JPS59155389A - 7−(イミダゾ−ル−2−イル)アミノ−3−(1h−1,2,3−トリアゾ−ル−4−イル)チオメチルセフ−3−エム−4−カルボン酸の製法 - Google Patents
7−(イミダゾ−ル−2−イル)アミノ−3−(1h−1,2,3−トリアゾ−ル−4−イル)チオメチルセフ−3−エム−4−カルボン酸の製法Info
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- JPS59155389A JPS59155389A JP59014576A JP1457684A JPS59155389A JP S59155389 A JPS59155389 A JP S59155389A JP 59014576 A JP59014576 A JP 59014576A JP 1457684 A JP1457684 A JP 1457684A JP S59155389 A JPS59155389 A JP S59155389A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D501/00—Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
- C07D501/14—Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7
- C07D501/16—Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7 with a double bond between positions 2 and 3
- C07D501/18—7-Aminocephalosporanic or substituted 7-aminocephalosporanic acids
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- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はセファロスポリン誘導体の製法に関する。
ヨーロッパ特許第31708号および第55562号明
細書には、3位に種々の基を有する7−(イミ乙ゾール
ー2−イル)アミノセファロスポリン誘導体が記載され
ている。3位に複累環状チオメチル基を有するこれらの
化合物を製造するためのこれに記載されている方法の1
つは、英国特許第156594’1号明細書に記載の一
般的方法によシ、相当する3−アセトキシメチル誘導体
を溶剤中で三フッ化ホウ素エチテl/−トの存在で適尚
な複素環状チオールと反応させる方法である。しかし、
この方法は必要とされる3−置換基が(LH−1,2,
3−)リアゾール−4−イル)チオメチルである場合、
特に方法の目的物が化合物7−(イミダゾール−2−イ
ル)アミノ−3−(LH’−1,2、3−トリアゾール
−4−イル)チオメチルセフ−3−エムー牛−カルダン
識である場合には、生成物の低い収率を生じる事が判明
した(ヨーロッパ特、fF第31708号明細書、例1
9)。しかしながら、上記化合物は制御された条件内で
一般的方法を実施する事により高い収率で製造しうる事
が見出された。
細書には、3位に種々の基を有する7−(イミ乙ゾール
ー2−イル)アミノセファロスポリン誘導体が記載され
ている。3位に複累環状チオメチル基を有するこれらの
化合物を製造するためのこれに記載されている方法の1
つは、英国特許第156594’1号明細書に記載の一
般的方法によシ、相当する3−アセトキシメチル誘導体
を溶剤中で三フッ化ホウ素エチテl/−トの存在で適尚
な複素環状チオールと反応させる方法である。しかし、
この方法は必要とされる3−置換基が(LH−1,2,
3−)リアゾール−4−イル)チオメチルである場合、
特に方法の目的物が化合物7−(イミダゾール−2−イ
ル)アミノ−3−(LH’−1,2、3−トリアゾール
−4−イル)チオメチルセフ−3−エムー牛−カルダン
識である場合には、生成物の低い収率を生じる事が判明
した(ヨーロッパ特、fF第31708号明細書、例1
9)。しかしながら、上記化合物は制御された条件内で
一般的方法を実施する事により高い収率で製造しうる事
が見出された。
本発明によれば7−(イミダゾール−2−イル)アミノ
−3−(LH−1,2,3−)リア:/” −ルー 4
− イル)チオメチルセフ−3−エム−4−カルゼン酸
、およびその酸付加塩および塩基付加塩の製法が提供さ
れ、これは式■:〔式中R1は置換可能な基である〕で
示される化合物を、トリフルオロ酢酸、トリクロル酢酸
、アセトニトリルまたはスルポランから成るかまたはこ
れらのいずれか2種または3種の混合物から成る稀釈剤
または溶剤中で37ツ化ホウ素またはその錯体の存在で
、牛−メルカプ) −IH−1、2、3−トリアゾール
またはその塩基付加塩と反応させ、その後生成物が遊離
塩基または塩として得られかつそれぞれ塩または有能塩
基が要求される場合妬け、塩と遊離塩基との間の相互転
換を常法で行なう事を特徴とする。
−3−(LH−1,2,3−)リア:/” −ルー 4
− イル)チオメチルセフ−3−エム−4−カルゼン酸
、およびその酸付加塩および塩基付加塩の製法が提供さ
れ、これは式■:〔式中R1は置換可能な基である〕で
示される化合物を、トリフルオロ酢酸、トリクロル酢酸
、アセトニトリルまたはスルポランから成るかまたはこ
れらのいずれか2種または3種の混合物から成る稀釈剤
または溶剤中で37ツ化ホウ素またはその錯体の存在で
、牛−メルカプ) −IH−1、2、3−トリアゾール
またはその塩基付加塩と反応させ、その後生成物が遊離
塩基または塩として得られかつそれぞれ塩または有能塩
基が要求される場合妬け、塩と遊離塩基との間の相互転
換を常法で行なう事を特徴とする。
遊離塩基形では本方法の生成物は一般に双性イオンの形
で存在する。本方法によ、!7製造された生成物の化学
名中および式■中でイミダゾール環またはトリアゾール
域の二重結合は特定の位置に挿入されている事が認めら
れる。しかしながら、これら複素環式残基の他の互変異
性体形も可能であシ、これら他の形のものが本方法、の
範囲中に包含されることは明らかである、特にトリアゾ
ール環中で水素原子は1位、2位または3位の窒素原子
に結合していてもよい。
で存在する。本方法によ、!7製造された生成物の化学
名中および式■中でイミダゾール環またはトリアゾール
域の二重結合は特定の位置に挿入されている事が認めら
れる。しかしながら、これら複素環式残基の他の互変異
性体形も可能であシ、これら他の形のものが本方法、の
範囲中に包含されることは明らかである、特にトリアゾ
ール環中で水素原子は1位、2位または3位の窒素原子
に結合していてもよい。
R1の詳細な例は1〜6Cのアルカノイルオキシ(たと
えばアセトキシ)、塩素、臭素またはヨウ素である。R
の有利なものはアセトキシである。
えばアセトキシ)、塩素、臭素またはヨウ素である。R
の有利なものはアセトキシである。
本発明方法によシ製造されるセファロスポリン誘導体の
詳細な酸付加塩は、たとえば塩化水素酸、臭化水素酸、
リン酸、硫酸、クエン酸またはマレイン酸で形成される
塩である。本発明により製造されるセファロスポリン誘
導体の詳細な塩基付加塩は、たとえばアルカリ金属塩(
たとえばナトリウム塩またはカリウム塩)、アルカリ土
類金属塩(たとえばカルシウム塩またはマグオンラム塩
)または第1、第2または第3有4JΩアミンを有する
塩(たとえばトリエチルアミン、プロヵイン、ジベンジ
ルアミンおよびN 、 N1−ジベンジルエチレンジア
ミンおよびセファロスポリンと塩をつくるのに使用され
た他のアミン)である。
詳細な酸付加塩は、たとえば塩化水素酸、臭化水素酸、
リン酸、硫酸、クエン酸またはマレイン酸で形成される
塩である。本発明により製造されるセファロスポリン誘
導体の詳細な塩基付加塩は、たとえばアルカリ金属塩(
たとえばナトリウム塩またはカリウム塩)、アルカリ土
類金属塩(たとえばカルシウム塩またはマグオンラム塩
)または第1、第2または第3有4JΩアミンを有する
塩(たとえばトリエチルアミン、プロヵイン、ジベンジ
ルアミンおよびN 、 N1−ジベンジルエチレンジア
ミンおよびセファロスポリンと塩をつくるのに使用され
た他のアミン)である。
4−メルカプト−IH−1、、,2,3−1リアゾール
はそのままでも使用しうるが、この形では爆発性を有し
、有利に塩基付加塩1.たとえばナトリウム塩の形で使
用される。遊離チオールは、この塩からその場で遊離さ
せる墨が出来る。
はそのままでも使用しうるが、この形では爆発性を有し
、有利に塩基付加塩1.たとえばナトリウム塩の形で使
用される。遊離チオールは、この塩からその場で遊離さ
せる墨が出来る。
トリア/−ルおよび式■の化合物の等モル量を使用する
のが望まし諭。
のが望まし諭。
三フッ化ホウzh、有利に錯体、たとえばジエチルエー
テル、シーn−71’ロビルエーテルまたはジ−n−ブ
チルエーテルのようなジアルキルエーテルとの錯体、エ
チルアミン、n−プロピルアミン、イソゾロビルアミン
、n−ブチルアミンまたはトリエタノールアミンのよう
なアミンとの錯体、酢酸またはプロピオン酸のような脂
肪酸との錯体、アセトニトリルまたはプロピオニトリル
のようなニトリルとの錯体、ギ酸メチル、ギ酸エチルま
たは酢酸エチルのようなカルゼン酸エステルとの錯体、
フェノールのようなフェノールまたはスルホランとの錯
体の形で使用される。望まし込錯体はスルホランとのも
のである。三フッ化ホウ素は過剰に(たとえば20倍過
剰まで)使用するのが望ましい、望ましい範囲は5〜1
2倍過剰である。
テル、シーn−71’ロビルエーテルまたはジ−n−ブ
チルエーテルのようなジアルキルエーテルとの錯体、エ
チルアミン、n−プロピルアミン、イソゾロビルアミン
、n−ブチルアミンまたはトリエタノールアミンのよう
なアミンとの錯体、酢酸またはプロピオン酸のような脂
肪酸との錯体、アセトニトリルまたはプロピオニトリル
のようなニトリルとの錯体、ギ酸メチル、ギ酸エチルま
たは酢酸エチルのようなカルゼン酸エステルとの錯体、
フェノールのようなフェノールまたはスルホランとの錯
体の形で使用される。望まし込錯体はスルホランとのも
のである。三フッ化ホウ素は過剰に(たとえば20倍過
剰まで)使用するのが望ましい、望ましい範囲は5〜1
2倍過剰である。
方法は一10℃〜60℃の温度範囲、特に−5℃〜40
℃の範囲内、最も望ましくは一5℃〜10℃の範囲内で
実施する事が出来る。
℃の範囲内、最も望ましくは一5℃〜10℃の範囲内で
実施する事が出来る。
本発明方法は本質的には無水条件下に進行するが、反応
の速度は水の存在によシかなシ促進される。水の適量は
式1の化合物の0.3〜5モル当量であり、望ましい量
は1〜2.5モル当量である。
の速度は水の存在によシかなシ促進される。水の適量は
式1の化合物の0.3〜5モル当量であり、望ましい量
は1〜2.5モル当量である。
トリクロロ酢酸またはス・ルホランを只1つの溶剤とし
て使用する場合、これら溶剤の融点(それぞれ57〜5
8℃および27.5℃)のため、操作温度での反応温合
物の移動性および流動性を茗かつ維持するために付加的
な稀釈剤を使用するのが望せしい。適当な稀釈剤は塩化
メチレン、四塩化炭素、クロロホルムまたはりエチルエ
ーテルである。スルホランと使用するだめの望ましい溶
剤は塩化メチレンである。
て使用する場合、これら溶剤の融点(それぞれ57〜5
8℃および27.5℃)のため、操作温度での反応温合
物の移動性および流動性を茗かつ維持するために付加的
な稀釈剤を使用するのが望せしい。適当な稀釈剤は塩化
メチレン、四塩化炭素、クロロホルムまたはりエチルエ
ーテルである。スルホランと使用するだめの望ましい溶
剤は塩化メチレンである。
反応混合物は、常法でたとえば反応混合物を、生成物が
不溶のれ釈剤中へ浸漬し、得られた沈殿物を引続きクロ
マトグラフィーまたは・どれかの他の手段により精製す
る事によって後処理する事が出来る。才だ、反応混合物
を水中に浸漬し、水性混合物を場合によシ水と混合しな
い有機溶剤で抽比し、生成物をカヲムクロ々トゲラフイ
ーにより水溶液から単離する事も出来る。
不溶のれ釈剤中へ浸漬し、得られた沈殿物を引続きクロ
マトグラフィーまたは・どれかの他の手段により精製す
る事によって後処理する事が出来る。才だ、反応混合物
を水中に浸漬し、水性混合物を場合によシ水と混合しな
い有機溶剤で抽比し、生成物をカヲムクロ々トゲラフイ
ーにより水溶液から単離する事も出来る。
本発明を次の実施例によシ詳述するが、これに限定され
るものではない、。記載された収率は限定よシもむしろ
説明的なものと見なすべきである。温度は℃である。n
、 m、γスペクトルは内部標準としてのテトラメチル
シラン(δ−〇)に対しデルタδで記載される。(B−
1重線、d=2足線、t=3重線、m−多重線)次の略
語が使用される: TFA −三フッ化酢酸 エーテル − ジエチルエーテル D !vi F −ジメチルホルムアミドHOA
c −酢酸 DMSO−ジメチルスルホキシド 例I TFA(20づ)中の無水牛−メルカプト−1H−1,
2,3−トリアゾール モノナトリウム塩(31)溶液
に、三フッ化ホウ素ジエチルニーテレ−)(8,0rn
l)を添加した。混合物を室温に冷却し、’rFA (
12,〇−)中の3−アセトキシメチル−7−(イミダ
ゾール−2−イル)アミノセフ−3−エムーカルゲン醒
(ヨーロッパ特許第31708号明細書、例19;2、
Onの溶液を一度に添加した、混合物を室温で2時間か
くはんし、次いでエーテル(800rnl)にかくはん
下に滴加した。遠心分離によシ沈殿物を集め、夜通しK
OI(上で真空中で乾燥して乾燥粉末(7,061)を
得る。水性酢酸ナトリウム(0,1モル;90m/りお
よびDMF (50rn1.)の混合物中のこの粉末の
溶液を、AGl−x2イオン交換樹脂(Biorad
)でのクロマトグラフ〈−によりfl製した。生成物を
稀HOAc水溶液(2v/v%までのHOA c含有)
で溶離して、蒸発および乾燥後に、7−(イミダゾール
−2−イル)アミノ−δ−(’1)(−1,2,3−ト
リアゾール−キーイル)チオメチルセフ−3−エムー牛
−カルボン酸(1,53r)を得たが、これはDMSO
中で次のn、m、r、 (dd)を有する。ニー3.5
(d、IH);δ、8(d、LH);4.0(m、2H
) t 5.1 (d、lH);5.5(dd、LH)
;7.05(S、2H) p 7.2 (m、 LH)
;’y、 9(s−1−H) : 9.’3 (d、
LH)。HPLCによる濃度は90チで、61チの単離
収率が得られる(濃度100チで)。
るものではない、。記載された収率は限定よシもむしろ
説明的なものと見なすべきである。温度は℃である。n
、 m、γスペクトルは内部標準としてのテトラメチル
シラン(δ−〇)に対しデルタδで記載される。(B−
1重線、d=2足線、t=3重線、m−多重線)次の略
語が使用される: TFA −三フッ化酢酸 エーテル − ジエチルエーテル D !vi F −ジメチルホルムアミドHOA
c −酢酸 DMSO−ジメチルスルホキシド 例I TFA(20づ)中の無水牛−メルカプト−1H−1,
2,3−トリアゾール モノナトリウム塩(31)溶液
に、三フッ化ホウ素ジエチルニーテレ−)(8,0rn
l)を添加した。混合物を室温に冷却し、’rFA (
12,〇−)中の3−アセトキシメチル−7−(イミダ
ゾール−2−イル)アミノセフ−3−エムーカルゲン醒
(ヨーロッパ特許第31708号明細書、例19;2、
Onの溶液を一度に添加した、混合物を室温で2時間か
くはんし、次いでエーテル(800rnl)にかくはん
下に滴加した。遠心分離によシ沈殿物を集め、夜通しK
OI(上で真空中で乾燥して乾燥粉末(7,061)を
得る。水性酢酸ナトリウム(0,1モル;90m/りお
よびDMF (50rn1.)の混合物中のこの粉末の
溶液を、AGl−x2イオン交換樹脂(Biorad
)でのクロマトグラフ〈−によりfl製した。生成物を
稀HOAc水溶液(2v/v%までのHOA c含有)
で溶離して、蒸発および乾燥後に、7−(イミダゾール
−2−イル)アミノ−δ−(’1)(−1,2,3−ト
リアゾール−キーイル)チオメチルセフ−3−エムー牛
−カルボン酸(1,53r)を得たが、これはDMSO
中で次のn、m、r、 (dd)を有する。ニー3.5
(d、IH);δ、8(d、LH);4.0(m、2H
) t 5.1 (d、lH);5.5(dd、LH)
;7.05(S、2H) p 7.2 (m、 LH)
;’y、 9(s−1−H) : 9.’3 (d、
LH)。HPLCによる濃度は90チで、61チの単離
収率が得られる(濃度100チで)。
例2
3−アセトキシ−7−(イミダゾール−2−イル)アミ
ノセフ−3−エム−4−カルダン酸(0,69fりをア
ルゴン雰囲気下に29 ’Cの溶融スルホラン(コロr
n!、)に添加し、次いで無水手=メルカプト−IH−
1,2,3−)リアゾール−モノナトリウム塩(0,5
1’)を添加した。得られる懸濁液にTFA (1−、
Oml )を添加し、次いで三フッ化ホウ素ジエチルニ
ーテレ−)(4M)を添加した。生じる溶液を室温で3
時間かくはんし、次いでかくはんしながらエーテル(4
00m/りに添加した。ガム状物質が形成し、それから
エーテルをデカントした。次いでガム状物質を酢酸ソー
ダ水溶液(0,1モル;66−)およびDMF (33
’ml )の混合物に溶解し、それからクロマトグラフ
ィーによυAGI−X2(酢酸塩形)イオン交換樹脂(
Biorad)でのクロマトグラフィーにより精製し稀
酢酸水溶液(0,5v/v %までのHOAc含有)
で溶離して、遠心分離および凍結乾燥後に、7−(イミ
ダゾール−2−イル)アミノ−3−(LH−1,2,3
−トリアゾール−生−イル)チオメチルセフ−3−エム
ー仝−カルゼン酸(0,85f)が得られ、そのn、m
、γは例1におけると同じであった。nm、γによる濃
度はδ4.6係で水6.6w/w %であった( Ka
rl Fischer )。これは72チの単離収率を
表わす(濃度100%で)。
ノセフ−3−エム−4−カルダン酸(0,69fりをア
ルゴン雰囲気下に29 ’Cの溶融スルホラン(コロr
n!、)に添加し、次いで無水手=メルカプト−IH−
1,2,3−)リアゾール−モノナトリウム塩(0,5
1’)を添加した。得られる懸濁液にTFA (1−、
Oml )を添加し、次いで三フッ化ホウ素ジエチルニ
ーテレ−)(4M)を添加した。生じる溶液を室温で3
時間かくはんし、次いでかくはんしながらエーテル(4
00m/りに添加した。ガム状物質が形成し、それから
エーテルをデカントした。次いでガム状物質を酢酸ソー
ダ水溶液(0,1モル;66−)およびDMF (33
’ml )の混合物に溶解し、それからクロマトグラフ
ィーによυAGI−X2(酢酸塩形)イオン交換樹脂(
Biorad)でのクロマトグラフィーにより精製し稀
酢酸水溶液(0,5v/v %までのHOAc含有)
で溶離して、遠心分離および凍結乾燥後に、7−(イミ
ダゾール−2−イル)アミノ−3−(LH−1,2,3
−トリアゾール−生−イル)チオメチルセフ−3−エム
ー仝−カルゼン酸(0,85f)が得られ、そのn、m
、γは例1におけると同じであった。nm、γによる濃
度はδ4.6係で水6.6w/w %であった( Ka
rl Fischer )。これは72チの単離収率を
表わす(濃度100%で)。
例3
無水牛−メルカブト−IH−1,2,3−)リアゾール
−モノナトリウム塩(0,54f’)を1、 アルゴン
雰囲気下にアセトニ) l)ルに添加した。
−モノナトリウム塩(0,54f’)を1、 アルゴン
雰囲気下にアセトニ) l)ルに添加した。
生じる懸濁液に、TFA (0,’5 y! )を添加
して透明な溶液を形成させた。それから、アセトニトリ
ル(10d)中の3−アセトキシメチル−7−(イミダ
ノール−2−イル)アミノセフ−3−エム−4−カルダ
ン酸(0,96F )の懸濁液を添加し、次いで三フッ
化ホウ素ジエチルエチテレート(4ゴ)を研加して透明
な溶液を得た。これをアルゴン雰囲気下に23℃で3.
5時間かくはんし、次いで生じる混合物をかくはんしな
がらエーテル(400−)中へ注入した。
して透明な溶液を形成させた。それから、アセトニトリ
ル(10d)中の3−アセトキシメチル−7−(イミダ
ノール−2−イル)アミノセフ−3−エム−4−カルダ
ン酸(0,96F )の懸濁液を添加し、次いで三フッ
化ホウ素ジエチルエチテレート(4ゴ)を研加して透明
な溶液を得た。これをアルゴン雰囲気下に23℃で3.
5時間かくはんし、次いで生じる混合物をかくはんしな
がらエーテル(400−)中へ注入した。
形成した同形物を4If過によυ集め、エーテルで洗浄
し、KOH上で真空乾燥して固形物(2,14f)を得
た。これを、前記例に記載されたように溶解および精製
して、7−(イミダゾール−2−イル)アミノ−3−(
LH−1,2,3−トリアゾール−4−イル)チオメチ
ルセフ−3−エム−4−カルダン酸(0,571を得た
が、そのn 、m、γは例1におけると同じであった。
し、KOH上で真空乾燥して固形物(2,14f)を得
た。これを、前記例に記載されたように溶解および精製
して、7−(イミダゾール−2−イル)アミノ−3−(
LH−1,2,3−トリアゾール−4−イル)チオメチ
ルセフ−3−エム−4−カルダン酸(0,571を得た
が、そのn 、m、γは例1におけると同じであった。
HPLCによる濃度は83%で、水7.2 W/W%を
有していた( Karl Fischer )。これは
、47.8%の単離収率を表わす(濃度100%で)。
有していた( Karl Fischer )。これは
、47.8%の単離収率を表わす(濃度100%で)。
例4
スルホラン/三フッ化ホウ素H体(11,2rnt;5
7.0ミリモル)(スルホラン中の三フッ化ホウ素ガス
の25 w/w%溶液)が2分間に、無水4−メルカプ
ト−IH−1,2,3−トリアゾールモノナトリウム塩
(687,5■;5.5ミ−リモル)にアルゴン下に滴
加し、混合物の温度を水冷により7℃〜17℃に保った
。得られる懸濁液をかくはんし、5分間2℃に冷却し、
その後塩化メチレン(9,8mA)中の3−アセトキシ
メチル−7−(イミダゾール−2−イル)アミノセフ−
3−エム−4−カルボン酸のti 濁i夜(1,845
I5.○ミリモル)(HPLCによる濃度91.9%;
水9.○w/w % [Karl Fisch −er
による〕)を10分間に少量ずつ岳加し、その間水冷に
より混合物の温度を12℃より下に保った。生じた@濁
液を塩化メチレン(2X2ゴ)で洗浄し、得られる混合
物を2CK冷却し、さらに130分間かくはんした。こ
の時間後、反応混合物を氷水(50d)中に注入した。
7.0ミリモル)(スルホラン中の三フッ化ホウ素ガス
の25 w/w%溶液)が2分間に、無水4−メルカプ
ト−IH−1,2,3−トリアゾールモノナトリウム塩
(687,5■;5.5ミ−リモル)にアルゴン下に滴
加し、混合物の温度を水冷により7℃〜17℃に保った
。得られる懸濁液をかくはんし、5分間2℃に冷却し、
その後塩化メチレン(9,8mA)中の3−アセトキシ
メチル−7−(イミダゾール−2−イル)アミノセフ−
3−エム−4−カルボン酸のti 濁i夜(1,845
I5.○ミリモル)(HPLCによる濃度91.9%;
水9.○w/w % [Karl Fisch −er
による〕)を10分間に少量ずつ岳加し、その間水冷に
より混合物の温度を12℃より下に保った。生じた@濁
液を塩化メチレン(2X2ゴ)で洗浄し、得られる混合
物を2CK冷却し、さらに130分間かくはんした。こ
の時間後、反応混合物を氷水(50d)中に注入した。
フラスコからの残渣を水(2X、25mA)で洗浄し、
得られる溶液を塩化メチレン(85mlりで洗浄した、
HPLCによシ評価した7−(イミダゾール−2−イル
)アミノ−3−(IH−1゜2 、3− ト’Jアゾー
ルー4−イル)チオメチルセフ−3−エム−キーカルボ
ン酸の収量は、1.722グ(91%)であった。生成
物はアン・々−ライト(Amberlite ) XA
D −2樹脂(RO−hm and PIaas社)で
のクロマトグラフィーによシ単離し、含水アセトニトリ
ル(アセトニトリル80 v/v %含有)で溶離して
、遠心分離および冷凍乾保後に、7−(イミダゾール−
2−イル)−アミノ−3−(IH−1,2,3−)リア
ゾール−4−イル)チ゛オメチルセフー3−エムー牛−
カルボン酸(1,7142)を得たが、そのHP L
Cによる良度は84.1%で水4.9 w/w%(Ka
rl Fischer )を含有していた。これは76
.15の単離収率を表わす(濃度100%で)。
得られる溶液を塩化メチレン(85mlりで洗浄した、
HPLCによシ評価した7−(イミダゾール−2−イル
)アミノ−3−(IH−1゜2 、3− ト’Jアゾー
ルー4−イル)チオメチルセフ−3−エム−キーカルボ
ン酸の収量は、1.722グ(91%)であった。生成
物はアン・々−ライト(Amberlite ) XA
D −2樹脂(RO−hm and PIaas社)で
のクロマトグラフィーによシ単離し、含水アセトニトリ
ル(アセトニトリル80 v/v %含有)で溶離して
、遠心分離および冷凍乾保後に、7−(イミダゾール−
2−イル)−アミノ−3−(IH−1,2,3−)リア
ゾール−4−イル)チ゛オメチルセフー3−エムー牛−
カルボン酸(1,7142)を得たが、そのHP L
Cによる良度は84.1%で水4.9 w/w%(Ka
rl Fischer )を含有していた。これは76
.15の単離収率を表わす(濃度100%で)。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1.7−(イミダゾール−2−イル〕アミノ−3−(I
H−1,2,3−Lトリアゾール−4−イル)チオメチ
ルセフ−3−エム−4−カルボン酸およびその酸付加塩
および塩基付加塩の製法において、式■: 〔式中R1は置換可能な基である〕で示される化合物を
、トリフルオロ酢酸、トリクロロ酢酸、アセトニトリル
またはスルホランから成るかまたはこれらのいずれか2
種または3種の混合物から成る稀釈剤または溶剤中で三
フッ化ホウ素またはその錯体の存在で、4−メルカプト
−IH−1,2,3−トリアゾールまたはその塩基付加
塩と反応させ;その後生成物が遊離塩基または塩として
得られかつそれぞれ塩または遊離塩基が必要とされる場
合には、塩と遊離塩基との間の相互転換を常法で行なう
事を特徴とする、7−(イミダゾール−2−イル)アミ
ノ−3−(If(−1,2、3−) !Jアソーールー
4−イル)チオメチルセフ−3−エム−4−カルボン酸
の製法、2、式中Rがアセトキシである、特許請求の範
囲第1項記載の方法。 3.4−メルカプト−LH−1,2,3−)リアゾール
のナトリウム塩を用いて実施する、特許請求の範囲第1
項または第2項記載の方法。 4、トリフルオロ酢酸中で室温で三フッ化ホウ素ジエチ
ルエチテレートを用いて実施する、特許請求の範囲第3
項記載の方法。 5.スルホラン/トリフルオロ酢酸中で室温で三フッ化
ホウ素ジエチルエチテレートを用いて実施する、特許請
求の範囲第3項記載の方法。 6、スルホラン/塩化メチレン中で一5℃〜10℃の温
度範囲内で三フッ化ホウ素/スルホラン錯体を用いて実
施する、特許請求の範囲第3項記載の方法。 7、三フッ化ホウ素/スルホラン錯体が式1で示される
化合物よシも5〜10倍過剰に存在する、特許請求の範
囲第6項記載の方法。 8、反応混合物が水1〜2.5モル等量を特徴する特許
請求の範囲第7項記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| AU45491/85A AU580793B2 (en) | 1984-01-31 | 1985-07-11 | Tracking error detector for optical head |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP83400208 | 1983-01-31 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59155389A true JPS59155389A (ja) | 1984-09-04 |
Family
ID=8191385
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59014576A Pending JPS59155389A (ja) | 1983-01-31 | 1984-01-31 | 7−(イミダゾ−ル−2−イル)アミノ−3−(1h−1,2,3−トリアゾ−ル−4−イル)チオメチルセフ−3−エム−4−カルボン酸の製法 |
Country Status (13)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0117651A3 (ja) |
| JP (1) | JPS59155389A (ja) |
| AU (1) | AU2280483A (ja) |
| CA (1) | CA1204437A (ja) |
| DK (1) | DK2884A (ja) |
| ES (1) | ES529289A0 (ja) |
| FI (1) | FI840113L (ja) |
| GR (1) | GR78718B (ja) |
| HU (1) | HUT34504A (ja) |
| NO (1) | NO840345L (ja) |
| NZ (1) | NZ206984A (ja) |
| PT (1) | PT77944B (ja) |
| ZA (1) | ZA839513B (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB8611823D0 (en) * | 1986-05-15 | 1986-06-25 | Ici Plc | Process |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1565941A (en) * | 1977-02-08 | 1980-04-23 | Toyama Chemical Co Ltd | Process for producing 7-(substituted)amino-3-substituted thiomethyl cephem carboxylic acids |
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1983
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- 1983-12-22 AU AU22804/83A patent/AU2280483A/en not_active Abandoned
-
1984
- 1984-01-04 DK DK2884A patent/DK2884A/da not_active Application Discontinuation
- 1984-01-11 PT PT77944A patent/PT77944B/pt unknown
- 1984-01-12 FI FI840113A patent/FI840113L/fi not_active Application Discontinuation
- 1984-01-16 HU HU84143A patent/HUT34504A/hu unknown
- 1984-01-23 CA CA000445833A patent/CA1204437A/en not_active Expired
- 1984-01-30 NO NO840345A patent/NO840345L/no unknown
- 1984-01-30 ES ES529289A patent/ES529289A0/es active Granted
- 1984-01-30 EP EP84300583A patent/EP0117651A3/en not_active Withdrawn
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- 1984-01-31 JP JP59014576A patent/JPS59155389A/ja active Pending
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|---|---|
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| PT77944A (en) | 1984-02-01 |
| HUT34504A (en) | 1985-03-28 |
| EP0117651A3 (en) | 1985-09-18 |
| GR78718B (ja) | 1984-09-27 |
| DK2884A (da) | 1984-08-01 |
| FI840113A0 (fi) | 1984-01-12 |
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| CA1204437A (en) | 1986-05-13 |
| DK2884D0 (da) | 1984-01-04 |
| PT77944B (en) | 1986-04-16 |
| ZA839513B (en) | 1984-12-24 |
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| NO840345L (no) | 1984-08-01 |
| FI840113L (fi) | 1984-08-01 |
| EP0117651A2 (en) | 1984-09-05 |
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