人 住所 東京都千代１ｎ区丸の内二丁目１番２号氏名
（００４）旭硝子株式会社 ４、代理人 〒１０５ 住所 東京都港区虎ノ門−丁目１６番２号虎、ノ門丁
・代［１１ビル ６、補正により増力１１オる発明の数 なし７、補
正の対象 明細書ニド特許請求の範囲Ｊおよび「発
明の詳細な説明、（の欄 ８、補正の内容 （１） 明細書第１頁〜第４頁の特許請求の範囲を別
紙の通シ補正する。
（２） 明細書第８貞第５行目〜第６行目「Ｒｉは・
・・・・・アルキル基、」を以下の通シ補正する。
・・・・・アルキル基、」を以下の通シ補正する。
「Ｒ１は炭素数３〜７の直鎖あるいは分岐のアルキル基
、または炭素数３〜７の脂環を有する炭化水素残基、」
（３）明細書第９頁第４行目「Ｒｓは・・・・・・・・
・アルキル基」を［ＲＩは上記式ＣＨＦ中のＨ％に同じ
」に補正する。
、または炭素数３〜７の脂環を有する炭化水素残基、」
（３）明細書第９頁第４行目「Ｒｓは・・・・・・・・
・アルキル基」を［ＲＩは上記式ＣＨＦ中のＨ％に同じ
」に補正する。
（４）明細書第１０頁第１１行目〜第１３行目「Ｒｓと
して・由・・・・・好ましい。」を以下の通り補正する
。
して・由・・・・・好ましい。」を以下の通り補正する
。
「ＨＩとしては、分岐アルキル基や脂環を有するアルキ
ル基であってもよいが、好ましくは直鎖アルキル基ある
いは脂環基である。脂環基は不飽和結合を有していても
よいが、好ましくは飽和の脂環基である。特に好ましい
ＲＩはｎ−アミル基とシクロペンチル基である。」 （５）明細書第１１頁第１５行目と１６行目の間に次の
文を挿入するＯ ［ｇ 、 ５．６−ジヒドロ−ツーフルオロ−１５−シ
クロペンチル−ＰＧＦ１＊。
ル基であってもよいが、好ましくは直鎖アルキル基ある
いは脂環基である。脂環基は不飽和結合を有していても
よいが、好ましくは飽和の脂環基である。特に好ましい
ＲＩはｎ−アミル基とシクロペンチル基である。」 （５）明細書第１１頁第１５行目と１６行目の間に次の
文を挿入するＯ ［ｇ 、 ５．６−ジヒドロ−ツーフルオロ−１５−シ
クロペンチル−ＰＧＦ１＊。
ｈ 、５．６−ジヒドロ−ツーフルオロ−１５−シクロ
ペンチル−ＰＧＦｘ。
ペンチル−ＰＧＦｘ。
メチルエステル。
ｉ 、 ５．６−ジヒドロ−ツーフルオロ−１５−シフ
ロベンチルーＰＧＦ、αメチルエステル１１．１５−ビ
ス（ジメチル−１−ブチル）シリルエーテル ｊ 、 ５．６−ジヒドロ−ツーフルオロ−１５−シク
ロペンチル−ＦＧＦ、αメチルエステル１１．１５−ビ
ス（ジメチル−ｔ−７’チル）シリル−・９−トリエチ
ルシリルエーテ”ｏ Ｊ （６）明細書第１４貢第１０行目［Ｒ１，およびＲ４Ｊ
を削除する。
ロベンチルーＰＧＦ、αメチルエステル１１．１５−ビ
ス（ジメチル−１−ブチル）シリルエーテル ｊ 、 ５．６−ジヒドロ−ツーフルオロ−１５−シク
ロペンチル−ＦＧＦ、αメチルエステル１１．１５−ビ
ス（ジメチル−ｔ−７’チル）シリル−・９−トリエチ
ルシリルエーテ”ｏ Ｊ （６）明細書第１４貢第１０行目［Ｒ１，およびＲ４Ｊ
を削除する。
（７）明細書第２４頁第３行目以下に次の実施例を追加
する。
する。
［実施例４〔弐〇〕で表わされる化合物の製造）５．６
−ゾヒドロー７−ヒド西キシー１５−シクロペ／チル−
ＰＧＦ、、メチルエステル１１．１５−ビス（ジメチル
−を−ブチル）シリル９−）！Ｊエチルシリルエーテル
（式ＣＩ ）ＫおいテＲ’カシクロペンチル基、Ｒ・が
メチル基 Ｒ？がトリエチルシリル基 Ｈ＆およびＲ９
かジメチル−ｔ−ブチルシリル基である化合物）を参考
例と同様の方法で合成した。
−ゾヒドロー７−ヒド西キシー１５−シクロペ／チル−
ＰＧＦ、、メチルエステル１１．１５−ビス（ジメチル
−を−ブチル）シリル９−）！Ｊエチルシリルエーテル
（式ＣＩ ）ＫおいテＲ’カシクロペンチル基、Ｒ・が
メチル基 Ｒ？がトリエチルシリル基 Ｈ＆およびＲ９
かジメチル−ｔ−ブチルシリル基である化合物）を参考
例と同様の方法で合成した。
この化合物１４０■（０，１９４ｍｍｏｌ）を使用し実
施例１と同ＬＪ法で５．６−ジヒドロ−ツーフルオロ−
１５−シクロペンチル−ＰＧＦ２（１メチルエステル１
１．１５−ビス（ジメチル−ｔ −ブチル）シリル９−
トリエチルシリルエーテル（ＣＩ）において Ｒ１がメ
チル基、Ｒ１がトリエチルシリル基 Ｒ８およびＲ４が
ジメチル−ｔ−ブチルシリル基、Ｒｓがシクロペンチル
基である化合物）７９■（収率５６％）ｅ無色の液体と
して得た。
施例１と同ＬＪ法で５．６−ジヒドロ−ツーフルオロ−
１５−シクロペンチル−ＰＧＦ２（１メチルエステル１
１．１５−ビス（ジメチル−ｔ −ブチル）シリル９−
トリエチルシリルエーテル（ＣＩ）において Ｒ１がメ
チル基、Ｒ１がトリエチルシリル基 Ｒ８およびＲ４が
ジメチル−ｔ−ブチルシリル基、Ｒｓがシクロペンチル
基である化合物）７９■（収率５６％）ｅ無色の液体と
して得た。
”Ｈ−ＮＭＲ（Ｃ！Ｄｃ１３．ＴＭＳ 、ｐｐｍ）：δ
５．１７（ＩＨ，ｔａ、Ｊ＝５０ ＋ １０Ｈｚ ＋
ＯＨＦ ） 実施例５（式ＣＩ）で表わされる化合物）実施例４で得
られた化合物６１ ′ｒｎｇ（０，０８５ｍｍｏｌ）の
ＴＨＦ溶液（０，５ｍ１）に０℃でデトジブチルアンモ
ニウムフルオリドの０．１モルＴＨＦ溶液１ ｍｌ （
０，１ｍｍｏｌ ）とトリエチルアミン１４μｌ （０
，１ｍｍｏｌ）を加えた。薄層クロマトグラフィーで原
料の消失を確認しｔ後、揮発生物式を減圧除去し、飽和
硫酸アンモニウム水溶液（ｓｙｇ）と酢酸エチル（５１
）を加え、次いで水層を酢酸エチルで２回抽出し、有機
層を合−後、乾燥、濃縮全行いカラムクロマトグラフィ
ーテＭｉＪＬ、５．６−テヒドロー７−フルオロー１５
−シクロヘキシル−Ｐ Ｇ Ｆ２ａ）ｆルエステル１１
．１５−ビス（ジメチル−１−ブチル）７リルエーテル
を収率８７チで刊た。
５．１７（ＩＨ，ｔａ、Ｊ＝５０ ＋ １０Ｈｚ ＋
ＯＨＦ ） 実施例５（式ＣＩ）で表わされる化合物）実施例４で得
られた化合物６１ ′ｒｎｇ（０，０８５ｍｍｏｌ）の
ＴＨＦ溶液（０，５ｍ１）に０℃でデトジブチルアンモ
ニウムフルオリドの０．１モルＴＨＦ溶液１ ｍｌ （
０，１ｍｍｏｌ ）とトリエチルアミン１４μｌ （０
，１ｍｍｏｌ）を加えた。薄層クロマトグラフィーで原
料の消失を確認しｔ後、揮発生物式を減圧除去し、飽和
硫酸アンモニウム水溶液（ｓｙｇ）と酢酸エチル（５１
）を加え、次いで水層を酢酸エチルで２回抽出し、有機
層を合−後、乾燥、濃縮全行いカラムクロマトグラフィ
ーテＭｉＪＬ、５．６−テヒドロー７−フルオロー１５
−シクロヘキシル−Ｐ Ｇ Ｆ２ａ）ｆルエステル１１
．１５−ビス（ジメチル−１−ブチル）７リルエーテル
を収率８７チで刊た。
実施例６（式（ＩＩＩ）で表わされる化合物の製造）実
施例５で得られた化合物を使用し、実施例３の方法で環
化反応を行って７−フルオロ−１５−シクロヘキシルＰ
Ｇ工２メチルエステル１１．１５−ビス（ジメチル−ｔ
−７’チル）シリルエーテルを製造した。カラムクロマ
トグラフィー、による精製後の収率は７４チであった。
施例５で得られた化合物を使用し、実施例３の方法で環
化反応を行って７−フルオロ−１５−シクロヘキシルＰ
Ｇ工２メチルエステル１１．１５−ビス（ジメチル−ｔ
−７’チル）シリルエーテルを製造した。カラムクロマ
トグラフィー、による精製後の収率は７４チであった。
’ Ｈ−ＮＭＲ（ＯＤＯ１３、ｐｐｍ） ：δ４．７６
（ＩＨ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ。
（ＩＨ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ。
０Ｈ＝Ｏｏｎ Ｃ−５）
δ４．９３（ＩＨ，ｂｄ、Ｊ＝５６Ｈｚ。
ｃｕｐ）
」
以 上
別紙
［２、特許請求の範囲
１、下記式ＣＤで表わされる７−フルオープロスタグラ
ンジン類。
ンジン類。
ＯＲ” ？
２、下記式（Ｉｆ）で表わされるグロスタグランジン類
をフッ素化し、所望により脱保護および／または加水分
解することを特徴とする下記式ＣＩ）で表わされる７−
フルオロプロスタグランジン類の製造方法。
をフッ素化し、所望により脱保護および／または加水分
解することを特徴とする下記式ＣＩ）で表わされる７−
フルオロプロスタグランジン類の製造方法。
０１’ｔ’
３、 下記式〔■〕 で表わされる７−フルオログロス
タグランジン類を使用することを特徴とする環化反応金
紗て下記■〕で表わされる７−フルオロゲロスタグラン
ジンエ２類またはＲＩＯが水素原子であるときはその非
毒性塩を製造する方法。
タグランジン類を使用することを特徴とする環化反応金
紗て下記■〕で表わされる７−フルオロゲロスタグラン
ジンエ２類またはＲＩＯが水素原子であるときはその非
毒性塩を製造する方法。
０ Ｒ＋ ２
手続補正書
昭和５８年１１月２日
特許庁長官 若杉和夫殿
１、事件の表示
昭和５８年特許願第２１９９５号
２、発明の名称
プロスタグランジン類およびその製造方法３、補正をす
る者 事件との関係 特許出願人 住 所 東京都千代田区丸の内皿丁目１番２号名称
（００４）旭硝子株式会社 ４、代理人 ６、補正により増加する発明の数 なし？、補正
の対象 明細書「発明の詳細な説明」の項８、補正
の内容 （１）明細書第２４頁第３行目のｒＪ＝５ＨｚＪをｒＪ
＝ ５６ＨｚＪに補正する。
る者 事件との関係 特許出願人 住 所 東京都千代田区丸の内皿丁目１番２号名称
（００４）旭硝子株式会社 ４、代理人 ６、補正により増加する発明の数 なし？、補正
の対象 明細書「発明の詳細な説明」の項８、補正
の内容 （１）明細書第２４頁第３行目のｒＪ＝５ＨｚＪをｒＪ
＝ ５６ＨｚＪに補正する。
以上
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、下記式〔０で表わされる７−フルオロプロス２、下
記代印で表わされるグロスタグランジン類をフッ素化し
、所望によシ脱保護および／または加水分解することを
特徴とする下記式ＣＩ）で表わされる７−フルオログロ
スタグランジン類の鰐遣方法。 １°０．８．Ｒ’ λ 下記式〔０で表わされる７−フルオロプロスタグラ
ンジン類を使用することを特徴とする環化反応を軽て下
記ｌで表わされる７−フルオロプロスタグランジン類２
類ま九はＲＩＯが水素原子であるときはその非毒性塩を
製造する方法。 ルＲ４ （）Ｒ１！
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58021995A JPS59148761A (ja) | 1983-02-15 | 1983-02-15 | プロスタグランジン類およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58021995A JPS59148761A (ja) | 1983-02-15 | 1983-02-15 | プロスタグランジン類およびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59148761A true JPS59148761A (ja) | 1984-08-25 |
| JPH0342265B2 JPH0342265B2 (ja) | 1991-06-26 |
Family
ID=12070601
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58021995A Granted JPS59148761A (ja) | 1983-02-15 | 1983-02-15 | プロスタグランジン類およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59148761A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5165806B1 (ja) * | 2012-06-29 | 2013-03-21 | 株式会社関プレス | 金属部品の製造方法及び該製造法によって得られる金属部品 |
-
1983
- 1983-02-15 JP JP58021995A patent/JPS59148761A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5165806B1 (ja) * | 2012-06-29 | 2013-03-21 | 株式会社関プレス | 金属部品の製造方法及び該製造法によって得られる金属部品 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0342265B2 (ja) | 1991-06-26 |
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