JPS59154342A - 規則性パタ−ンの欠陥検査装置 - Google Patents
規則性パタ−ンの欠陥検査装置Info
- Publication number
- JPS59154342A JPS59154342A JP2905883A JP2905883A JPS59154342A JP S59154342 A JPS59154342 A JP S59154342A JP 2905883 A JP2905883 A JP 2905883A JP 2905883 A JP2905883 A JP 2905883A JP S59154342 A JPS59154342 A JP S59154342A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- signal
- parallel light
- sensor
- inspected
- defect
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
- G01N21/956—Inspecting patterns on the surface of objects
- G01N21/95623—Inspecting patterns on the surface of objects using a spatial filtering method
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は規則性パター/における欠陥を検査する装置に
係り、特にその感度分布を補正する装置に関する。
係り、特にその感度分布を補正する装置に関する。
各種メタルフィルタ、工Cマスク等で代表される却5則
性をもったパターン中の欠陥を検出する方法として、微
小光ビームでλ次元画像を走査し得られた出力信号を電
子計算機で処理するものがある。しかし、この方法は処
理の複+((さ、処理時間の長さ、高価という問題点が
ある。
性をもったパターン中の欠陥を検出する方法として、微
小光ビームでλ次元画像を走査し得られた出力信号を電
子計算機で処理するものがある。しかし、この方法は処
理の複+((さ、処理時間の長さ、高価という問題点が
ある。
そこで、これに代るものとして、光の回折親、象を利用
して当該欠陥の検出を行つレー→r光回折・ξターン空
間周波数フィルタリング方式(以]:空間フィルタリン
グ方式という)が開発され実用化されている。これは2
次元画像の空間的並列処理が簡即でしかも安価な光学系
でできる上に高速であるという特徴があるため、規則性
2次元ノξターンを持つ工業製品の欠陥検査には好適で
ある。すなわち、この方式は、レーザ光をコリメータレ
ンズを介して平行光とし被検査対象に当て、その透過光
ヲフーリエ変換レンズ、空間フィルタおよび逆フーリエ
変換レンズを通してディテクタに再録るものである。そ
して、被検査対象の全面走査を行うことによりディテク
タにより欠陥部分だけの像が得られろ。
して当該欠陥の検出を行つレー→r光回折・ξターン空
間周波数フィルタリング方式(以]:空間フィルタリン
グ方式という)が開発され実用化されている。これは2
次元画像の空間的並列処理が簡即でしかも安価な光学系
でできる上に高速であるという特徴があるため、規則性
2次元ノξターンを持つ工業製品の欠陥検査には好適で
ある。すなわち、この方式は、レーザ光をコリメータレ
ンズを介して平行光とし被検査対象に当て、その透過光
ヲフーリエ変換レンズ、空間フィルタおよび逆フーリエ
変換レンズを通してディテクタに再録るものである。そ
して、被検査対象の全面走査を行うことによりディテク
タにより欠陥部分だけの像が得られろ。
ここにおいて、この欠陥検査装置の光学系中に検査誤差
に結び付くような不具合があることがある。例えば、レ
ーザとレンズの光軸ずれ、レーザの出力変動等である。
に結び付くような不具合があることがある。例えば、レ
ーザとレンズの光軸ずれ、レーザの出力変動等である。
しか(7ながら、従来これら不具合についての対策は(
Fi、lら講じられていなかったため、これらの誤差原
因を除去するための注意を充分に払う必要があり、しか
も一方で検査精度に関する問題か残っている。
Fi、lら講じられていなかったため、これらの誤差原
因を除去するための注意を充分に払う必要があり、しか
も一方で検査精度に関する問題か残っている。
本発明は上述の点に鑑みてなされたもので、検査動作を
所定性行う毎に平行光の各部光量を測定して測定値に基
く感度設定信号を形成しディテクタもしくはその出力信
号処理部に与えることにより精度分布を補正して検査精
度の高い・ξターン欠陥検査装置を提供するものである
。
所定性行う毎に平行光の各部光量を測定して測定値に基
く感度設定信号を形成しディテクタもしくはその出力信
号処理部に与えることにより精度分布を補正して検査精
度の高い・ξターン欠陥検査装置を提供するものである
。
以下添付図面を参照して本発明の一実施例を説明する。
第1図(a) 、 (b)は本発明による輝度分布の補
止を行うため、平行光の輝度分布を測定する測定部の+
14成例を示したもので、/はレーザ光源1.2はレー
ザ光でありコリメータレンズ3を経ることにより平行光
ケとなって被検査対象、SK力えられる。
止を行うため、平行光の輝度分布を測定する測定部の+
14成例を示したもので、/はレーザ光源1.2はレー
ザ光でありコリメータレンズ3を経ることにより平行光
ケとなって被検査対象、SK力えられる。
被検査対象Sの取付は治具にあげる被検査対象の側部に
は光センサアレイ乙には被検査対象Sの赤査に関連して
平行光が力えられる。図の場合は、被検査対象の最T辺
部を左右方向に走査するときに被検査z1象Sの右端よ
り右側外ではみ出すようニ走有スれば光センサアレイ乙
に平行光を照射することができる。ここで、光センサア
レイ乙と平行光りとけ同図(1,)に示すように、平行
光ケの垂直方向の直径に重なる位的、に光センサアレイ
乙があるとき、光中ンザアレイ6の各十ンyに光が照射
され輝度分布を測定し得る訳である。
は光センサアレイ乙には被検査対象Sの赤査に関連して
平行光が力えられる。図の場合は、被検査対象の最T辺
部を左右方向に走査するときに被検査z1象Sの右端よ
り右側外ではみ出すようニ走有スれば光センサアレイ乙
に平行光を照射することができる。ここで、光センサア
レイ乙と平行光りとけ同図(1,)に示すように、平行
光ケの垂直方向の直径に重なる位的、に光センサアレイ
乙があるとき、光中ンザアレイ6の各十ンyに光が照射
され輝度分布を測定し得る訳である。
第一回は本発明に係る感度補正装@を絹込んたパターン
欠陥検査装置の回路構成を示したもので、第1図と同一
符号は同一要素を示している。そして、7は被検査対象
、夕を経た平行光をフーリエ変換するフーリエ変換レン
ズであり、この変換が行われた光は空間フィルタgを経
て欠陥部分だけの光とされ逆フーリエ変換レンズ7の後
焦点面上KIgj、かれたディテクタ開[1アレイ10
により欠陥部分像の検出が行われ、る。このディテクタ
開口アレイ10により検出された光は光ファイ・z//
を介して信号処理部7.2に至り電気信号に変換されて
欠陥信号として出力される。
欠陥検査装置の回路構成を示したもので、第1図と同一
符号は同一要素を示している。そして、7は被検査対象
、夕を経た平行光をフーリエ変換するフーリエ変換レン
ズであり、この変換が行われた光は空間フィルタgを経
て欠陥部分だけの光とされ逆フーリエ変換レンズ7の後
焦点面上KIgj、かれたディテクタ開[1アレイ10
により欠陥部分像の検出が行われ、る。このディテクタ
開口アレイ10により検出された光は光ファイ・z//
を介して信号処理部7.2に至り電気信号に変換されて
欠陥信号として出力される。
信号処理部/2は、制御信号発生部/llからのザンプ
ル信号/S1 リセット信号/乙に基き光センサアレイ
乙により取出された輝度分布信号に対応し感度設定信号
発生部/3が出力する感度設定信号により制御される。
ル信号/S1 リセット信号/乙に基き光センサアレイ
乙により取出された輝度分布信号に対応し感度設定信号
発生部/3が出力する感度設定信号により制御される。
第3図は第2図の感度設定信号発生部/Jのより具体的
な構成を示したもので、/JFLは反転増幅器であり、
光センサアレイ乙の光センサから与えられた輝度信号を
極性反転してサンプル回路i、y’oに寿える。サンプ
ル回路/3 bは制御信号発生部/弘からのザンゾル信
号/jに基き、反転増幅器/38から与えられる輝度信
号を抽出してホール+:′回路/3cに与え記憶させる
。ボールド回路/3Cはり士ノド信号/Aが与えられる
まで記憶を続けこの記憶内容を信号処、理部/、2に−
lジえろ。制御信号発4+部i//r、r;)、これら
ザ/プル信号/S、り七ント信号/Aの送出を・2ター
ン欠陥検査装置の検査走査に同期して行い、例えは被検
査対象を1つ検査する直前に新y”cブ:c輝度信号を
取込むようにする。
な構成を示したもので、/JFLは反転増幅器であり、
光センサアレイ乙の光センサから与えられた輝度信号を
極性反転してサンプル回路i、y’oに寿える。サンプ
ル回路/3 bは制御信号発生部/弘からのザンゾル信
号/jに基き、反転増幅器/38から与えられる輝度信
号を抽出してホール+:′回路/3cに与え記憶させる
。ボールド回路/3Cはり士ノド信号/Aが与えられる
まで記憶を続けこの記憶内容を信号処、理部/、2に−
lジえろ。制御信号発4+部i//r、r;)、これら
ザ/プル信号/S、り七ント信号/Aの送出を・2ター
ン欠陥検査装置の検査走査に同期して行い、例えは被検
査対象を1つ検査する直前に新y”cブ:c輝度信号を
取込むようにする。
第1図は第2図の装置におけろ光子ンサアレイ6の紳0
度分布泗1定結果および信号処理部7ノのノ(へ度分布
を示す特性図である。この場合、光センサアレイ乙およ
び信号処理部/)、は共に/グナヤネルで構成され、し
たがって同図上部の輝度分血止1定結果は第7.lrチ
ャネルをピークとする正規分布状になり、これに合わせ
て同IUI下部の感度分布は輝度分布測定結果を補正し
て′sV担な信号レベルが得られるように選べばよい。
度分布泗1定結果および信号処理部7ノのノ(へ度分布
を示す特性図である。この場合、光センサアレイ乙およ
び信号処理部/)、は共に/グナヤネルで構成され、し
たがって同図上部の輝度分血止1定結果は第7.lrチ
ャネルをピークとする正規分布状になり、これに合わせ
て同IUI下部の感度分布は輝度分布測定結果を補正し
て′sV担な信号レベルが得られるように選べばよい。
この下部の特性中、破線で示したものは補正を行わない
場合の欠陥信号レベルを、鎖線は信号処理部/2の各ナ
ヤホル感度分布を、実線は補正後の欠陥信号レベルをそ
れぞれ示している。
場合の欠陥信号レベルを、鎖線は信号処理部/2の各ナ
ヤホル感度分布を、実線は補正後の欠陥信号レベルをそ
れぞれ示している。
本発明は上述のよう1・て、空間フィルタリング方式に
よる。6ターン欠陥検査装置における光学系や輝度分布
を測定して欠陥検出信号のレベル補正を行うようにした
ため、光源のレベル変動とか光学系内の光軸ずれ等があ
ってもこれによる検査誤差を除去することができ、高精
度でパターン欠陥検査を行うことができる。
よる。6ターン欠陥検査装置における光学系や輝度分布
を測定して欠陥検出信号のレベル補正を行うようにした
ため、光源のレベル変動とか光学系内の光軸ずれ等があ
ってもこれによる検査誤差を除去することができ、高精
度でパターン欠陥検査を行うことができる。
第1゛図(a) 、 (b)は空間フィルタリング方式
による・ξターン欠陥検査装置における光学系の輝度分
布測定部の説明図、第2図は本発明に係る感度補正装置
を組込んだ/ぐターン欠陥検査装置の回路構成を示すブ
o 、7り線図、第、7図は第2図の装置における感度
設宇償号発生部のより週休的回路構成を示すブロック線
図、第ケ図は第2図の装置における輝度分布測定結果お
よび感m補正内容を説明するための特性図である。 /・・レーf光源、コ・・・レーfjt、3・コリメー
タ1/ンズ、II・・平行光、S・・被検査対象、乙・
・光センザアレイ、7 フーリエ変換L/ンズ、g 空
間フィルタ、?・・逆フー リエを換レンズ、/θ・・
ディテクタ開[」アレイ、//・光ファイ、S、/、2
信号処理部、/3・・・感度設定信号発タ1コ部、/
l 制御信号発生部。
による・ξターン欠陥検査装置における光学系の輝度分
布測定部の説明図、第2図は本発明に係る感度補正装置
を組込んだ/ぐターン欠陥検査装置の回路構成を示すブ
o 、7り線図、第、7図は第2図の装置における感度
設宇償号発生部のより週休的回路構成を示すブロック線
図、第ケ図は第2図の装置における輝度分布測定結果お
よび感m補正内容を説明するための特性図である。 /・・レーf光源、コ・・・レーfjt、3・コリメー
タ1/ンズ、II・・平行光、S・・被検査対象、乙・
・光センザアレイ、7 フーリエ変換L/ンズ、g 空
間フィルタ、?・・逆フー リエを換レンズ、/θ・・
ディテクタ開[」アレイ、//・光ファイ、S、/、2
信号処理部、/3・・・感度設定信号発タ1コ部、/
l 制御信号発生部。
Claims (1)
- 規則性−次元、9ターンを持つ被検査対象を平行光によ
り走査してフーリエ変換し、空間フィルタにより前記被
検査対象の欠陥部分の像を取出して逆フーリエ変換した
光をデイデクタアレイにより検出して信号処理部に与え
欠陥信号な形成するようKした規則性・ξターンの欠陥
検査装置において、゛前記平行光の輝度分布を測定する
センサと、このセンサの測定値に応じて前記信号処理部
に感度設定信号を与える感度設定信号発生部と、前記検
査装置の検査動作に同期して前記感度設定信号発生部の
設定動作を行う制御信号発生部とをそプ’xえたことを
特徴とする規則性・ξターンの欠陥検査装置・
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2905883A JPS59154342A (ja) | 1983-02-23 | 1983-02-23 | 規則性パタ−ンの欠陥検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2905883A JPS59154342A (ja) | 1983-02-23 | 1983-02-23 | 規則性パタ−ンの欠陥検査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59154342A true JPS59154342A (ja) | 1984-09-03 |
Family
ID=12265761
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2905883A Pending JPS59154342A (ja) | 1983-02-23 | 1983-02-23 | 規則性パタ−ンの欠陥検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59154342A (ja) |
-
1983
- 1983-02-23 JP JP2905883A patent/JPS59154342A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US3614232A (en) | Pattern defect sensing using error free blocking spacial filter | |
| US5436464A (en) | Foreign particle inspecting method and apparatus with correction for pellicle transmittance | |
| JPH05100413A (ja) | 異物検査装置 | |
| JPS6043657B2 (ja) | 物体状態検査方法 | |
| JPS59154342A (ja) | 規則性パタ−ンの欠陥検査装置 | |
| JPH04113260A (ja) | 表面欠陥の検出方法及び装置 | |
| JP2606301B2 (ja) | 光学的パターン検査方法 | |
| JPH04138325A (ja) | アレイ検出器の感度補正装置 | |
| JPH09297091A (ja) | レーザ光強度分布補正装置 | |
| JPH04289409A (ja) | 基板の検査方法 | |
| JPS63122218A (ja) | 微細パタ−ン検査方法 | |
| JP3099451B2 (ja) | 異物検査装置 | |
| JPS6315812Y2 (ja) | ||
| JPH023148Y2 (ja) | ||
| JPH05216211A (ja) | マスクの検査方法および装置 | |
| JPH03154854A (ja) | 細線の微細欠陥検出装置 | |
| JPS6247036B2 (ja) | ||
| JP2818250B2 (ja) | 半導体基板の評価方法およびその評価装置 | |
| JPS61149803A (ja) | 干渉測定装置 | |
| JPH01206203A (ja) | 膜厚不良検査方法 | |
| JPH0320649A (ja) | フォトマスク検査装置 | |
| JPS5961136A (ja) | マスク欠陥検査装置 | |
| JPH11118449A (ja) | 表面形状欠陥検査方法及びそれを用いた表面欠陥検査装置 | |
| JPH0351747A (ja) | パターン検査装置 | |
| JPH0545132B2 (ja) |