JPS59162977A - 塗布装置 - Google Patents

塗布装置

Info

Publication number
JPS59162977A
JPS59162977A JP3641783A JP3641783A JPS59162977A JP S59162977 A JPS59162977 A JP S59162977A JP 3641783 A JP3641783 A JP 3641783A JP 3641783 A JP3641783 A JP 3641783A JP S59162977 A JPS59162977 A JP S59162977A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
support
gas
coating
contact
gas ejector
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP3641783A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0377973B2 (ja
Inventor
Takeshi Kishido
岸戸 健
Kazuo Kato
和男 加藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Konica Minolta Inc filed Critical Konica Minolta Inc
Priority to JP3641783A priority Critical patent/JPS59162977A/ja
Publication of JPS59162977A publication Critical patent/JPS59162977A/ja
Publication of JPH0377973B2 publication Critical patent/JPH0377973B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C5/00Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
    • B05C5/007Slide-hopper coaters, i.e. apparatus in which the liquid or other fluent material flows freely on an inclined surface before contacting the work

Landscapes

  • Coating Apparatus (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は帯状可撓性支持体を無接触で支持して塗布液を
極めて均一な膜厚に塗布する装置に関する。
更に詳しくは、写真感光材料等の支持体の塗布面とは反
対側の面を無接触支持させながら連続状に走行させて1
種または2種以上の塗布液を塗布する装置に関し、とく
処連続的な両面塗布を行なうのに特に適した塗布装置に
関する。
〔従来技術〕
従来、支持体の両面塗布技術としては、種々の手段、方
法が知られている。例えば特公昭48−44171号公
報には、支持体の片面に塗布し、これをゲル化した後、
ゲル化した面を直接支持ロールに接触させて、反対面に
連続して塗布する方法が記載され、又、特公昭49−1
7853号公報には、小孔もしくはスリットを有するロ
ール曲而から気体を噴出して支持体を浮上させ、塗布機
(コーター)の先端を支持体に押しつけて、塗布する方
法が記載されている。両面塗布については特に言及して
いない。さらに特公昭51−38737号公報には、小
孔を有するロール曲面から気体を噴出させ、支持体を浮
上させ、かつ支持体両端のみをロールによって支持しな
がら塗布する装置が記載され、両面塗布が可能であるこ
とが示唆されている。さらに又、特開昭55−4541
0号公報には、支持体の片面に塗布した後、その面の両
端のみロールによって支持しながら、未塗布面側から減
圧して支持体の振動を抑えて未塗布面側に塗布する方法
が記載されている。
しかし、上記従来技術では、次のような欠点がある。す
なわち、特公昭48−44171号公報に記載の技術で
は、ゲル化した而を支持する支持ロール上にわずかな塵
埃やキズがあっても、ゲル化した塗布面は乱されてしま
うし、ロール上に塗布層の一部が付着残存しても同様で
あシ、メインテナンスが極めて困難であるという欠点が
あ)、さらに支持ロールの周速度が支持体の搬送速度と
わずかでもずれれば、やはりゲル化した塗布層は大きく
乱されるという欠点がある。
又、特公昭49−17853号公報に記載の技術では、
支持体の巾が大きくなると支持体の中手方向の浮き量差
が大きくなシ、塗布機先端を支持体に均等に押しつける
ことができないので、支持体全面にわたって均一な塗布
層を得ることは難しいという欠点があ)、凍た塗布機の
前後での支持体の振動を抑える配慮がなされていないた
め、塗布ムラを発生しやすいという欠点があり、さらに
塗布機を押しつけるという方法であるため写真感光材料
の塗布に一般的に用いられるスライドホッパー等のビー
ド塗布法を適用できないという欠点がある。
さらに特公昭51−38737号公報に記載の技術では
、ロールで支持される支持体両端部と無接触で支持され
る他の部分でコーター先端との距離が異なシ、支持体全
面で均一な膜厚の塗布層を得ることは難しいという欠点
があ多、具体的には縦筋状の俤布故障が出やすいという
ことである力!、支持体中が広くなるに従ってコーター
先端と支持体との距離の場所による差も大きくなシ、塗
布液が全くつかない様な部分も生じてし甘うという欠点
がある。
さらに又、特開昭55−44)410号公報に記載の技
術では、支持体はロールによって支持される両端部を除
いては、張力罠よって発生する背圧(’r/R,T:張
力、R:支持体面の曲率半径)と、コーター側からの減
圧との微妙なノくランスで、その位置が決まっておシ、
少しでもこれらのノ(ランスがくずれれば支持体の位置
が変動し、コーター先端と支持体の距離が変動するので
、横段状の塗布ムラが発生するが、コーター側からの減
圧を全中にわたって常に一定に保つことは極めて難しく
、横段状の塗布ムラとともに縦筋、塗布液がつかない等
の塗布故障も起こシやずいという欠点がある。
本発明者等は、上記欠点を解決するために鋭意研究を重
ねた結果、次のような知見を得た。すなわち従来技術を
全体として見た場合、無接触で支持体を支持して塗布を
行なう方法(装置)では、単に基本的な形式を提供する
だけか、支持体の厚み方向の振動を抑えることに主眼を
置いているのみで、支持体の中手方向にわたってコータ
ー先端と支持体との距離(以丁「コーターギャップ」と
呼ぶ〕を均一にするということについては全く触れられ
ていない。このことはスライドホッパー等を用いるビー
ド塗布法では、特処重要である。なぜならこのコーター
ギャップの中手方向の均一性が失われると、縦筋状の塗
布ムラが出やすくなった)、ひど込場合には塗布液が一
部支持体に接触しないというような事態も生じる。通常
コーター先端と気体噴出器外表面は支持体中手方向に可
能な限りの真直性をもって製作されるので、支持体の気
体噴出器外表面からの距離すなわち浮き量が中手方向で
均一であれば、コーター先端との距離も機械加工精度の
範囲内で均一になる。
ところが、支持体の浮き量は、何の対策もとらない場合
、中手方向で大きな分布をもってしまい、実用的な塗布
装置を構成することは困難であった。
特に支持体中がおよそ5nOmm以上となると、この転
向は顕著になり、巾が広がれば広がるほど中手方向に均
一な浮き量を得ることは難しくなる。
生産効率を考慮した実用的な塗布装置では、はとんどが
支持体中511(’1m以上と考えられるため、この問
題を避けて実用的な無接触支持(両面)塗布装置を(与
ることは不可能である。
本U9J細報において、支持体中が500掴以上あるも
のを「広巾」といい、500IIlI11未満のものを
「狭巾」という。
〔発明の目的〕
本発明は上記知見に基づいて成されたものであシ、その
第1の目的は、写真感光材料等の様に帯状可撓性支持体
に極めて均一な膜厚の塗布層を形成する際に該支持体を
無接触で支持し、支持体中に関係無くコーター先端との
距離を中手方向で均一に保持しながら、お布できる塗布
装置を提供することにある。
本発明の1r2の目的は、連続的な両面塗布が可能とな
ると共に乾燥工程を一度だけ通過させればすむ様な極め
て生産効率の高い塗布乾燥工程を実生産スケールで実施
できる塗布装置を提供することにある。
〔発明の構成〕
本発明の塗布装置は、連続的に走行する支持体をはさん
で、互い九はぼ対向する位置にコーターと気体噴出器を
配設し、該気体噴出器から前記支持体に向かって気体′
f:噴出することにより、前記支持体を無接触で支持し
ながら前記コーターによって塗布を行なう塗布装置圧お
いて、前記気体噴出器外表面から単位面積あたシに噴出
される気体量が、前記支持体中が広くなるほど少なくな
る様に、前記気体噴出器のIJ孔率が調整されているこ
とを特徴とする。
本発明の一実施態様に従えば、広巾支持体用の気体噴出
器の開孔率が、後述するようにW2・Q≦5X10  
となるように調整されていることである。
以F1本発明について詳述する。
本発明における気体噴出器は、長手方向に一定の張力が
かかりながら搬送されている帯状可撓性支持体(以丁、
支持体と略す)に向かって気体を噴出し、これを該噴出
器の外表面の曲率に応じて彎曲させて無接触で支持する
ものである。一般に前記気体噴出器は前記支持体の巾よ
りやや巾の広い中空の筐体で気体を噴出しないと前記支
持体が接触する部分はある曲率を有し、その部分を中心
として内部に供給された気体を外部へ噴出するべく、外
殻に気体通過部分が設けられている。該気体通過部分は
貫通孔としてもいいし、何らかの多孔質体を用いること
もできる。又、コーターは前記気体噴出器にほぼ対向す
る位置に配設され、無接触で支持されている前記支持体
に塗布液を塗布する。
上記の気体噴出器とコーク−を用いた無接触支持におい
て塗布をする際、2つの大きな問題点がある。1つは前
記支持体の浮き量の微小変動であシ、もう1つは中手方
向の浮き址の不均一性である。前者については特願昭5
6−175801号明細書に記載の方法によって解決す
ることが可能だが、支持体の巾が広くなってくると後者
の問題が大きくな如、実際上写真感光材料等の様に精密
かつ均一な膜厚の塗布を行なうことは不可能になる。こ
の様に中手方向の浮き量が大きな問題となってくるのけ
、無接触支持されている部分の支持体に対向している気
体噴出器外表面の曲率、無接触支持部の長手方向の長さ
、支持体に加えられる張力などによって異なるが、支持
体中がおよそ500■以上の場合である。通常生産効率
を考慮した塗布工程では、支持体中は500酬以上であ
るので、中手方向の浮き量の均一化につ贋て何らかの処
置を行なう必要がある。
通常の?!l’l布においては、支持体は有接触のバッ
クアップロールによって支持されるので、バックアップ
ロールの真直度、直円度、コーター先端の真直度、バッ
クアップロールとコーターの取付精度等によって支持体
とコーター先端との距離すなわちコーターギャップの変
動と中手方向での分布がどのくらいになるかが決定され
る。
これに対し無接触支持による塗布では、ここに支持体の
浮き量の要素が加わるわけだが、気体噴出器のコーター
先端に対向する部分とコーター先端の中手方向の真直度
ならびに互いの平行度はミクロンオーダーの精度出しが
可能なので、実質的にコーターギャップの中手方向分布
は支持体の浮き量の中手力面分布そのものと言っていい
。コーターギャップの中手方向’A−R5に必要な均一
性は塗布条件等にもよるが通常はおJそ40μ以内の巾
に抑えることが必要である。コーターギャップの中手方
向分布が大きくなると縦筋状の塗布ムラが生じやすくな
るし、さらに分布が大きくなるとコーターギャップの大
きなところでは、支持体に全く液が塗布されないという
様なことも起こり、均一な膜厚の塗布は全く不可能とな
る。
そこで、この様な支持体の中手方向の浮き量分布が生じ
る原因についてであるが、これは気体噴出器から噴出さ
れた気体が、気体噴出器外表面と支持体との間隙(=高
静圧空間)を通って外部へMe出する際、支持体の浮き
量変動の抑制全考慮した特願昭56−175801号明
細書に記載された様な装置の場合、気体のほとんどが中
手方向に汁れることに起因する。即ち高静圧空間を通過
する際に気体が受ける汁路抵抗は、支持体の巾によって
決することになり、支持体中が広くなるほど涼路抵抗の
積算値は犬さくなるから、高静圧空間の中火部からはa
H出された気体が逃げにくくな)、中央部での気体蓄積
量が増えるので中央部の浮き口1゛が大きくなって中手
方向の浮き量分布が大巾なもの罠なっていくのである。
要するKここでいう浮き量分布とは、主に中火部が大き
く両端部が小さいという形のものである。
上記の原因を繭重えた上で中手方向の浮き量(特にコー
ター先端に対向する位置即ち包布位置)の均一化を実1
1.シたのが本発明の装置である。具体的には支持体中
が広くなるほど気体噴出器外表面の単位面積あた)の気
体噴出量が小さくなる様に開孔率(気体通過部分を貫通
孔とした場合、無接触支持部において貫通孔の最狭小部
の気体噴出力向に垂直な断面の面積の総和が、気体噴出
器外表面の面積に占める割合をいい、気体通過部分が多
孔質などの場合は同一条件で同一風量が得られる貫通孔
の場合に換算したものをいう。)が調整されている気体
噴出器を用いることによって達成される。これは、中央
に近づくほど気体の滞留量が増加する様な状態を生じる
ことなく、気体が高静圧空間から流出できる量以上は噴
出させないという考えに基づいている。ここで重要なの
け中手方向の浮き量分布を小さくするには、気体噴出位
置を変えても効果がないということである。つまル中央
部の浮き量が大きいからといって中央部の開孔率を■げ
、他の部分を上げたシしても中央部への気体のまわりこ
みが起こったりするだけで浮@量分布にはほとんど影響
が無く、結局無接触支持部全体として開孔率を■げるこ
とが必要だということである。
ここで言う開孔率とは局部的なものではなく無接触支持
部全体における平均値をさすものであって、さらにこの
無接触支持部とは気体噴出器が支持体に無接触支持力を
及ぼしている部分とそうでない部分との境界部13〔(
第1図参照〕この部分は噴11気体がすぐに外部に流出
して特に浮き量が小さくなるので、大量の気体を噴出さ
せたりして支持体の接触を防ぐため支持体中によって開
孔率を調整するという手段とは無関係である。)や開孔
率を他の部分よυ大きくした中手方向両端部を除いた部
分を指すものとする。
本発明に用いられる気体噴出器による無接触支持で支持
体の浮き量に関係する他の要因としては、支持体張力(
以下、Tと略す)、気体噴出器外表面の無接触支持部に
おける曲率半径(以下、Rと略す)、無接触支持部の長
手方向の長さく以下、Lと略す)があげられる。TとR
は背圧(=支持静圧)T/Rを決め(特願昭56−17
5801号明細%i′参照)、Lは気体の長手方向への
逃げやすさを決める(これにはRも若干関係がある)。
よって例えは他の条件が変わらずにT/Rのみ大きくな
ったとすると浮き量は小さくなるし、同様にLのみ小さ
くなったとするとやはり浮き量は小さくなる。しかしこ
れらの要素を変化させても中手方向の浮き量分布を本質
的に解消するには致らない。特にここであげた三つの要
素(T、R,L)はいずれも下記の様な制限があるため
大巾な変化を与えることができない。Tは支持体の搬送
安定性や支持体、搬送系の機械的強度等から制限を受け
、ある範囲に限定される。Lは無接触支持部の出入口か
ら塗布位置までの距離を決めるので、外乱による浮き量
変動を防ぐためにはできるだけ大きい方がいい(Lが大
きいと゛ます1す気体を逃げづらくなるので浮き量分布
には悪い方向に進む。
)。RはT/Rが適度な範囲にはいる様に(特願昭56
−175801号明aiIII書参照)する−力、Lを
ある程度大きくとれる様にしなくてはならないので、両
刀から制限を受ける。これらT、R。
Lの好ましい範囲の具体的な数字については略すが、い
ずれにしてもその範囲はあ1り広くないので、中手方向
の浮き量分布を小さく抑えるために単位面積あたりの気
体噴出量を支持体中に応じである値9丁にしていくとい
う本発明の考え力が特に影響されるものではない。
次に本発明に係る塗布装置の一実施例について添付図面
に基づき詳述する。
第1図は本発明の一実施例を示す塗布装置の縦断面図で
あり、塗布方法としてスライドホッパーによる二層塗布
方式を採用し、連続的に支持体の両面に写真用感光液を
塗布する場合金示している。
第2図は本発明に用いられる気体噴出器の一例を示す縦
断面図である。
第1図において、被塗布支持体2は、先ず支持ロール3
に直接接触してコーター1にて従来2知の方法で塗X5
ケれる。塗布された塗布層4をゲル化させるため、該支
持体2は冷風ゾーン8を通過する。該冷風ゾーン8では
スリット板もしくは小孔群Tにより員布面4に冷風を当
て、更に冷却効率を上げるため、支持体2の塗布されて
いない面側に2〜3wgの間隔を置いて且つ中火ボック
ス5に設置されたロール群6を接触させ、その反対側か
らサクションしてロール群6との接触面積を増大させ、
塗;f5層4を冷却ゲル化することが望ましい。ゲル化
された塗布層4を有する支持体2は続いて気体噴出器3
′の無接触支持部にてその反対面に塗布層11が前記支
持体2をはさんで、前記気体噴出器3′に対向して配設
されたコーター1′により塗布される。気体噴出器3′
としては、様々な形態が可能であるが、製作上の容易さ
等から最も一般的と考えられるロール形式のものについ
て例示する。
中空ロール状をなす気体噴出器3′はその外殻の無接触
支持部に相当する部分には複数個の気体噴出用の貫通孔
10ffi有し、内部に供給された気体は、該貫通孔1
0を通ってa−ル外表面9がら、ゲル化された塗布層4
の面に噴出して被塗布支持体2を無接触の状態で支持す
るものであるが、写真感光材料の製造においては、塗布
された層の湿潤状態又は乾燥後の膜厚は通當11fi以
下の変動に抑える必要があシ、そのためにはコーター1
′の先端部と被塗布支持体2の塗布されるべき面との間
隙をできるだけ一定に保つ必要がある。この間隙の許容
されるべき変動幅は、種々検針を重ねた結果、数p以下
、最大でも10μ以丁に抑える必要のあることがわかっ
た。
このような観点から、本発明者らは先に特願昭56−1
75801号明細書において、浮き量変動を抑える手段
について提案した。即ち同明細書において、気体噴出器
3′を貫通孔1oを有する中空ロールで構成した場合は
、該貫通孔1oの最挟小部の直径d(第2図)ならびに
長さt(第2図)、開孔率(無接触支持部処おいて、各
貫通孔1゜の最挟小部の断面積の総和が気体噴出器3′
外表面に占める割合)、そしてロール外径を適邑忙決め
れば、支持体張力と供給圧を調整することによって、支
持静圧(=背圧〕と供給圧の比を一〜0 i〜 、塗布液接触部における浮き量を20〜)000 500μの範囲でそれぞれ一つの値をとる様にすること
が可能で、これによって被塗布可撓性支持体の浮き量変
動を上記許容巾内に抑えることができることを明らかに
した。
本発明は、前述の如く、気体噴出器の無接触支持部の開
孔率を問題とするものであるが、これも前記の浮1!!
量変動と深い関係にある、即ち、前記の手段で浮き量の
変動を抑えることが可能な気体噴出器が提供されるが、
かかる気体噴出器を用いても、支持体巾が広い場合に支
持体の中手方向の浮き量が均一化されない場合があるの
で、本発明の制御手段が機能するものである。
即ち本発明を実施する手順であるが、気体看出器の無接
触支持部の開孔率を決めるには、ある程度実験的手段が
必要である。即ち、前記特願昭56−175801号明
細書に記載の手段によって提供されるところの気体噴出
器を製作して、あとは中手方向の浮き量が均一化される
まで適宜気体通過部分を閉塞して開孔率を落としていけ
ばよい。
なお支持体巾と気体噴出量の関係については、W2・Q
≦5 X 105となるように調整されることが好オし
い。ここにWは支持体巾(rnl)、Qは単位面積あた
υの気体噴出ilk(Nme/m1n11ctA)を示
す。
次にこの気体通過部分の閉塞手段、すなわち貫通孔の最
狭部の調整手段であるが、気体通過部分の構成にもよる
〃ζζ通常気体出出器内部側ら接着剤等によって閉塞す
るのが簡単かつ確実な手段である。なお、一つの気体噴
出器によって、巾の異なる支持体に塗布しようとする場
合は、該噴出器の開孔率を任意に変動できる構成を採用
すればよい。例えば、第6図に示す如く、各々貫通孔を
有する2又はそれ以上の気体噴出器を2重又はそれ以上
に互いにスライド可能に重ねて、支持体巾に応じて気体
噴出器をスライドさせることによって、各貫通孔の重な
シ度合を調整する(図面上矢符方向に回動する)ことで
、貫通孔の最狭小部の面積を変えられるようにすればよ
い。
本発明の好ましい実施態様に従えば、支持体の中手方向
の両端では、気体が極めて逃げやすいため、気体の逃げ
道を狭める手段として、例えば第4図及び第5ryIに
示す如く支持体の中手方向両端に対向する位置に、支持
体と接触しない帯状の突出部15を設けたりしてもよい
し、また支持体の中手方向両端部での浮き量の落ちこみ
を防止するため、両端にごく近い部分のみ噴出気体量を
増加させる手段として、気体噴出器の開孔率を中央部よ
り両端部の力で大きくするようにしてもよい。
これらの具体的条件は実験的に容易に求めることができ
る。
本発明における無接触支持に用いる気体としては、N2
ガス、フレオンガス、空気等、安全上問題のないもので
あれば何でも良いが、最も一般的には空気である。無接
触支持部において反対面に塗布された被塗布支持体2は
、その後、図示しない冷風ゾーンにおいて無接触の状態
で両面に冷風を当てながら塗布層11をゲル化した後、
図示しない無接触乾燥ゾーンへ搬送されていくが、本発
明圧よれば、この無接触でのゲル化する部分あるいは無
接触乾燥ゾーンにおいて、被塗布支持体が走行方向圧垂
直な方向に変動(又は振動)しても、無接触支持部にお
いて吸収されて伝播せず、均一な塗布が可能であること
がわかった。冑、本発明で使用する被塗布支持体として
は、ポリエチレンテレフタレート、三酢酸セルロース等
のプラスチックフィルム、ペーパー等写真感光材料用支
持体等を使用することができる。又無接触支持部での曲
面9の材質は特に制約はなく中空部12の内圧に耐え得
るものであれば何でも良いが、表面にノ1−ドクロムメ
ツ午を施した真ちゅう鋼あるいはステンレス鋼が望まし
く、この場合のように貫通孔10を設ける際には穴あけ
加工の容易さを考えるとベークライトあるいはアクリル
樹脂等のプラスチック材料も用いることが?ましい。
又本発明を実施するに当っては、無接触支持部において
ゲル化された塗布層4に気体が衝突し、該塗布層4がこ
の気体の動圧により乱されない様にするため、無接触支
持部に進入する直前の該塗布層の温度を2〜10℃、好
ましくは2〜5℃にして塗布層4のゲル強度を上げてお
くことが望ましい。
以上本発明圧ついて説明したが、本発明の実施例はこれ
に限定されず、気体噴出器としては無接触支持部におい
てその外表面として支持体との間隙に高静圧を保つため
連続した曲面を有し、該曲面から気体が噴出可能であり
、かつ本発明の条件さえ満足すればどんなものでも良く
、外形がロール状であったシ、気体を気体噴出器の内部
から外部へ通過させる部分が貫通孔であった如する必要
はなく、他の構成の気体噴出器を配した塗布装置でもよ
い。たとえば気体噴出器の形としては、半円筒形でも楕
円筒形でも良いし、該気体噴出器の他の1例を示す第3
図のような無接触支持部のみ外表面に曲率をもたせ、他
は平面で構成された様な形でもよい。−力、気体噴出器
内部に供給された気体を外部へと通過させる部分だが、
この部分は気体を通過させるとともに圧力損失を与える
ことが大きな役割である。この条件さえ満たされればど
んな形式でも良りわけで、貫通孔とする場合もその形は
丸穴でも多角形の穴でも良いし、寸た第3図に示す如く
焼結金属等の多孔質体14によって無接触支持部の気体
噴出器外殻を構成するような形式でも良い。さらに気体
噴出器を中空とせずに、その気体入口から無接触支持部
における外表面に至る寸ですべて前記の様な多孔質体に
よって構成することも可能である。
なお、被塗布支持体の片面及び反対面に塗布する方法と
しては、ビード塗布法、エクストルージョン塗布法、疏
延塗布法等従来公知の方法を用いることができる。
〔発明の効果〕
以上述べた様に前記特願昭56−175801号明細古
に記載の条件を考慮した上で、充分に調整した本発明の
装置を用贋ると、支持体の中手方向の浮′@量分布は実
用的な支持体1](500+m以上)に対しては、どん
な場合も最大20μ程度の巾に抑えこむことが可能で、
浮き量変動も極めて小さいので、無接触支持による高精
度かつ均一な膜厚の塗布が可能となる。ひいては写真感
光材料等の製造において連続的な両面塗布が実生産スケ
ールで実施できる。
〔実施例〕
以下、本発明のれ体的実施例をあげる。
実施例−1 第1図に承す1000B1]を有する支持体の塗布装着
において、気体噴出器3′は中空のロールに複数個の気
体噴出用貫通孔10を有する構成(第2図参照)とし、
該ロール外表面の牛径を100■とじ、該貫通孔10は
丸穴として直径dを50μ、長さlを10m、開孔率を
0.002憾とした。
ただし、無接触支持境界部13では、支持体金印にわた
って長手方向10瓢の範囲で直径dが180μ、長さl
が10mで、開孔率は0.157憾となるようにした。
空気をロール中空部にゲージ圧1.OKf/cIIiで
供給し、貫通孔10より噴出させた。気体噴出量Qは、
無接触支持部における単位面積あたシの平均値として6
.33N−/m1n−一であった。従ってW2Q=6.
33X1(’l’  である。
着た第4図に示す様に無接触支持部の長さLは、R・θ
〔但しθはa−ル型気体噴出器が支持体に支持力を及ぼ
す角度をいう。以下、この角度をラップ角と呼ぶ。〕に
ほぼ等しいので、ここではθ=180° としてLは約
157m5+となる。支持体2け無接触で支持されるた
め、気体噴出器3′は回転しない(全面に気体噴出孔を
設けて回転させることも考えられるが特にその必要はな
い。)。コ−1−(f!I、tハスライドホッパー)1
によって写真感光材料用塗布液が有接触回転式の通常の
バックアップロール3に支持された支持体2の片面に塗
布され、この塗布層4は冷風ゾーン8を通過する際にゲ
ル化さ九る。さらに支持体2は気体噴出器3′によって
無接触で支持されながら塗布層4の反対面に写真感光材
料用塗布液をコーター(スライドホッパー)1′によっ
て塗布されて、塗布層11が形成される。ここで杜レン
トゲン写真用塗布液を用いて塗布を行なった。コーター
1,1′ともにF層にゼラチンをバインダーとしたレン
トゲン写真用ハロゲン化銀乳剤を上層に保篩層用ゼラチ
ン水溶液をそり、それ55μ、20μの湿層膜厚となる
よう忙二層同時塗布を行なった。支持体2は厚さIRn
pのポリエチレンテレフタレートフィルムで、支持体の
長手方向張力を0.1Kf/儒巾として毎分50mの速
度で搬送した。支持体2の浮き量(この場合気体噴出器
外表面と冷布層4の表面との距III)はコーター1′
の先端に対向する部分において中欠部で200μ、両端
部で170μとなっており、その他の部分もすべてこの
範囲例はいつていた。以上の様な条件のもとて両面塗布
後、図示しない無接触セットゾーンと無接触乾燥ゾーン
を通って、乾燥されて得られた塗布試料は両面とも縦筋
などの塗布ムラの全く無い、均一な仕上がりで、写真性
能上も良好なものであった。
なお、実施例−1において無接帥支持部の気体噴出孔の
数を増加させて、開孔率を0.02 %にした以外は、
実施例−1と同様にして塗布を行なった。このとき浮@
量はコーター1′に対向する部分において中央部で38
0μ、両端部で200μとなった(なおW2Q=6.3
3 X 10’である。)。この様な状態ではコーター
1′によって塗布を行なってもコーターギャップが、支
持体中央部で適当な値となる様に設定すると、支持体両
端部においては、コーターギャップは大きく開いてし聾
い、その部分には塗布液が接触しなくなり、均一な塗布
は不可能となった。
実施例−2 実施例−IVCおいて、他の条件は■1−にして、搬送
速度のみ毎分120mに変哄して、両面塗布を行ない、
乾燥した結果、実施例−1と同様に両面とも縦筋等の塗
布ムラの無い、均一な塗布層が得られた。
実施例−3 実施例−1において気体噴出器3′前の支持体2の引き
まわしを変更して気体噴出器3′のラップ角θを250
’として、それに対応して貫通孔を増加させた以外は実
施例−1と同様の条件にすると、塗布位置の浮きmは中
央部で230μ、両端部で200μとなり、他の部分も
すべてこの範囲にはいっていた。この装置を用いて実施
例−1と同様の塗布を行なったところ、塗布ムラの無い
、均一な塗布層が得られた。
実施例−4 実施例−1において、他の条件はβl−にして、Rのみ
50m+に変更して両面塗布を行なった。このとき浮き
量は中央部で170μ、両端部で150pとなり、実施
例−1と同様に塗布ムラの無い、均一な塗布層が子II
られた。
実施例−5 実施例−4において、他の条件は同一にして、搬送速度
のみ毎分120mに変更して、両面塗布を行ない、乾燥
した結果、実施例−4と同様に両面とも縦筋等の塗布ム
ラの無い、均一な塗布層が得られた。
実施例−6 実施例−3において、他の条件は同一にして、Rのみ5
011I11に変更して両面塗布を行なった。このとき
浮き量は中央部で200μ、両端部で180μとなり、
実施例−3と同様に塗布ムラの無い、均一な塗布層が得
られた。
実施例−7 本実施例は第1図に示す塗布装荷で、厚さ100p1巾
2000mのポリエチレンテレフタレートフィルムに印
刷用感光材料用塗布液の両面熱布を行なう場合を示す。
半径Rが100mのロール型気体噴出器外表面の支持体
両端部に対向する部分には、第4図及び第5図に示す様
に高さhが300μ、巾Wdi10m、長さL′が30
0mの突出部15が設けである。気体噴出部分は実施例
−1と同様、直径dが50μ、長さtが10調の貫通丸
穴であるが、単位面積あたシの孔数を減少させて、開孔
率けo、noos’lとした。気体供給圧を1.OKr
/−としたところ、Qは2.5 Nd/m i n m
ad テあった(W2Q=105)。毎分60mで搬送
しながらコーター1によって下層に色累を溶解したゼラ
チン水溶液を、上層に保護層用ゼラチン水溶液を、それ
ぞれ湿潤膜厚55p、20pで塗布し、さらにコーター
1′によって下層に印刷用感光材料用ハロゲン化銀乳剤
を、上層に保護層用ゼラチン水溶液をそれぞれ湿潤膜厚
55μ、20t1で塗布した後、無接触支持、無接触乾
燥を行なった。支持体2の浮き魚はコーター1′の先端
に対向する位置で最大400μ(中央部)、最小370
μ(両端部)であった。この結果得られた塗布層は両面
とも全面にわたって塗布故障の無い均一な仕上がシで、
写真性能上も良好なものだった。
実施例−8 実施例−7において、他の条件は同一にして、両端部の
[1w’l n ttmの帯状の部分(第5図参照)の
み貫通孔径を180μとして、開孔率fo、 n 5憾
に増加させた。これによってコーター1′の先端に対向
する部分の浮き旬は金印にわたって10μ以内の差に抑
えられた。この結果搬送速度を毎分120mに上げて実
施例−7と同じ冬作の塗布を行なっても、縦筋状の塗布
ムラ等の全く無い良好な塗布層が得られた。
4゜図面の簡単な1ttj?、明 第1図は本発明の一実施例を示す塗布装置の縦断面図で
あり、塗布方法としてスライドホッパーによる二層塗布
方式を採用し、連続的に支持体の両面に塗布する場合を
示している。第2図は本発明に用いられる気体噴出器の
一例を示す縦断面図である。第3図は本発明に用いられ
る気体噴出器の他の一例を示す縦断面図、第4図及び第
5図は本発明に用いられる気体噴出器の他の−f11を
示す側面図ならびKA力方向ら見た正面図、第6図は本
発明に用いられる気体噴出器の他の一例を示す縦断面図
である。
図中、1−、1’はコーター、2は支持体、3は支持ロ
ール、3′は気体噴出器、4.11は塗布層、9は気体
噴出器外表面、10は貫通孔、15け突出部、/Jま貫
通孔の長さ、dはその直径、hは突出部の高さ、Wはそ
の巾を示す。
特許出願人  小西六写真工業株式会社手続補正書(自
発) 昭和58年5月29日 特許庁長官 若 杉 和 夫 殿 1 事件の表示 昭和58年特許願第38417号 2 発明の名称 塗布装置 3 補正をする者 事件との関係   出願人 名  称 (127)小西六写真工業株式会社4代理人
 〒105 6 補正により増加する発明の数 7 補正の対象 補正の内容(時第1V158−38417)!!11細
書について下記の通り補正する。
1 第2頁第12行に「特に適したjとあるを「適した
」と補正する。
? 第12頁第18行に「において貫通孔の」とあるを
[において各貫通孔の」と補正する。
3  fis l 3頁第8行に「には、気体噴出」と
あるを[には、弔に気体噴出」と補正する。
4 第13頁第11〜12行に「しても中央部・・・起
こったりするだけで」とあるを「しても、それだけでは
、中央部への気体のまわりこみが起こったりして」と補
正する。
5 第14頁第5行に[部分より大きくjとあるを[部
分より特に大きく]と補1Fする。
6 第15頁第1行に「特にここで」とあるを「しかも
ここで」と補正する。
7 第19頁第17〜18行に「すなわち貫通゛jシの
最狭部の」とあるな「すなわち開孔率の」と補正する。
8 第20頁第2〜10行に[該噴出器の・・争・すれ
ばよい。」とあるを下記の通り補正する。
記 該噴出器の開孔率を任意に変更できる構成を採用すれば
よい。例えば、第6図に示す如く、各々種々のパターン
の貫通孔を有する2又はそれ以」−の気体噴出器を2重
又はそれ以上に互いにスライド可能になるように多層構
成にし、支持体11に応じて気体噴出器をスライドさせ
ることによって、重なり合う貫通孔の数を調整する(図
面」−矢符方向に回動する)ことで、実際に気体を噴出
する貫通孔の数を変えられるようにすればよい。なお、
多層構成にした気体噴出器の貫通孔のパターンは同種パ
ターン(第6図)であってもよいし、異種パターンであ
ってもよいことはもとよりである。
9第20頁第19〜20行に「開孔率を・・・してもよ
い。」とあるを「開孔率をその他の部分に比して両端部
の方ではるかに大きくするようにしてもよい。」と補正
する。
】0 第22頁第6行に「ことが望ましい。」とあるを
「ことができる。」と補正する。
J、−ノー−に一

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)  連続的に走行する支持体をはさんで、互いに
    ほぼ対向する位置にコーターと気体噴出器を配設し、該
    気体噴出器から前記支持体に向かって気体を噴出するこ
    とにより、前記支持体を無接触で支持しながら前記コー
    ターによって塗布を行なう塗布装置において、前記気体
    噴出器外表面から単位面積あたりに噴出される気体量が
    、前記支持体中が広くなるほど少なくなる様に、前記気
    体噴出器の開孔率が調整されていることを特徴とする塗
    布装置。
  2. (2)気体噴出器外表面のうち、支持体の中手方向両端
    に対向する位置に、該支持体と接触しない帯状の突出部
    を設けることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の
    塗布装置。
  3. (3)  気体噴出器の開孔率が、支持体の巾手力向の
    両端部において、中央部より大きくなっていることを特
    徴とする特許請求の範囲第1項又は第2項記載の塗布装
    置。
JP3641783A 1983-03-05 1983-03-05 塗布装置 Granted JPS59162977A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3641783A JPS59162977A (ja) 1983-03-05 1983-03-05 塗布装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3641783A JPS59162977A (ja) 1983-03-05 1983-03-05 塗布装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS59162977A true JPS59162977A (ja) 1984-09-13
JPH0377973B2 JPH0377973B2 (ja) 1991-12-12

Family

ID=12469245

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP3641783A Granted JPS59162977A (ja) 1983-03-05 1983-03-05 塗布装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS59162977A (ja)

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0377973B2 (ja) 1991-12-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2581975B2 (ja) 塗布装置
US4681062A (en) Coating apparatus
JPH0677711B2 (ja) 塗布装置
EP0018029B1 (en) Method and device for slide hopper multilayer coating
JP2601367B2 (ja) 塗布方法
JPH0218902B2 (ja)
JPS59150571A (ja) 可撓性支持体の表面付着物除去方法
US4985284A (en) Coating method
US5545256A (en) Coating apparatus
US5525373A (en) Slide-bead coating technique utiling an air flow pulse
JPS59162977A (ja) 塗布装置
US5827369A (en) Coating apparatus
US5226963A (en) Coating method and apparatus of an extrusion-type coating head having a filtering element therefor
JP2001113216A (ja) 塗布製造物、塗布製造装置および塗布製造方法
JPS63164022A (ja) 磁性液の塗布方法
US4561378A (en) Coating apparatus
JP2724399B2 (ja) ウエブ塗布装置
JP4743482B2 (ja) 塗布液の塗布方法、および塗布装置
JPS6320070A (ja) 塗布装置
JPH0235959A (ja) 塗布装置
JPH02211270A (ja) ウエブ塗布装置
JPH02211272A (ja) ウエブ塗布装置
JP2000167465A (ja) 塗布装置
JP2007260558A (ja) グラビア塗布方法
JPH01224925A (ja) 磁気記録媒体製造用磁性液の塗布装置