JPS59149630U - ウエハ処理電極 - Google Patents

ウエハ処理電極

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Publication number
JPS59149630U
JPS59149630U JP4196583U JP4196583U JPS59149630U JP S59149630 U JPS59149630 U JP S59149630U JP 4196583 U JP4196583 U JP 4196583U JP 4196583 U JP4196583 U JP 4196583U JP S59149630 U JPS59149630 U JP S59149630U
Authority
JP
Japan
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wafer processing
processing electrode
electrode
coolant
wafer
Prior art date
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Pending
Application number
JP4196583U
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English (en)
Inventor
山本 則明
行正 亨
恒彦 坪根
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP4196583U priority Critical patent/JPS59149630U/ja
Publication of JPS59149630U publication Critical patent/JPS59149630U/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は、従来のウェハ処理電極の縦断面図、第2図は
、本考案によるウェハ処理電極の一実施例を示す縦断面
図である。 10・・・ウェハ処理電極、12・・・流通空間、13
・・・回転体、14・・・供給路、15・・・排出路。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. ドライエツチング装置の処理室に内設され、ウェハが載
    置されると共に冷媒により冷却される電極において、前
    記電極に前記冷媒の流通空間を形成すると共に、該流通
    空間に冷媒の流通力で回転力を付与される回転体を回転
    可能に内設したことを特徴とするウェハ処理電極。
JP4196583U 1983-03-25 1983-03-25 ウエハ処理電極 Pending JPS59149630U (ja)

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JP4196583U JPS59149630U (ja) 1983-03-25 1983-03-25 ウエハ処理電極

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JP4196583U JPS59149630U (ja) 1983-03-25 1983-03-25 ウエハ処理電極

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS59149630U true JPS59149630U (ja) 1984-10-06

Family

ID=30172527

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4196583U Pending JPS59149630U (ja) 1983-03-25 1983-03-25 ウエハ処理電極

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Country Link
JP (1) JPS59149630U (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6346840U (ja) * 1986-09-10 1988-03-30

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6346840U (ja) * 1986-09-10 1988-03-30

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