JPH0218902B2 - - Google Patents
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- JPH0218902B2 JPH0218902B2 JP56175801A JP17580181A JPH0218902B2 JP H0218902 B2 JPH0218902 B2 JP H0218902B2 JP 56175801 A JP56175801 A JP 56175801A JP 17580181 A JP17580181 A JP 17580181A JP H0218902 B2 JPH0218902 B2 JP H0218902B2
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- B05D1/26—Processes for applying liquids or other fluent materials performed by applying the liquid or other fluent material from an outlet device in contact with, or almost in contact with, the surface
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/74—Applying photosensitive compositions to the base; Drying processes therefor
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- G03C2001/7403—Air jets
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、被塗布支持体を浮かせて塗布する方
法に関する。更に詳しくは、写真感光材料等の被
塗布支持体の塗布面とは反対側の面を無接触支持
させながら連続状に走行させて１種または２種以
上の塗布液を塗布する方法に関し、とくに連続的
な両面塗布を行なうのに適切な塗布方法に関す
る。
法に関する。更に詳しくは、写真感光材料等の被
塗布支持体の塗布面とは反対側の面を無接触支持
させながら連続状に走行させて１種または２種以
上の塗布液を塗布する方法に関し、とくに連続的
な両面塗布を行なうのに適切な塗布方法に関す
る。
従来、被塗布支持体の両面に塗布層を有する写
真感光材料の製造においては、該支持体の片面に
塗布液を塗布し、ゲル化して乾燥させた後、同じ
工程をもう一度通過させて、もう一方の面に塗布
液を塗布・ゲル化・乾燥させていたが、生産効率
を上げる要請から塗布・乾燥工程を１度通過させ
るだけで支持体の両面に塗布層を形成する両面塗
布法が種々提案されている。その中の１つに、先
ず被塗布支持体の片面に塗布し、ゲル化した後、
反対面に連続して塗布する方法がある。この方法
には、(i)特公昭48−44171号公報に記載の如く、
被塗布支持体の片面に塗布し、ゲル化した後、ゲ
ル化した面を支持ロールに直接接触させて反対面
に塗布する方法、あるいは(ii)特公昭49−17853号、
特公昭51−38737号の各公報に記載の如く、ある
曲率をもつた支持ロール（気体噴出器）面から気
体を噴出して被塗布支持体を浮上させ、反対面に
塗布する方法等がある。前記(i)の如き方法では、
支持ロールに少しでも傷・塵挨があるとそのまま
塗布故障となり、メンテナンスが非常に困難であ
ること、たとえ傷・塵挨がないとしても、塗布の
開始部分、スプライス部分等の塗布膜厚に変動の
ある箇所が支持ロールに接触して通過する時には
塗布層を乱し、ロールにその一部分が付着して後
に続く塗布層を乱す等の欠点を有している。又、
前記(ii)の方法においては、被塗布支持体の張力変
動などによる該被塗布支持体の浮上距離（浮き
量）の微少変動により、横段状の塗布ムラを発生
し易い欠点がある。特に、特公昭49−17853号公
報に記載の技術の如く、小孔もしくはスリツトを
有するロール曲面から気体を噴出させて被塗布支
持体を浮上させ、塗布機先端を支持体面に押付け
て塗布する方法においては、支持体端部でその傾
向が著しく、また、特公昭51−38737号公報に記
載の技術の如く、被塗布支持体の両端縁を支承す
るロールを設けて浮上させ塗布する装置において
は、被塗布支持体中央付近で、その傾向が著し
い。
真感光材料の製造においては、該支持体の片面に
塗布液を塗布し、ゲル化して乾燥させた後、同じ
工程をもう一度通過させて、もう一方の面に塗布
液を塗布・ゲル化・乾燥させていたが、生産効率
を上げる要請から塗布・乾燥工程を１度通過させ
るだけで支持体の両面に塗布層を形成する両面塗
布法が種々提案されている。その中の１つに、先
ず被塗布支持体の片面に塗布し、ゲル化した後、
反対面に連続して塗布する方法がある。この方法
には、(i)特公昭48−44171号公報に記載の如く、
被塗布支持体の片面に塗布し、ゲル化した後、ゲ
ル化した面を支持ロールに直接接触させて反対面
に塗布する方法、あるいは(ii)特公昭49−17853号、
特公昭51−38737号の各公報に記載の如く、ある
曲率をもつた支持ロール（気体噴出器）面から気
体を噴出して被塗布支持体を浮上させ、反対面に
塗布する方法等がある。前記(i)の如き方法では、
支持ロールに少しでも傷・塵挨があるとそのまま
塗布故障となり、メンテナンスが非常に困難であ
ること、たとえ傷・塵挨がないとしても、塗布の
開始部分、スプライス部分等の塗布膜厚に変動の
ある箇所が支持ロールに接触して通過する時には
塗布層を乱し、ロールにその一部分が付着して後
に続く塗布層を乱す等の欠点を有している。又、
前記(ii)の方法においては、被塗布支持体の張力変
動などによる該被塗布支持体の浮上距離（浮き
量）の微少変動により、横段状の塗布ムラを発生
し易い欠点がある。特に、特公昭49−17853号公
報に記載の技術の如く、小孔もしくはスリツトを
有するロール曲面から気体を噴出させて被塗布支
持体を浮上させ、塗布機先端を支持体面に押付け
て塗布する方法においては、支持体端部でその傾
向が著しく、また、特公昭51−38737号公報に記
載の技術の如く、被塗布支持体の両端縁を支承す
るロールを設けて浮上させ塗布する装置において
は、被塗布支持体中央付近で、その傾向が著し
い。
そこで、本発明の目的は、上述の如き欠点を解
消し、被塗布支持体の浮上距離（浮き量）の変動
を抑えて気体噴出器に無接触支持させ、反対面に
均一に塗布する方法を提供すると共に、それによ
つて被塗布支持体の両面に連続して塗布すること
ができる塗布方法を提供するにある。
消し、被塗布支持体の浮上距離（浮き量）の変動
を抑えて気体噴出器に無接触支持させ、反対面に
均一に塗布する方法を提供すると共に、それによ
つて被塗布支持体の両面に連続して塗布すること
ができる塗布方法を提供するにある。
本発明のその他の目的は、本明細書の以下の記
述によつて明らかにされる。
述によつて明らかにされる。
本発明の上記目的は、連続的に走行する支持体
をはさんで、互いにほぼ対向する位置にコーター
と気体噴出器を配設し、該気体噴出器から前記支
持体に向つて気体を噴出することにより、前記支
持体を無接触で支持しながら、前記コーターによ
つて塗布を行なう塗布方法において、前記支持体
と噴出器との間隙に発生する支持静圧が、前記噴
出器へ送り込まれる気体の供給圧（ゲージ圧、本
明細書において全てこの意味である。）の1/10〜
１／１０００となり、かつ、前記コーターによる塗布液
の接触部における浮き量が20〜500μとなるよう
に、前記供給圧、前記噴出器内の圧力損失および
前記支持体に加える張力を設定して塗布すること
によつて達成される。
をはさんで、互いにほぼ対向する位置にコーター
と気体噴出器を配設し、該気体噴出器から前記支
持体に向つて気体を噴出することにより、前記支
持体を無接触で支持しながら、前記コーターによ
つて塗布を行なう塗布方法において、前記支持体
と噴出器との間隙に発生する支持静圧が、前記噴
出器へ送り込まれる気体の供給圧（ゲージ圧、本
明細書において全てこの意味である。）の1/10〜
１／１０００となり、かつ、前記コーターによる塗布液
の接触部における浮き量が20〜500μとなるよう
に、前記供給圧、前記噴出器内の圧力損失および
前記支持体に加える張力を設定して塗布すること
によつて達成される。
本発明者らは、従来の無接触支持による塗布方
法について種々検討した結果、以下のことが判明
した。即ち、上記無接触支持技術の本質は、被塗
布支持体を気体噴出器上で浮上させるために互い
に近接する該支持体と該気体噴出器外表面との間
隙に周囲圧（支持体の該コーターによる被塗布面
側の圧力）より高い静圧を有する高静圧空間を形
成することにあり、この高静圧によつて該支持体
を無接触で支持するのである（以下、この様に無
接触支持のための高静圧が発生している部分を無
接触支持部と呼ぶ）。本発明における無接触支持
の方法も同様であるが、張力のかかつた支持体に
該張力に垂直な方向の力を加えて、これを湾曲さ
せて支持しようとする場合、該湾曲部分では一般
にＴ／Ｒ（Ｔ：該支持体に加えられる張力、Ｒ：
該湾曲部分の曲率半径）で表わされる圧力（以
下、背圧と呼ぶ。）が支持体を支持するために加
えられた力の反対方向に発生するので、前記高静
圧空間の静圧即ち、支持静圧はこの背圧に等しく
なければならないことになる。逆に言えば、背圧
と支持静圧が等しくなる浮き量になるように支持
体は変動するのである。
法について種々検討した結果、以下のことが判明
した。即ち、上記無接触支持技術の本質は、被塗
布支持体を気体噴出器上で浮上させるために互い
に近接する該支持体と該気体噴出器外表面との間
隙に周囲圧（支持体の該コーターによる被塗布面
側の圧力）より高い静圧を有する高静圧空間を形
成することにあり、この高静圧によつて該支持体
を無接触で支持するのである（以下、この様に無
接触支持のための高静圧が発生している部分を無
接触支持部と呼ぶ）。本発明における無接触支持
の方法も同様であるが、張力のかかつた支持体に
該張力に垂直な方向の力を加えて、これを湾曲さ
せて支持しようとする場合、該湾曲部分では一般
にＴ／Ｒ（Ｔ：該支持体に加えられる張力、Ｒ：
該湾曲部分の曲率半径）で表わされる圧力（以
下、背圧と呼ぶ。）が支持体を支持するために加
えられた力の反対方向に発生するので、前記高静
圧空間の静圧即ち、支持静圧はこの背圧に等しく
なければならないことになる。逆に言えば、背圧
と支持静圧が等しくなる浮き量になるように支持
体は変動するのである。
即ち、前記高静圧空間では、常に気体噴出器か
ら気体が流入する一方、外部へ流出する際には、
前記支持体と噴出器との狭い間隙を通るため、そ
の間隙の厚み、即ち浮き量に応じた流路抵抗を受
けるので気体流入量と前記流路抵抗に見合つた高
静圧が維持される。このことから気体噴出量、支
持静圧（＝背圧）、浮き量の関係を見てみると、
背圧が一定とすれば、気体噴出量が多いほど浮き
量は大きくなるが、気体噴出量も不変のときは、
浮き量も流路抵抗に見合つて一定に維持される。
例えば、他の条件が不変であつたにもかかわら
ず、浮き量が増加したとすると、前記間隙におけ
る流路抵抗は低下するから、そのときの支持静圧
を維持することができなくなり、支持静圧も低下
する。浮き量が増加すれば、Ｔ／ＲのＲが大きく
なつて背圧も減少するが、その割合は支持静圧の
減少よりはるかに小さいため、背圧が相対的に大
きくなつて、支持体は気体噴出器方向に押され、
浮き量が減少し、それにともなつて、流路抵抗が
上昇し、結局、背圧に等しい支持静圧を維持でき
る浮き量、即ち、この場合は変動前の浮き量に落
ち着くことになる。この様な浮き量の決定される
プロセスは、最初に背圧が変動しても同様で、常
に浮き量は、背圧と支持静圧が等しくなる様に変
動して、かつその時の気体噴出量に応じた値をと
るのである。前記(ii)に記載の塗布方法および塗布
装置における横段状の塗布ムラは、この様に浮き
量が変動することに起因しており、この場合の変
動巾は、数十μにも及んでいることがわかつた。
この現象を解析すると、根本の原因は、支持体張
力の変動にあり、これが、Ｔ／Ｒすなわち背圧の
変動をひき起こしているのであるが、さらにこの
場合はそれだけにとどまらず、気体噴出量の変動
まで起こるため浮き量の変動が大巾なものになつ
ているのである。気体噴出器より気体が噴出され
るのは、供給圧と支持静圧との差圧がドライビン
グ・フオースになつているからだが、背圧変動に
ともなつて浮き量変動が起こつたとき、前述の様
に支持静圧は背圧に等しくなる様に変動するか
ら、例えば背圧が増加すれば浮き量は減少し支持
静圧は増加するため、供給圧が一定だとすると前
記差圧は減少するから気体噴出量も減少して、浮
き量減少は増巾されてしまう。これは背圧が減少
した場合も同様で、いずれも浮量変動は増巾され
る。
ら気体が流入する一方、外部へ流出する際には、
前記支持体と噴出器との狭い間隙を通るため、そ
の間隙の厚み、即ち浮き量に応じた流路抵抗を受
けるので気体流入量と前記流路抵抗に見合つた高
静圧が維持される。このことから気体噴出量、支
持静圧（＝背圧）、浮き量の関係を見てみると、
背圧が一定とすれば、気体噴出量が多いほど浮き
量は大きくなるが、気体噴出量も不変のときは、
浮き量も流路抵抗に見合つて一定に維持される。
例えば、他の条件が不変であつたにもかかわら
ず、浮き量が増加したとすると、前記間隙におけ
る流路抵抗は低下するから、そのときの支持静圧
を維持することができなくなり、支持静圧も低下
する。浮き量が増加すれば、Ｔ／ＲのＲが大きく
なつて背圧も減少するが、その割合は支持静圧の
減少よりはるかに小さいため、背圧が相対的に大
きくなつて、支持体は気体噴出器方向に押され、
浮き量が減少し、それにともなつて、流路抵抗が
上昇し、結局、背圧に等しい支持静圧を維持でき
る浮き量、即ち、この場合は変動前の浮き量に落
ち着くことになる。この様な浮き量の決定される
プロセスは、最初に背圧が変動しても同様で、常
に浮き量は、背圧と支持静圧が等しくなる様に変
動して、かつその時の気体噴出量に応じた値をと
るのである。前記(ii)に記載の塗布方法および塗布
装置における横段状の塗布ムラは、この様に浮き
量が変動することに起因しており、この場合の変
動巾は、数十μにも及んでいることがわかつた。
この現象を解析すると、根本の原因は、支持体張
力の変動にあり、これが、Ｔ／Ｒすなわち背圧の
変動をひき起こしているのであるが、さらにこの
場合はそれだけにとどまらず、気体噴出量の変動
まで起こるため浮き量の変動が大巾なものになつ
ているのである。気体噴出器より気体が噴出され
るのは、供給圧と支持静圧との差圧がドライビン
グ・フオースになつているからだが、背圧変動に
ともなつて浮き量変動が起こつたとき、前述の様
に支持静圧は背圧に等しくなる様に変動するか
ら、例えば背圧が増加すれば浮き量は減少し支持
静圧は増加するため、供給圧が一定だとすると前
記差圧は減少するから気体噴出量も減少して、浮
き量減少は増巾されてしまう。これは背圧が減少
した場合も同様で、いずれも浮量変動は増巾され
る。
本発明者らは、上記の様な現象の把握にもとづ
いて本発明を完成したものであり前記気体噴出器
外表面から無接触支持部において噴出される気体
量を一定に保つことにより、横段状の塗布ムラの
発生を防止することに成功したのである。即ち、
外乱による支持体張力の変動があつても、前述の
様な気体噴出量の変動が無ければ、浮き量変動は
最小限になり、横段状の塗布ムラを誘発しないの
である。
いて本発明を完成したものであり前記気体噴出器
外表面から無接触支持部において噴出される気体
量を一定に保つことにより、横段状の塗布ムラの
発生を防止することに成功したのである。即ち、
外乱による支持体張力の変動があつても、前述の
様な気体噴出量の変動が無ければ、浮き量変動は
最小限になり、横段状の塗布ムラを誘発しないの
である。
次に本発明に係る塗布方法について、その実施
に用いられる塗布装置の一例に基づき、詳述す
る。
に用いられる塗布装置の一例に基づき、詳述す
る。
第１図は本発明の一実施例を示す塗布装置の縦
断面図であり、塗布方法としてスライドホツパー
による二層塗布方式を採用し、連続的に支持体の
両面に写真用感光液を塗布する場合を示してい
る。第２図は本発明に用いられる気体噴出器の一
例を示す縦断面図である。第３図は支持体の引張
張力と無接触支持部の塗布液接触部における支持
体の浮き量との関係を示すグラフであつて、Ａ曲
線が従来方式による場合、Ｂ曲線が本発明方式に
よる場合を示す。
断面図であり、塗布方法としてスライドホツパー
による二層塗布方式を採用し、連続的に支持体の
両面に写真用感光液を塗布する場合を示してい
る。第２図は本発明に用いられる気体噴出器の一
例を示す縦断面図である。第３図は支持体の引張
張力と無接触支持部の塗布液接触部における支持
体の浮き量との関係を示すグラフであつて、Ａ曲
線が従来方式による場合、Ｂ曲線が本発明方式に
よる場合を示す。
第１図において、被塗布支持体２は、先ず支持
ロール３に直接接触してコーター１にて従来公知
の方法で塗布される。塗布された塗布層４をゲル
化させるため、該支持体２は冷風ゾーン８を通過
する。該冷風ゾーン８ではスリツト板もしくは小
孔群７により塗布面４に冷風を当て、更に冷却効
率を上げるため、支持体２の塗布されていない面
側に２〜３mmの間隔を置いて且つ中央ボツクス５
に設定されたロール群６を接触させ、その反対側
からサクシヨンしてロール群６との接触面積を増
大させ、塗布層４を冷却ゲル化することが望まし
い。ゲル化された塗布層４を有する支持体２は続
いて気体噴出器３′の無接触支持部にてその反対
面に塗布層１１が前記支持体２をはさんで、前記
気体噴出器３′に対向して配設されたコーター
１′により塗布される。気体噴出器３′としては、
様々な形態が可能であるが、製作上の容易さ等か
ら最も一般的と考えられるロール形式のものにつ
いて例示する。気体噴出器３′は中空のロールに
なつており、その外殻の無接触支持部に相当する
部分には複数個の気体噴出用の貫通孔１０を有
し、内部に供給された気体は、該貫通孔１０を通
つてロール外表面９から、ゲル化された塗布層４
の面に噴出して被塗布支持体２を無接触の状態で
支持するものであるが、写真感光材料の製造にお
いては、塗布された層の湿潤状態又は乾燥後の膜
厚は通常１％以下の変動に抑える必要があり、そ
のためにはコーター１′の先端部と被塗布支持体
２の塗布されるべき面との間隙をできるだけ一定
に保つ必要がある。この間隙の許容されるべき変
動幅は、種々検討を重ねた結果、数μ以下、最大
でも10μ以下に抑える必要のあることがわかつ
た。
ロール３に直接接触してコーター１にて従来公知
の方法で塗布される。塗布された塗布層４をゲル
化させるため、該支持体２は冷風ゾーン８を通過
する。該冷風ゾーン８ではスリツト板もしくは小
孔群７により塗布面４に冷風を当て、更に冷却効
率を上げるため、支持体２の塗布されていない面
側に２〜３mmの間隔を置いて且つ中央ボツクス５
に設定されたロール群６を接触させ、その反対側
からサクシヨンしてロール群６との接触面積を増
大させ、塗布層４を冷却ゲル化することが望まし
い。ゲル化された塗布層４を有する支持体２は続
いて気体噴出器３′の無接触支持部にてその反対
面に塗布層１１が前記支持体２をはさんで、前記
気体噴出器３′に対向して配設されたコーター
１′により塗布される。気体噴出器３′としては、
様々な形態が可能であるが、製作上の容易さ等か
ら最も一般的と考えられるロール形式のものにつ
いて例示する。気体噴出器３′は中空のロールに
なつており、その外殻の無接触支持部に相当する
部分には複数個の気体噴出用の貫通孔１０を有
し、内部に供給された気体は、該貫通孔１０を通
つてロール外表面９から、ゲル化された塗布層４
の面に噴出して被塗布支持体２を無接触の状態で
支持するものであるが、写真感光材料の製造にお
いては、塗布された層の湿潤状態又は乾燥後の膜
厚は通常１％以下の変動に抑える必要があり、そ
のためにはコーター１′の先端部と被塗布支持体
２の塗布されるべき面との間隙をできるだけ一定
に保つ必要がある。この間隙の許容されるべき変
動幅は、種々検討を重ねた結果、数μ以下、最大
でも10μ以下に抑える必要のあることがわかつ
た。
本発明によれば、気体噴出器３′を貫通孔１０
を有する中空ロールで構成した場合は、該貫通孔
１０の最狭小部の直径ｄ（第２図）ならびに長さ
ｌ（第２図）開孔率（無接触支持部において、各
貫通孔１０の最狭小部の断面積の総和が気体噴出
器３′外表面に占める割合）、そしてロール外径を
適当に決めれば、支持体張力と供給圧を調整する
ことによつて、支持静圧（＝背圧）と供給圧の比
を1/10〜1/1000、塗布液接触部における浮き量を
20〜500μの範囲でそれぞれ一つの値をとる様に
することが可能で、これによつて被塗布可撓性支
持体の浮き量変動を上記許容巾内に抑えることが
できる。以下、このことについて詳述する。
を有する中空ロールで構成した場合は、該貫通孔
１０の最狭小部の直径ｄ（第２図）ならびに長さ
ｌ（第２図）開孔率（無接触支持部において、各
貫通孔１０の最狭小部の断面積の総和が気体噴出
器３′外表面に占める割合）、そしてロール外径を
適当に決めれば、支持体張力と供給圧を調整する
ことによつて、支持静圧（＝背圧）と供給圧の比
を1/10〜1/1000、塗布液接触部における浮き量を
20〜500μの範囲でそれぞれ一つの値をとる様に
することが可能で、これによつて被塗布可撓性支
持体の浮き量変動を上記許容巾内に抑えることが
できる。以下、このことについて詳述する。
被塗布支持体２の変動を引起す主な原因は、塗
布層１１を塗設されたのち該支持体２が気体噴出
器曲面９による無接触支持部を通過するとフリー
の状態になり、一時期は全く支持されない状態に
なることにより、支持体２が走行方向に直角な方
向へ振れること、あるいは搬送系そのものに起因
する支持体２の張力変動である。
布層１１を塗設されたのち該支持体２が気体噴出
器曲面９による無接触支持部を通過するとフリー
の状態になり、一時期は全く支持されない状態に
なることにより、支持体２が走行方向に直角な方
向へ振れること、あるいは搬送系そのものに起因
する支持体２の張力変動である。
そこで、この支持体２の張力変動と浮き量変動
の関係を調べるため、支持体２に加える張力を変
化させて、気体噴出器外表面９とゲル化された塗
布層４の表面との距離、即ち浮き量を、無接触支
持部の塗布液接触部において測定した結果をグラ
フ化したものが第３図である。第３図Ａ・Ｂ両曲
線はいずれも気体噴出器３′を外殻に複数の貫通
孔１０を有する中空のロール（第２図参照）によ
つて構成したものを用いて測定した結果である
が、Ａ曲線ではロール外表面の半径を100mm、気
体噴出孔の直径ｄを２mm、長さｌを５mm、開孔率
を１％、供給圧を0.05Kg／cm2とした場合、支持体
張力を0.1Kg／cmとすると、背圧は0.01Kg／cm2、
浮き量は約250μとなるが、支持静圧と供給圧の
比は1/5であり、ここで10％すなわち0.01Kg／cm
の張力変動があると浮き量変動は数十μにも及び
横段状の塗布ムラを生じてしまう。一方、他の条
件を同じにして、気体噴出孔の直径ｄを0.3mm、
開孔率を0.1％、供給圧を0.1Kg／cm2とした場合を
示したものがＢ曲線で、支持静圧と供給圧の比が
１／１０となる様に張力を0.1Kg／cmとすると、浮き
量は100μとなり、ここでは10％の張力変動があ
つても、浮き量の変動は最大10μに抑えられ横段
状の塗布ムラは生じない。このように横段状の塗
布ムラを生じさせないためには浮き量の変動を最
小限に抑える必要があり、そのためには第３図の
グラフにおいて、通常使用される張力範囲で曲線
の接線がなるべく水平に近づくことが望ましい。
そのためには、第３図において明らかな様に、張
力を上げ、浮き量を小さくするほど良いわけだ
が、支持体の強度、搬送系の問題、無接触支持部
での接触の危険性等からいずれも、かなり限定さ
れてしまう。よつて、技術課題とすべきことは、
曲線の型をＡ曲線よりもＢ曲線の型に基づく条件
設定をすることである。これを実現する手段は、
前述した様に、支持体張力の変動、すなわち支持
静圧の変動があつても、常にほとんど不変の気体
噴出量の得られる様な気体噴出器を用いることで
ある。理想的な方法は、支持体張力の変動に応じ
て供給圧を変化させ、一定浮き量に保てる様な気
体噴出量を常に与えることであるが突発的な支持
体張力の変動に即座に対応して供給圧を変化させ
ることは非常に困難であり、実際にはこれを行な
つても、供給圧、噴出量とも変化する際に応答の
遅れがでて、かえつて浮き量の不安定さを増して
しまうことになる。そこで、本発明においては、
気体噴出のドライビングフオースである供給圧と
支持静圧の差圧を一定に維持することによつて気
体噴出量を不変に保つこととしている。該差圧の
主たる変動要因は、支持体張力変動に伴う支持静
圧の変動で、時としてこれが供給圧の変動さえも
ひき起こすが、支持静圧の変動に応じて供給圧を
変えて、該差圧を一定に保つのでは前記の方法と
同じことで応答の遅れなどの問題があり、上記目
的は達成できない。即ち本発明は、支持静圧に対
して供給圧を充分大きくとつて支持静圧の該差圧
に対する影響を相対的に小さくして、支持静圧が
変動しても、該差圧は実質的には変動しない様に
するというものである。例えば、供給圧を支持静
圧の10倍とすれば、支持静圧が10％変動したとし
ても、該差圧の変動は約１％となるわけである。
の関係を調べるため、支持体２に加える張力を変
化させて、気体噴出器外表面９とゲル化された塗
布層４の表面との距離、即ち浮き量を、無接触支
持部の塗布液接触部において測定した結果をグラ
フ化したものが第３図である。第３図Ａ・Ｂ両曲
線はいずれも気体噴出器３′を外殻に複数の貫通
孔１０を有する中空のロール（第２図参照）によ
つて構成したものを用いて測定した結果である
が、Ａ曲線ではロール外表面の半径を100mm、気
体噴出孔の直径ｄを２mm、長さｌを５mm、開孔率
を１％、供給圧を0.05Kg／cm2とした場合、支持体
張力を0.1Kg／cmとすると、背圧は0.01Kg／cm2、
浮き量は約250μとなるが、支持静圧と供給圧の
比は1/5であり、ここで10％すなわち0.01Kg／cm
の張力変動があると浮き量変動は数十μにも及び
横段状の塗布ムラを生じてしまう。一方、他の条
件を同じにして、気体噴出孔の直径ｄを0.3mm、
開孔率を0.1％、供給圧を0.1Kg／cm2とした場合を
示したものがＢ曲線で、支持静圧と供給圧の比が
１／１０となる様に張力を0.1Kg／cmとすると、浮き
量は100μとなり、ここでは10％の張力変動があ
つても、浮き量の変動は最大10μに抑えられ横段
状の塗布ムラは生じない。このように横段状の塗
布ムラを生じさせないためには浮き量の変動を最
小限に抑える必要があり、そのためには第３図の
グラフにおいて、通常使用される張力範囲で曲線
の接線がなるべく水平に近づくことが望ましい。
そのためには、第３図において明らかな様に、張
力を上げ、浮き量を小さくするほど良いわけだ
が、支持体の強度、搬送系の問題、無接触支持部
での接触の危険性等からいずれも、かなり限定さ
れてしまう。よつて、技術課題とすべきことは、
曲線の型をＡ曲線よりもＢ曲線の型に基づく条件
設定をすることである。これを実現する手段は、
前述した様に、支持体張力の変動、すなわち支持
静圧の変動があつても、常にほとんど不変の気体
噴出量の得られる様な気体噴出器を用いることで
ある。理想的な方法は、支持体張力の変動に応じ
て供給圧を変化させ、一定浮き量に保てる様な気
体噴出量を常に与えることであるが突発的な支持
体張力の変動に即座に対応して供給圧を変化させ
ることは非常に困難であり、実際にはこれを行な
つても、供給圧、噴出量とも変化する際に応答の
遅れがでて、かえつて浮き量の不安定さを増して
しまうことになる。そこで、本発明においては、
気体噴出のドライビングフオースである供給圧と
支持静圧の差圧を一定に維持することによつて気
体噴出量を不変に保つこととしている。該差圧の
主たる変動要因は、支持体張力変動に伴う支持静
圧の変動で、時としてこれが供給圧の変動さえも
ひき起こすが、支持静圧の変動に応じて供給圧を
変えて、該差圧を一定に保つのでは前記の方法と
同じことで応答の遅れなどの問題があり、上記目
的は達成できない。即ち本発明は、支持静圧に対
して供給圧を充分大きくとつて支持静圧の該差圧
に対する影響を相対的に小さくして、支持静圧が
変動しても、該差圧は実質的には変動しない様に
するというものである。例えば、供給圧を支持静
圧の10倍とすれば、支持静圧が10％変動したとし
ても、該差圧の変動は約１％となるわけである。
ここで、技術的課題としなければならない、も
う一つのことは、支持体浮き量の絶対的な大きさ
であつて、第３図に示した様に、浮き量がある程
度大きくなつてくると、わずかの張力変動に対し
て浮き量が大きく変動してしまう。これは、支持
静圧が、支持体２と気体噴出器外表面９との間隙
における流路抵抗によつて維持されているためで
あつて、浮き量が大きくなると流路抵抗の該間隙
の広さ、即ち浮き量に対する依存性が小さくな
り、わずかな流路抵抗の変化に、浮き量の大巾な
変動が対応することになるからである。このよう
に浮き量変動を最小に抑えるためには、浮き量の
大きさ自体をあまり大きくしないことも必要なわ
けである。前述した様に、浮き量変動を小さく抑
えなくてはならない理由は、コーター１′の先端
と支持体２の塗布される面との間隙を一定に保つ
ためであるから、無接触支持部全体において、浮
き量変動を抑える必要は必ずしもなく、該間隙に
直接影響する塗布液接触部における浮き量変動を
前記の通り最大10μ以下に抑えれば、特に問題は
ない。よつて、浮き量の絶対的な大きさも、少な
くともこの塗布液接触部において要求範囲内の値
をとる様にすればよく、その範囲が前述の様な理
由により500μ以下となる。一方、浮き量の最小
限度は、気体噴出器外表面と支持体もしくは支持
体に塗設された塗布層との接触の危険性によつて
決められるが、本発明者らの検討の結果、それは
20μであつた。
う一つのことは、支持体浮き量の絶対的な大きさ
であつて、第３図に示した様に、浮き量がある程
度大きくなつてくると、わずかの張力変動に対し
て浮き量が大きく変動してしまう。これは、支持
静圧が、支持体２と気体噴出器外表面９との間隙
における流路抵抗によつて維持されているためで
あつて、浮き量が大きくなると流路抵抗の該間隙
の広さ、即ち浮き量に対する依存性が小さくな
り、わずかな流路抵抗の変化に、浮き量の大巾な
変動が対応することになるからである。このよう
に浮き量変動を最小に抑えるためには、浮き量の
大きさ自体をあまり大きくしないことも必要なわ
けである。前述した様に、浮き量変動を小さく抑
えなくてはならない理由は、コーター１′の先端
と支持体２の塗布される面との間隙を一定に保つ
ためであるから、無接触支持部全体において、浮
き量変動を抑える必要は必ずしもなく、該間隙に
直接影響する塗布液接触部における浮き量変動を
前記の通り最大10μ以下に抑えれば、特に問題は
ない。よつて、浮き量の絶対的な大きさも、少な
くともこの塗布液接触部において要求範囲内の値
をとる様にすればよく、その範囲が前述の様な理
由により500μ以下となる。一方、浮き量の最小
限度は、気体噴出器外表面と支持体もしくは支持
体に塗設された塗布層との接触の危険性によつて
決められるが、本発明者らの検討の結果、それは
20μであつた。
以上のように気体噴出量を一定に保つこと及び
浮き量の絶対値をあまり大きくしないという条件
に基いて、気体噴出器を検討した結果、供給され
る気体が流入してから流出するまでに大きな圧力
損失を被る様にすることが、該気体噴出器に要求
される必要十分な条件であることがわかつた。
浮き量の絶対値をあまり大きくしないという条件
に基いて、気体噴出器を検討した結果、供給され
る気体が流入してから流出するまでに大きな圧力
損失を被る様にすることが、該気体噴出器に要求
される必要十分な条件であることがわかつた。
本発明者らは、以上の様な考え方に基いて、実
験により種々検討を重ねた結果、写真感光材料等
の様に極めて均一な膜厚分布の要求される塗布の
場合には、既述のごとく、支持静圧が供給圧の1/
１０〜1/1000の範囲、浮き量が塗布液接触部におい
て20〜500μの範囲でそれぞれ一定の値をとる様
に気体噴出器３′の構造、供給圧、支持体張力を
調整して無接触支持することにより、外乱による
浮き量変動を許容巾内に抑えることが可能となつ
た。
験により種々検討を重ねた結果、写真感光材料等
の様に極めて均一な膜厚分布の要求される塗布の
場合には、既述のごとく、支持静圧が供給圧の1/
１０〜1/1000の範囲、浮き量が塗布液接触部におい
て20〜500μの範囲でそれぞれ一定の値をとる様
に気体噴出器３′の構造、供給圧、支持体張力を
調整して無接触支持することにより、外乱による
浮き量変動を許容巾内に抑えることが可能となつ
た。
本発明における該供給圧としては0.05〜５Kg／
cm2の範囲にあることが望ましい。0.05Kg／cm2未満
では、本発明を満足する支持静圧とするには背圧
が0.005Kg／cm2未満となり、わずかの外乱が相対
的に非常に大きな背圧変動となつて浮き量の大巾
変動をひき起こすおそれがある。一方、供給圧が
５Kg／cm2を超える様な場合であるが、理論的には
供給圧は大きいほど好ましいはずだが、実際には
気体噴出器で圧力損失を与える方法に限界があ
り、また気体噴出器で充分な圧力損失を与えられ
ない場合には圧力の高い気体が噴出することにな
つて、これを本発明の浮き量に抑えるためには、
支持体張力が実用範囲を超えてしまつたり、両面
塗布の場合には、既に塗布された塗布層を高圧の
噴出気体が乱してしまう様な現象も起こり得るた
め、供給圧としては５Kg／cm2以内にする方が望ま
しい。しかし、前記供給圧自体の上・下限は、本
発明の要旨とするところではないので、上記範囲
を超える値においても、本発明の実施が可能であ
ることは、容易に想定されるところである。
cm2の範囲にあることが望ましい。0.05Kg／cm2未満
では、本発明を満足する支持静圧とするには背圧
が0.005Kg／cm2未満となり、わずかの外乱が相対
的に非常に大きな背圧変動となつて浮き量の大巾
変動をひき起こすおそれがある。一方、供給圧が
５Kg／cm2を超える様な場合であるが、理論的には
供給圧は大きいほど好ましいはずだが、実際には
気体噴出器で圧力損失を与える方法に限界があ
り、また気体噴出器で充分な圧力損失を与えられ
ない場合には圧力の高い気体が噴出することにな
つて、これを本発明の浮き量に抑えるためには、
支持体張力が実用範囲を超えてしまつたり、両面
塗布の場合には、既に塗布された塗布層を高圧の
噴出気体が乱してしまう様な現象も起こり得るた
め、供給圧としては５Kg／cm2以内にする方が望ま
しい。しかし、前記供給圧自体の上・下限は、本
発明の要旨とするところではないので、上記範囲
を超える値においても、本発明の実施が可能であ
ることは、容易に想定されるところである。
なお、本発明においては、支持体の強度、搬送
系の条件、或いは供給圧等について格別の配慮を
行なうならば、本発明の条件のうちその一部分は
範囲外であつてもよい。即ち、支持静圧が供給圧
の1/2000以下の範囲、かつ浮き量が塗布液接触部
において800μ以下の範囲においても、本発明の
無接触両面塗布が可能である。
系の条件、或いは供給圧等について格別の配慮を
行なうならば、本発明の条件のうちその一部分は
範囲外であつてもよい。即ち、支持静圧が供給圧
の1/2000以下の範囲、かつ浮き量が塗布液接触部
において800μ以下の範囲においても、本発明の
無接触両面塗布が可能である。
次に、本塗布装置の気体噴出器３′を実際に構
成するための手順の代表例を示す。
成するための手順の代表例を示す。
まず、搬送系との関係から実用的な支持体張力
の範囲が決まるので、それに対してここで気体噴
出器の代表例となる中空ロールの外径を、背圧が
適当な範囲に入る様な値に決める。これによつて
本発明の条件によつて供給圧の範囲が決まるか
ら、この範囲より一つの値を選んで気体噴出器で
与えるべき圧力損失を算出して、さらに必要な浮
き量を得るための気体噴出量を考慮することによ
つて、開孔率を適当に仮定して、その時の気体噴
出速度に対して貫通孔１０の直径ｄと長さｌを、
ここで与えるべき圧力損失から算出する。そし
て、あとは実験によつて、実際に必要な気体噴出
量を求めて、これをもとにして開孔率、貫通孔１
０の直径ｄと長さｌを修正することにより前記気
体噴出器３′を得ることができる。
の範囲が決まるので、それに対してここで気体噴
出器の代表例となる中空ロールの外径を、背圧が
適当な範囲に入る様な値に決める。これによつて
本発明の条件によつて供給圧の範囲が決まるか
ら、この範囲より一つの値を選んで気体噴出器で
与えるべき圧力損失を算出して、さらに必要な浮
き量を得るための気体噴出量を考慮することによ
つて、開孔率を適当に仮定して、その時の気体噴
出速度に対して貫通孔１０の直径ｄと長さｌを、
ここで与えるべき圧力損失から算出する。そし
て、あとは実験によつて、実際に必要な気体噴出
量を求めて、これをもとにして開孔率、貫通孔１
０の直径ｄと長さｌを修正することにより前記気
体噴出器３′を得ることができる。
本発明における無接触支持に用いる気体として
は、N2ガス、フレオンガス、空気等、安全上問
題のないものであれば何でも良いが、最も一般的
には空気である。無接触支持部において反対面に
塗布された被塗布支持体２は、その後、図示しな
い冷風ゾーンにおいて無接触の状態で両面に冷風
を当てながら塗布層１１をゲル化した後、図示し
ない無接触乾燥ゾーンへ搬送されていくが、本発
明によれば、この無接触でのゲル化する部分ある
いは無接触乾燥ゾーンにおいて、被塗布支持体が
走行方向に垂直な方向に変動（又は振動）して
も、無接触支持部において吸収されて伝播せず、
均一な塗布が可能であることがわかつた。尚、本
発明で使用する被塗布支持体としては、ポリエチ
レンテレフタレート、三酢酸セルロース等のプラ
スチツクフイルム、ペーパー等写真感光材料用支
持体等を使用することができる。又無接触支持部
での曲面９の材質は特に制約はなく中空部１２の
内圧に耐え得るものであれば何でも良いが、表面
にハードクロムメツキを施した真ちゆう鋼あるい
はステンレス鋼が望ましく、この場合のように貫
通孔１０を設ける際には穴あけ加工の容易さを考
えるとベークライトあるいはアクリル樹脂等のプ
ラスチツク材料も用いることができる。
は、N2ガス、フレオンガス、空気等、安全上問
題のないものであれば何でも良いが、最も一般的
には空気である。無接触支持部において反対面に
塗布された被塗布支持体２は、その後、図示しな
い冷風ゾーンにおいて無接触の状態で両面に冷風
を当てながら塗布層１１をゲル化した後、図示し
ない無接触乾燥ゾーンへ搬送されていくが、本発
明によれば、この無接触でのゲル化する部分ある
いは無接触乾燥ゾーンにおいて、被塗布支持体が
走行方向に垂直な方向に変動（又は振動）して
も、無接触支持部において吸収されて伝播せず、
均一な塗布が可能であることがわかつた。尚、本
発明で使用する被塗布支持体としては、ポリエチ
レンテレフタレート、三酢酸セルロース等のプラ
スチツクフイルム、ペーパー等写真感光材料用支
持体等を使用することができる。又無接触支持部
での曲面９の材質は特に制約はなく中空部１２の
内圧に耐え得るものであれば何でも良いが、表面
にハードクロムメツキを施した真ちゆう鋼あるい
はステンレス鋼が望ましく、この場合のように貫
通孔１０を設ける際には穴あけ加工の容易さを考
えるとベークライトあるいはアクリル樹脂等のプ
ラスチツク材料も用いることができる。
又本発明を実施するに当つては、無接触支持部
においてゲル化された塗布層４に気体が衝突し、
該塗布層４がこの気体の動圧により乱されない様
にするため、無接触支持部に進入する直前の該塗
布層の温度を２〜10℃、好ましくは２〜５℃にし
て塗布層４のゲル強度を上げておくことが望まし
い。
においてゲル化された塗布層４に気体が衝突し、
該塗布層４がこの気体の動圧により乱されない様
にするため、無接触支持部に進入する直前の該塗
布層の温度を２〜10℃、好ましくは２〜５℃にし
て塗布層４のゲル強度を上げておくことが望まし
い。
本発明によれば次のような効果がある。
(1) 被塗布支持体の片面に写真用感光液等の１種
以上の塗布液を塗布した後、該塗布層をゲル化
し、該ゲル化した塗布面を接触させることなく
連続して反対面に塗布する塗布部において、複
雑な装置を用いることなく簡便な装置で被塗布
支持体を浮上させ、浮き量の変動を抑えて、コ
ーター先端部と塗布されるべき面との間隙を正
確に保ちながら、均一な塗布が可能となる。
以上の塗布液を塗布した後、該塗布層をゲル化
し、該ゲル化した塗布面を接触させることなく
連続して反対面に塗布する塗布部において、複
雑な装置を用いることなく簡便な装置で被塗布
支持体を浮上させ、浮き量の変動を抑えて、コ
ーター先端部と塗布されるべき面との間隙を正
確に保ちながら、均一な塗布が可能となる。
(2) それによつて、塗布乾燥工程を１回通過させ
るだけで被塗布支持体の両面にほとんど同時に
塗布できるため、生産効率を飛躍的に増大させ
ることが可能である。
るだけで被塗布支持体の両面にほとんど同時に
塗布できるため、生産効率を飛躍的に増大させ
ることが可能である。
(3) 片面のみの塗布を行なう場合も、従来の有接
触ロール支持にかわつて無接触支持塗布が可能
となつたことにより、気体噴出器に付着した塵
挨が塗布層に影響する転写現象を防止できる。
触ロール支持にかわつて無接触支持塗布が可能
となつたことにより、気体噴出器に付着した塵
挨が塗布層に影響する転写現象を防止できる。
以上本発明について、主に第１図〜第３図に基
いて説明したが、本発明の実施例は、これに限定
されず、気体噴出器としては無接触支持部におい
てその外表面として支持体との間隙に高静圧を保
つため連続した曲面を有し、該曲面から気体が噴
出可能であり、かつ本発明の条件さえ満足すれば
どんなものでも良く、外形がロール状であつた
り、気体を気体噴出器の内部から外部へ通過させ
る部分が貫通孔であつたりする必要はなく、他の
構成の気体噴出器を配した塗布装置でもよい。た
とえば気体噴出器の形としては、半円筒形でも楕
円筒形でも良いし、該気体噴出器の他の１例を示
す第４図のような無接触支持部のみ外表面に曲率
をもたせ、他は平面で構成された様な形も可能で
ある。ただ気体噴出器の形で問題となるのは、無
接触支持部のうち、塗布液接触部に対向する外表
面の曲率半径である。該支持体は無接触支持され
るわけだが、その浮き量は極めて小さいため、湾
曲する支持体の曲率は近接する気体噴出器外表面
の曲率にほぼ等しい。支持体張力はどこでも同じ
だから、無接触支持部における背圧は、気体噴出
器外表面の曲率半径によつて決まることになる。
いて説明したが、本発明の実施例は、これに限定
されず、気体噴出器としては無接触支持部におい
てその外表面として支持体との間隙に高静圧を保
つため連続した曲面を有し、該曲面から気体が噴
出可能であり、かつ本発明の条件さえ満足すれば
どんなものでも良く、外形がロール状であつた
り、気体を気体噴出器の内部から外部へ通過させ
る部分が貫通孔であつたりする必要はなく、他の
構成の気体噴出器を配した塗布装置でもよい。た
とえば気体噴出器の形としては、半円筒形でも楕
円筒形でも良いし、該気体噴出器の他の１例を示
す第４図のような無接触支持部のみ外表面に曲率
をもたせ、他は平面で構成された様な形も可能で
ある。ただ気体噴出器の形で問題となるのは、無
接触支持部のうち、塗布液接触部に対向する外表
面の曲率半径である。該支持体は無接触支持され
るわけだが、その浮き量は極めて小さいため、湾
曲する支持体の曲率は近接する気体噴出器外表面
の曲率にほぼ等しい。支持体張力はどこでも同じ
だから、無接触支持部における背圧は、気体噴出
器外表面の曲率半径によつて決まることになる。
既述の様に、背圧は小さすぎると浮き量変動を
起こしやすくなり、逆に大きすぎると、支持静圧
を対応させることが難しくなるということで、そ
の望ましい範囲を有するから、支持体張力の実用
的な範囲に対応して気体噴出器外表面の曲率半径
も或る範囲内にすることが望ましい。特に、浮き
量変動を極小にしなければならない塗布液接触部
についてはこのことが顕著であり、本発明者らの
検討によれば、この範囲は30〜200mmであつた。
一方、気体噴出器内部に供給された気体を外部へ
と通過させる部分だが、この部分は気体を通過さ
せるとともに圧力損失を与えることが大きな役割
である。この条件さえ満たされればどんな形式で
も良いわけで、貫通孔とする場合もその形は丸穴
でも多角形の穴でも良いし、また第４図に示すご
とく、焼結金属等の多孔質体によつて無接触支持
部の気体噴出器外殻を構成するような形式でも良
い。さらに気体噴出器を中空とせずに、その気体
入口から無接触支持部における外表面に至るまで
すべて前記の様な多孔質体によつて構成すること
も可能である。
起こしやすくなり、逆に大きすぎると、支持静圧
を対応させることが難しくなるということで、そ
の望ましい範囲を有するから、支持体張力の実用
的な範囲に対応して気体噴出器外表面の曲率半径
も或る範囲内にすることが望ましい。特に、浮き
量変動を極小にしなければならない塗布液接触部
についてはこのことが顕著であり、本発明者らの
検討によれば、この範囲は30〜200mmであつた。
一方、気体噴出器内部に供給された気体を外部へ
と通過させる部分だが、この部分は気体を通過さ
せるとともに圧力損失を与えることが大きな役割
である。この条件さえ満たされればどんな形式で
も良いわけで、貫通孔とする場合もその形は丸穴
でも多角形の穴でも良いし、また第４図に示すご
とく、焼結金属等の多孔質体によつて無接触支持
部の気体噴出器外殻を構成するような形式でも良
い。さらに気体噴出器を中空とせずに、その気体
入口から無接触支持部における外表面に至るまで
すべて前記の様な多孔質体によつて構成すること
も可能である。
なお、被塗布支持体の片面及び反対面に塗布す
る方法としては、ビート塗布法、エクストルージ
ヨン塗布法、流延塗布法等従来公知の方法を用い
ることができる。
る方法としては、ビート塗布法、エクストルージ
ヨン塗布法、流延塗布法等従来公知の方法を用い
ることができる。
以下に本発明の具体的実施例をあげる。
実施例 １
第１図に示す塗布装置において、気体噴出器
３′は中空のロールに複数個の気体噴出用貫通孔
１０を有する構成（第２図参照）とし、該ロール
外表面の半径を100mmとし、該貫通孔１０は丸穴
として直径ｄを0.08mm、長さｌを10mm、開孔率を
0.02％とし、空気を、ロール中空部に２Kg／cm2の
ゲージ圧で供給して、貫通孔10より噴出させた。
厚さ0.18mmのポリエチレンテレフタレートフイル
ムに、引張張力0.1Kg／cm巾をかけて、毎分60ｍ
の速度で搬送しながら、コーター（スライドホツ
パー）１によつて、ゼラチンをバインダーとする
レントゲン用ハロゲン化銀乳剤を下層に、また保
護層用ゼラチン水溶液を上層に、それぞれ湿潤時
の膜厚が60μ、20μとなる様に二層同時塗布を行
なつた。続いて、スリツト板７より約５℃に冷却
した空気を塗布面４に吹きつけてゲル化した後、
無接触支持部で上記条件によつて無接触支持しな
がら、次のコーター１′によつてコーター１と同
じ条件で同じく二層同時塗布を行ない、塗布層１
１をゲル化した後、両面とも乾燥した。支持静圧
（＝背圧）は供給圧の1/200になつており、コータ
ー１′における塗布液接触部では浮き量が150μと
なつていた。これによつて得られた塗布層１１に
は、横段状の塗布ムラ、その他一切の故障もな
く、均一な膜厚に仕上がつていた。また塗布層４
にも問題は無かつた。
３′は中空のロールに複数個の気体噴出用貫通孔
１０を有する構成（第２図参照）とし、該ロール
外表面の半径を100mmとし、該貫通孔１０は丸穴
として直径ｄを0.08mm、長さｌを10mm、開孔率を
0.02％とし、空気を、ロール中空部に２Kg／cm2の
ゲージ圧で供給して、貫通孔10より噴出させた。
厚さ0.18mmのポリエチレンテレフタレートフイル
ムに、引張張力0.1Kg／cm巾をかけて、毎分60ｍ
の速度で搬送しながら、コーター（スライドホツ
パー）１によつて、ゼラチンをバインダーとする
レントゲン用ハロゲン化銀乳剤を下層に、また保
護層用ゼラチン水溶液を上層に、それぞれ湿潤時
の膜厚が60μ、20μとなる様に二層同時塗布を行
なつた。続いて、スリツト板７より約５℃に冷却
した空気を塗布面４に吹きつけてゲル化した後、
無接触支持部で上記条件によつて無接触支持しな
がら、次のコーター１′によつてコーター１と同
じ条件で同じく二層同時塗布を行ない、塗布層１
１をゲル化した後、両面とも乾燥した。支持静圧
（＝背圧）は供給圧の1/200になつており、コータ
ー１′における塗布液接触部では浮き量が150μと
なつていた。これによつて得られた塗布層１１に
は、横段状の塗布ムラ、その他一切の故障もな
く、均一な膜厚に仕上がつていた。また塗布層４
にも問題は無かつた。
実施例 ２
実施例１において、他の条件は同一にして、搬
送速度のみ毎分100ｍに変更して、両面塗布を行
ない、乾燥した結果、実施例１と同じく両面とも
塗布故障のない且つ均一な膜厚の良好な塗布層が
得られた。
送速度のみ毎分100ｍに変更して、両面塗布を行
ない、乾燥した結果、実施例１と同じく両面とも
塗布故障のない且つ均一な膜厚の良好な塗布層が
得られた。
実施例 ３
実施例１において、他の条件は同一にして、コ
ーター１の部分における有接触支持ロール３を気
体噴出器３′と同一の構成をもつ気体噴出器にお
きかえ、同じ条件で無接触化した塗布装置によつ
て両面塗布を行ない、乾燥した結果、実施例１と
同様に両面とも横段状の塗布故障のない均一な膜
厚の良好な塗布層が得られた。
ーター１の部分における有接触支持ロール３を気
体噴出器３′と同一の構成をもつ気体噴出器にお
きかえ、同じ条件で無接触化した塗布装置によつ
て両面塗布を行ない、乾燥した結果、実施例１と
同様に両面とも横段状の塗布故障のない均一な膜
厚の良好な塗布層が得られた。
実施例 ４
第１図に示す塗布装置において、気体噴出器
３′は第４図に示す様な形で、気体通過部分１３
を濾過精度1μのフイルターに相当する焼結金属
で構成して、この部分の厚みを15mmにとつて気体
の通過可能な構造とし中空部に0.1Kg／cm2のゲー
ジ圧で、空気を供給して、該気体通過構造部分よ
り噴出させた。厚さ0.1mmのポリエチレンテレフ
タレートフイルムに、張力0.1Kg／cm巾をかけて、
毎分80ｍの速度で搬送しながら、コーター１によ
つて、印刷感材用ハレーシヨン防止用の色素を溶
解させたゼラチン水溶液を下層に、保護層用ゼラ
チン水溶液を上層に、それぞれ湿潤時の膜厚が
65μ、25μになる様に二層同時塗布を行なつた。
続いて、スリツト板７より約５℃に冷却した空気
を塗布面４に吹きつけてゲル化した後、無接触支
持部で上記条件によつて無接触支持しながら、印
刷感材用ハロゲン化銀乳剤を下層に、保護層用ゼ
ラチン水溶液を上層に、それぞれ湿潤時の膜厚が
60μ、20μになる様に二層同時塗布を行ない、塗
布層１１をゲル化した後、両面とも乾燥した。こ
こではコーター１′の塗布液接触部分に対向する
気体噴出器外表面の曲率半径を200mmとしたので、
支持静圧（＝背圧）は供給圧の1/20になつてお
り、またコーター１′の塗布液接触部における浮
き量は、300μとなつていた。ここで得られた塗
布層１１には、横段状の塗布故障もなく、均一な
膜厚をもち、塗布層４とともに良好な仕上がりで
あつた。
３′は第４図に示す様な形で、気体通過部分１３
を濾過精度1μのフイルターに相当する焼結金属
で構成して、この部分の厚みを15mmにとつて気体
の通過可能な構造とし中空部に0.1Kg／cm2のゲー
ジ圧で、空気を供給して、該気体通過構造部分よ
り噴出させた。厚さ0.1mmのポリエチレンテレフ
タレートフイルムに、張力0.1Kg／cm巾をかけて、
毎分80ｍの速度で搬送しながら、コーター１によ
つて、印刷感材用ハレーシヨン防止用の色素を溶
解させたゼラチン水溶液を下層に、保護層用ゼラ
チン水溶液を上層に、それぞれ湿潤時の膜厚が
65μ、25μになる様に二層同時塗布を行なつた。
続いて、スリツト板７より約５℃に冷却した空気
を塗布面４に吹きつけてゲル化した後、無接触支
持部で上記条件によつて無接触支持しながら、印
刷感材用ハロゲン化銀乳剤を下層に、保護層用ゼ
ラチン水溶液を上層に、それぞれ湿潤時の膜厚が
60μ、20μになる様に二層同時塗布を行ない、塗
布層１１をゲル化した後、両面とも乾燥した。こ
こではコーター１′の塗布液接触部分に対向する
気体噴出器外表面の曲率半径を200mmとしたので、
支持静圧（＝背圧）は供給圧の1/20になつてお
り、またコーター１′の塗布液接触部における浮
き量は、300μとなつていた。ここで得られた塗
布層１１には、横段状の塗布故障もなく、均一な
膜厚をもち、塗布層４とともに良好な仕上がりで
あつた。
第１図は本発明の一実施例を示す塗布装置の縦
断面図であり、塗布方法としてスライドホツパー
による二層塗布方式を採用し、連続的に支持体の
両面に塗布する場合を示している。第２図は本発
明に用いられる気体噴出器の一例を示す縦断面図
である。第３図は支持体の引張張力と無接触支持
部における支持体の浮き量との関係を示すグラフ
であつて、Ａ曲線が従来方式による場合、Ｂ曲線
が本発明方式による場合を示す。第４図は本発明
に用いられる気体噴出器の他の一例を示す縦断面
図である。 図中１，１′はコーター、２は支持体、３は支
持ロール、３′は気体噴出器、４，１１は塗布層、
９は気体噴出器外表面、１０は貫通孔、１３は気
体通過部分、ｌは貫通孔の長さ、ｄはその直径を
示す。
断面図であり、塗布方法としてスライドホツパー
による二層塗布方式を採用し、連続的に支持体の
両面に塗布する場合を示している。第２図は本発
明に用いられる気体噴出器の一例を示す縦断面図
である。第３図は支持体の引張張力と無接触支持
部における支持体の浮き量との関係を示すグラフ
であつて、Ａ曲線が従来方式による場合、Ｂ曲線
が本発明方式による場合を示す。第４図は本発明
に用いられる気体噴出器の他の一例を示す縦断面
図である。 図中１，１′はコーター、２は支持体、３は支
持ロール、３′は気体噴出器、４，１１は塗布層、
９は気体噴出器外表面、１０は貫通孔、１３は気
体通過部分、ｌは貫通孔の長さ、ｄはその直径を
示す。
Claims (1)
- １ 連続的に走行する支持体をはさんで、互いに
ほぼ対向する位置にコーターと気体噴出器を配設
し、該気体噴出器から前記支持体に向つて気体を
噴出することにより、前記支持体を無接触で支持
しながら、前記コーターによつて塗布を行なう塗
布方法において、前記支持体と噴出器との間隙に
発生する支持静圧が、前記噴出器へ送り込まれる
気体の供給圧の1/10〜1/1000となり、かつ前記コ
ーターによる塗布液の接触部における浮き量が20
〜500μとなるように、前記供給圧、前記噴出器
内の圧力損失および前記支持体に加える張力を設
定して塗布することを特徴とする塗布方法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56175801A JPS5879566A (ja) | 1981-11-04 | 1981-11-04 | 塗布方法およびその装置 |
| DE8282903258T DE3275354D1 (en) | 1981-11-04 | 1982-11-04 | Method and apparatus for coating two sides |
| US06/515,057 US4548837A (en) | 1981-11-04 | 1982-11-04 | Method and apparatus for coating |
| EP82903258A EP0093177B1 (en) | 1981-11-04 | 1982-11-04 | Method and apparatus for coating two sides |
| PCT/JP1982/000428 WO1983001585A1 (fr) | 1981-11-04 | 1982-11-04 | Procede et dispositif de revetement des deux cotes d'un substrat |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56175801A JPS5879566A (ja) | 1981-11-04 | 1981-11-04 | 塗布方法およびその装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5879566A JPS5879566A (ja) | 1983-05-13 |
| JPH0218902B2 true JPH0218902B2 (ja) | 1990-04-27 |
Family
ID=16002481
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56175801A Granted JPS5879566A (ja) | 1981-11-04 | 1981-11-04 | 塗布方法およびその装置 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4548837A (ja) |
| EP (1) | EP0093177B1 (ja) |
| JP (1) | JPS5879566A (ja) |
| DE (1) | DE3275354D1 (ja) |
| WO (1) | WO1983001585A1 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0411901U (ja) * | 1990-05-21 | 1992-01-30 | ||
| JPH0423801U (ja) * | 1990-06-20 | 1992-02-26 |
Families Citing this family (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58223457A (ja) * | 1982-06-22 | 1983-12-26 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 塗布装置 |
| JPS62186966A (ja) * | 1986-02-12 | 1987-08-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | 塗布方法及び装置 |
| JPS62273081A (ja) * | 1986-05-22 | 1987-11-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | 多層塗膜の形成方法 |
| USH674H (en) * | 1986-11-04 | 1989-09-05 | Konica Corporation | Silver halide photographic light-sensitive material capable of super-rapid processing |
| US5136966A (en) * | 1988-10-28 | 1992-08-11 | Konica Corporation | Web coating apparatus |
| US5236746A (en) * | 1991-04-15 | 1993-08-17 | Ciba-Geigy Corporation | Curtain coating process for producing thin photoimageable coatings |
| WO1992021063A1 (en) * | 1991-05-21 | 1992-11-26 | Eastman Kodak Company | Method and apparatus for manufacturing coated photographic materials |
| DE19634448C2 (de) * | 1996-08-26 | 1999-06-24 | Voith Sulzer Papiermasch Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zum Auftragen eines flüssigen oder pastösen Mediums auf eine laufende Materialbahn |
| US6395088B1 (en) * | 1999-06-30 | 2002-05-28 | Gaston Systems, Inc. | Apparatus for applying foamed coating material to a traveling textile substrate |
| US6814806B2 (en) | 2002-07-25 | 2004-11-09 | Gaston Systems Inc. | Controlled flow applicator |
| US7431771B2 (en) * | 2004-11-12 | 2008-10-07 | Gaston Systems, Inc. | Apparatus and method for applying a foamed composition to a dimensionally unstable traveling substrate |
| KR20100126664A (ko) * | 2008-02-29 | 2010-12-02 | 가부시끼 가이샤 야스이 세에끼 | 복합재료시트의 제조장치 |
| US11607700B1 (en) | 2016-05-06 | 2023-03-21 | Madeline A. Kuchinski | Method and apparatus for coating objects with minimal coating damage |
| US10850298B1 (en) | 2016-05-06 | 2020-12-01 | Madeline A. Kuchinski | System for non-contact coating of moving component through a falling flow of coating material |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3065098A (en) * | 1960-03-21 | 1962-11-20 | Eastman Kodak Co | Method for coating webs |
| JPS4917853B1 (ja) * | 1965-11-16 | 1974-05-04 | ||
| JPS5138737B1 (ja) * | 1968-06-26 | 1976-10-23 | ||
| US3589331A (en) * | 1969-04-04 | 1971-06-29 | Westinghouse Electric Corp | Apparatus for coating metallic foil |
| JPS5543889B2 (ja) * | 1972-06-09 | 1980-11-08 | ||
| JPS5138737A (en) * | 1974-09-27 | 1976-03-31 | Nishinippon Tairu Kk | Tairubarishikohoho to tairubaryo yunitsuto |
| JPS6057385B2 (ja) * | 1977-03-22 | 1985-12-14 | 富士写真フイルム株式会社 | 両面塗布方法 |
| JPS5430021A (en) * | 1977-08-11 | 1979-03-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | Consecutive application of both sides |
-
1981
- 1981-11-04 JP JP56175801A patent/JPS5879566A/ja active Granted
-
1982
- 1982-11-04 EP EP82903258A patent/EP0093177B1/en not_active Expired
- 1982-11-04 US US06/515,057 patent/US4548837A/en not_active Expired - Fee Related
- 1982-11-04 DE DE8282903258T patent/DE3275354D1/de not_active Expired
- 1982-11-04 WO PCT/JP1982/000428 patent/WO1983001585A1/ja not_active Ceased
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0411901U (ja) * | 1990-05-21 | 1992-01-30 | ||
| JPH0423801U (ja) * | 1990-06-20 | 1992-02-26 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5879566A (ja) | 1983-05-13 |
| US4548837A (en) | 1985-10-22 |
| DE3275354D1 (en) | 1987-03-12 |
| EP0093177A4 (en) | 1984-07-03 |
| EP0093177B1 (en) | 1987-02-04 |
| EP0093177A1 (en) | 1983-11-09 |
| WO1983001585A1 (fr) | 1983-05-11 |
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