JPS5952627U - ドライエツチング装置 - Google Patents
ドライエツチング装置Info
- Publication number
- JPS5952627U JPS5952627U JP1982147423U JP14742382U JPS5952627U JP S5952627 U JPS5952627 U JP S5952627U JP 1982147423 U JP1982147423 U JP 1982147423U JP 14742382 U JP14742382 U JP 14742382U JP S5952627 U JPS5952627 U JP S5952627U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- dry etching
- etching equipment
- etching gas
- cooling
- processing chamber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第1図は従来のドライエツチング装置の概要図、第2図
は本考案にか)るドライエツチング装置の概要図、第3
図は同じく本考案にかさるガス冷却の部分断面図である
。図中、1は反応処理室、2は半導体ウェハー、10は
冷却水循環用外套管、13はトラップ、14は保温器を
示す。
は本考案にか)るドライエツチング装置の概要図、第3
図は同じく本考案にかさるガス冷却の部分断面図である
。図中、1は反応処理室、2は半導体ウェハー、10は
冷却水循環用外套管、13はトラップ、14は保温器を
示す。
Claims (1)
- 反応処理室へ導入するエツチングガスを冷却するための
エツチングガス冷却構造を有することを特徴とするドラ
イエツチング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1982147423U JPS5952627U (ja) | 1982-09-28 | 1982-09-28 | ドライエツチング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1982147423U JPS5952627U (ja) | 1982-09-28 | 1982-09-28 | ドライエツチング装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5952627U true JPS5952627U (ja) | 1984-04-06 |
Family
ID=30327839
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1982147423U Pending JPS5952627U (ja) | 1982-09-28 | 1982-09-28 | ドライエツチング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5952627U (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS558593A (en) * | 1978-07-03 | 1980-01-22 | American Water Services | Apparatus for cleaning pipe of heat exchanger |
-
1982
- 1982-09-28 JP JP1982147423U patent/JPS5952627U/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS558593A (en) * | 1978-07-03 | 1980-01-22 | American Water Services | Apparatus for cleaning pipe of heat exchanger |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS5952627U (ja) | ドライエツチング装置 | |
| JPS58418U (ja) | 半導体熱処理装置 | |
| JPS62166626U (ja) | ||
| JPS62152434U (ja) | ||
| JPS58162634U (ja) | 半導体製造装置 | |
| JPS6054327U (ja) | 半導体製造装置 | |
| JPS59149630U (ja) | ウエハ処理電極 | |
| JPS5995625U (ja) | 半導体製造装置 | |
| JPS60136136U (ja) | 半導体製造装置 | |
| JPS5931239U (ja) | 半導体製造装置 | |
| JPS5926238U (ja) | Cvd装置 | |
| JPS5995626U (ja) | 半導体製造装置 | |
| JPS58174201U (ja) | 蒸溜装置 | |
| JPS6092826U (ja) | 熱処理炉 | |
| JPS6142831U (ja) | 半導体製造装置 | |
| JPS617030U (ja) | 半導体製造装置 | |
| JPS6130235U (ja) | プラズマエツチング装置 | |
| JPS5844834U (ja) | 半導体製造装置 | |
| JPS614426U (ja) | 半導体物品の縦型熱処理装置の上蓋構造 | |
| JPS59103436U (ja) | 半導体ウエハ用ボ−ト | |
| JPS58175629U (ja) | 半導体製造装置 | |
| JPS59187152U (ja) | 半導体装置の冷却装置 | |
| JPS6013970U (ja) | 気相成長装置 | |
| JPS58158442U (ja) | 熱処理炉 | |
| JPS5965498U (ja) | 高周波加熱装置 |