JPS6047255A - 情報原盤の製造方法 - Google Patents
情報原盤の製造方法Info
- Publication number
- JPS6047255A JPS6047255A JP15549483A JP15549483A JPS6047255A JP S6047255 A JPS6047255 A JP S6047255A JP 15549483 A JP15549483 A JP 15549483A JP 15549483 A JP15549483 A JP 15549483A JP S6047255 A JPS6047255 A JP S6047255A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- information
- information master
- resist layer
- photo resist
- mask plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B23/00—Record carriers not specific to the method of recording or reproducing; Accessories, e.g. containers, specially adapted for co-operation with the recording or reproducing apparatus ; Intermediate mediums; Apparatus or processes specially adapted for their manufacture
- G11B23/0057—Intermediate mediums, i.e. mediums provided with an information structure not specific to the method of reproducing or duplication such as matrixes for mechanical pressing of an information structure ; record carriers having a relief information structure provided with or included in layers not specific for a single reproducing method; apparatus or processes specially adapted for their manufacture
Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ビデオ信号、オーディオ信号、その他情報信
号を記録した記録円盤、あるいは記録カード等を製造す
るために用いられる情報原盤の製造方法に関する。
号を記録した記録円盤、あるいは記録カード等を製造す
るために用いられる情報原盤の製造方法に関する。
一般に、所定情報信号を記録した記録円盤等を製造する
場合には、上記所定情報信号を記録した情報原盤をあら
かじめ作り、この情報原盤を用いて記録円盤等を複製し
て製造するようにしている。
場合には、上記所定情報信号を記録した情報原盤をあら
かじめ作り、この情報原盤を用いて記録円盤等を複製し
て製造するようにしている。
そして、従来記録円盤を製造するために用いられる情報
原盤は、一つの記録円盤に対応する情報原盤毎に一つ一
つ独立して製造している。
原盤は、一つの記録円盤に対応する情報原盤毎に一つ一
つ独立して製造している。
ところで、この種の記録円盤としては、ビデオディスク
やティジタルオーディオディスクの如く直径１２ｃｍ〜
３０ｃｍ程度のものが広（普及しているか、短時間の楽
音情報を記録したり光学メモリやデータパンク等として
手軽に用いるために、例えば直径５ｃｍ程度の小型の記
録円盤やポケットサイズの記録カード等が考えられてい
る。そして、このような小型の記録円盤等においては、
民生用として広く供給するために、特に低価格化や量産
化が要求されている。
やティジタルオーディオディスクの如く直径１２ｃｍ〜
３０ｃｍ程度のものが広（普及しているか、短時間の楽
音情報を記録したり光学メモリやデータパンク等として
手軽に用いるために、例えば直径５ｃｍ程度の小型の記
録円盤やポケットサイズの記録カード等が考えられてい
る。そして、このような小型の記録円盤等においては、
民生用として広く供給するために、特に低価格化や量産
化が要求されている。
しかしながら、このような小型の記録円盤を製造する場
合に、上述のようにこれら記録円盤に対応する小型の情
報原盤を独立して製造していたのでは、生産性の向上を
図れないばかりか製造コストを低減することも難かしい
。これは、たとえ製造する記録円盤のサイズが小さくな
っても工程としては大きな記録円盤を製造する場合と全
く同じであり、また、小型の記録円盤専用の原盤製造装
置や円盤成形機等、大型の記録円盤を製造するのに用い
られるのと同じ設備を同じ数だけ必要とすること等によ
るものである。特に、上記情報原盤を形成するには長時
間を要するメッキ工程が必要であり、この情報原盤を個
々に製造すると生産効率が著しく低下して量産化は難か
しい。
合に、上述のようにこれら記録円盤に対応する小型の情
報原盤を独立して製造していたのでは、生産性の向上を
図れないばかりか製造コストを低減することも難かしい
。これは、たとえ製造する記録円盤のサイズが小さくな
っても工程としては大きな記録円盤を製造する場合と全
く同じであり、また、小型の記録円盤専用の原盤製造装
置や円盤成形機等、大型の記録円盤を製造するのに用い
られるのと同じ設備を同じ数だけ必要とすること等によ
るものである。特に、上記情報原盤を形成するには長時
間を要するメッキ工程が必要であり、この情報原盤を個
々に製造すると生産効率が著しく低下して量産化は難か
しい。
また、上述のような小型の記録円盤は取り扱いが煩雑で
保管性も悪い。
保管性も悪い。
そこで本発明は、上述の従来の方法の有する欠点を解消
するために提案されたものであり、製造設備や工数を削
減し、小型の記録円盤等の製造コストを大幅に低下する
ことが可能な情報原盤の製造方法を提供することを目的
とし、さらに製造時間を短縮し量産可能な情報原盤の製
造方法を提供することを目的とする。
するために提案されたものであり、製造設備や工数を削
減し、小型の記録円盤等の製造コストを大幅に低下する
ことが可能な情報原盤の製造方法を提供することを目的
とし、さらに製造時間を短縮し量産可能な情報原盤の製
造方法を提供することを目的とする。
本発明は、上述の如き目的を達成するために、凹凸状の
パターンを有する情報ブロックを複数個独立して基板上
に形成し、次いで上記独立した複数個の情報ブロックの
凹凸面」二にメッキを施し、このメッキを施した面に独
立した複数個の情報原盤ブロックが形成されるようにし
てなるものである。
パターンを有する情報ブロックを複数個独立して基板上
に形成し、次いで上記独立した複数個の情報ブロックの
凹凸面」二にメッキを施し、このメッキを施した面に独
立した複数個の情報原盤ブロックが形成されるようにし
てなるものである。
以下、本発明を光学式ディスクの製造に適用した具体的
な実施例について、図面を参照しながら説明する。
な実施例について、図面を参照しながら説明する。
第１図ないし第１１図は１本発明による情報原盤の製造
方法の一例を、その工程順序に従って示すものである。
方法の一例を、その工程順序に従って示すものである。
この実施例においては、先ず、第１図に示すように円盤
状の金属薄板であるマスク原料１を準備し、このマスク
原材１の表面に光に感光して分解する所謂ポジ型のフォ
トレジスト層２をスピナコート法等の塗布手段で全面に
亘って被着形成する。
状の金属薄板であるマスク原料１を準備し、このマスク
原材１の表面に光に感光して分解する所謂ポジ型のフォ
トレジスト層２をスピナコート法等の塗布手段で全面に
亘って被着形成する。
次に、第２図に示すように、上記マスク原材１ヲ光学式
カッティング装置のターンテーブル３上に載置し、この
ターンテーブル３を回転駆動しながら後述するように情
報信号に応じて強弱がつけられたレーザビーム４を対物
レンズ５を介して照射して上記フォトレジスト層２を感
光させる。上記光学式カンティング装置としては、第１
８図にその構成を示すような装置が挙げられる。すなわ
ち、この光学式カンティング装置においては、アルゴン
ガスレーザ発振器やヘリウム−カドミウムレーザ発振器
等のレーザ発振器６から発振されるレーザビーム４を、
信号源７から与えられる情報信号をＰ ＣＭ （Ｐｕ１
ｓｅ Ｃｏｄｅ Ｍｏｄｕｌａｔｉｏｎ ）符号化する
信号発生器８により駆動される光変調器９を用いて上記
情報信号に応じて強弱がつけられる光信号に変調し、タ
ーンテーブル３上に載置されるマスク原材１上のフォト
レジスト層２に対して径方向に移動する対物レンズ５を
介して照射し、同心円状に露光する。
カッティング装置のターンテーブル３上に載置し、この
ターンテーブル３を回転駆動しながら後述するように情
報信号に応じて強弱がつけられたレーザビーム４を対物
レンズ５を介して照射して上記フォトレジスト層２を感
光させる。上記光学式カンティング装置としては、第１
８図にその構成を示すような装置が挙げられる。すなわ
ち、この光学式カンティング装置においては、アルゴン
ガスレーザ発振器やヘリウム−カドミウムレーザ発振器
等のレーザ発振器６から発振されるレーザビーム４を、
信号源７から与えられる情報信号をＰ ＣＭ （Ｐｕ１
ｓｅ Ｃｏｄｅ Ｍｏｄｕｌａｔｉｏｎ ）符号化する
信号発生器８により駆動される光変調器９を用いて上記
情報信号に応じて強弱がつけられる光信号に変調し、タ
ーンテーブル３上に載置されるマスク原材１上のフォト
レジスト層２に対して径方向に移動する対物レンズ５を
介して照射し、同心円状に露光する。
そして、このように露光されたフォトレジスト層２に対
してアセトン等の有機溶剤等を用いて現像を施し、第３
図に示すように上記フォトレジスト層２のうち露光によ
って分解される部分を溶解除去する。
してアセトン等の有機溶剤等を用いて現像を施し、第３
図に示すように上記フォトレジスト層２のうち露光によ
って分解される部分を溶解除去する。
次に、上記フォトレジスト層２をエツチングマスクとし
て用い、第４図に示すように、上記マスク原材１に対し
てエツチング液を用いるウェットエツチングの如きエツ
チングを施して上記光信号に対応した微細な開口窓１０
を貫通形成する。
て用い、第４図に示すように、上記マスク原材１に対し
てエツチング液を用いるウェットエツチングの如きエツ
チングを施して上記光信号に対応した微細な開口窓１０
を貫通形成する。
続いて、上記マスク原材１」二に被着されるフォトレジ
スト スク板１１を得る。
スト スク板１１を得る。
次に、上記マスク板１１よりも大型の円盤状のガラス基
板１２を準備し、このガラス基板１２の表面にポジをの
フォトレジスト層１３を厚さ０１μｍ程度となるように
均一に塗布するとともに、第６回向及び第６図（５）に
示すように、上記フォトレジスト層１３の表面に密着し
て上記マスク板１１を複数枚、この例では７枚載置する
。なお、このとき、各マスク板１１に記録される情報信
号はそれぞれ異なったものでもよいし、あるいは同一の
ものであってもよい。
板１２を準備し、このガラス基板１２の表面にポジをの
フォトレジスト層１３を厚さ０１μｍ程度となるように
均一に塗布するとともに、第６回向及び第６図（５）に
示すように、上記フォトレジスト層１３の表面に密着し
て上記マスク板１１を複数枚、この例では７枚載置する
。なお、このとき、各マスク板１１に記録される情報信
号はそれぞれ異なったものでもよいし、あるいは同一の
ものであってもよい。
そして、第７図に示すように、上記マスク板１１によっ
てマスキングされるフォトレジスト層１３に対して全面
に亘って光を照射する。
てマスキングされるフォトレジスト層１３に対して全面
に亘って光を照射する。
さらに、第８図に示すように、上記フォトレジスト層１
３上のマスク板１１を取り外し、上記フォトレジスト層
１３に対して現像処理を施して上記マスク板１１の開口
窓１０に対応してフォトレジスト層１３が除去され凹部
が形成される凹凸状の情報ブロック１４を上記マスク板
１１に対応してガラス基板１２上に複数個独立して形成
する。
３上のマスク板１１を取り外し、上記フォトレジスト層
１３に対して現像処理を施して上記マスク板１１の開口
窓１０に対応してフォトレジスト層１３が除去され凹部
が形成される凹凸状の情報ブロック１４を上記マスク板
１１に対応してガラス基板１２上に複数個独立して形成
する。
なお、上記情報ブロック１４の凹凸面上には、第９図に
示すように極めて薄く銀メッキを施して金属導電膜であ
る銀メッキ膜１５を形成し、上記情報ブロック１４の凹
凸面に対して電解メッキを施すことができるようにして
おく。
示すように極めて薄く銀メッキを施して金属導電膜であ
る銀メッキ膜１５を形成し、上記情報ブロック１４の凹
凸面に対して電解メッキを施すことができるようにして
おく。
そして、第１０図に示すように、上記情報ブロック１４
が形成されるガラス基板１２に対して例えばニッケルを
電解メッキにより被着する所謂ニッケル電鋳を施し、上
記銀メツキ膜１５上にニッケル膜１６を形成する。
が形成されるガラス基板１２に対して例えばニッケルを
電解メッキにより被着する所謂ニッケル電鋳を施し、上
記銀メツキ膜１５上にニッケル膜１６を形成する。
次いで、第１１図に示すように、」二記ニッケル膜１６
を上記銀メッキ膜１５から引き剥がして情報原盤１７を
得る。この情報原盤１７面には、先の情報ブロック１４
の凹凸面に対応して情報信号が凹凸状のパターンとして
記録される複数個の情報原盤ブロック１８が独立して形
成されている。
を上記銀メッキ膜１５から引き剥がして情報原盤１７を
得る。この情報原盤１７面には、先の情報ブロック１４
の凹凸面に対応して情報信号が凹凸状のパターンとして
記録される複数個の情報原盤ブロック１８が独立して形
成されている。
上述のような方法で製造される情報原盤１７は、この段
階で各情報原盤ブロック１８毎に分割しそれぞれを情報
原盤として後工程で用いてもよいが、分割せずに複数の
情報原盤ブロック１８が形成される情報原盤１７のまま
後の工程まで用いれば、さらに生産効率を向上すること
ができる。
階で各情報原盤ブロック１８毎に分割しそれぞれを情報
原盤として後工程で用いてもよいが、分割せずに複数の
情報原盤ブロック１８が形成される情報原盤１７のまま
後の工程まで用いれば、さらに生産効率を向上すること
ができる。
すなわち、第１２図に示すように、上記情報原盤１７に
対してニッケル電鋳を施し、上記情報原盤１７と雌雄関
係にあるマザー盤１９を複製し、さらに第１３図に示す
ように、上記マザー盤１９に対して再びニッケル電鋳を
施して上記情報原盤１７と同一形状のスタンパ２０を多
数複製する。
対してニッケル電鋳を施し、上記情報原盤１７と雌雄関
係にあるマザー盤１９を複製し、さらに第１３図に示す
ように、上記マザー盤１９に対して再びニッケル電鋳を
施して上記情報原盤１７と同一形状のスタンパ２０を多
数複製する。
このように、上記情報原盤１７を用いれば、各情報原盤
ブロック１８に対応する複数のスタンパブロック２１を
同時に複製することができ、製造工数を減らすことが可
能となる。
ブロック１８に対応する複数のスタンパブロック２１を
同時に複製することができ、製造工数を減らすことが可
能となる。
さらに、この段階で上記スタンパ２０を各スタンパブロ
ック２１毎に分割し後述の記録円盤成形工程をこれらス
タンパブロック２１を用いて個々に行なってもよいが、
上記複数のスタンパブロック２１が形成されるスタンパ
２０を用いて記録円盤成形工程を行なえば記録円盤の量
産化を図ることができる。
ック２１毎に分割し後述の記録円盤成形工程をこれらス
タンパブロック２１を用いて個々に行なってもよいが、
上記複数のスタンパブロック２１が形成されるスタンパ
２０を用いて記録円盤成形工程を行なえば記録円盤の量
産化を図ることができる。
すなわぢ、第１４図に示すように、上記スタンパ２０を
プレス機または射出成形機あるいは射出圧縮成形機に取
り付けて、光を透過する透明樹脂材料を成形し、上記ス
タンパブロック２１に対応して凹凸状のピット列が形成
される情報記録面２２を複数個有する透明基板２３を形
成する。
プレス機または射出成形機あるいは射出圧縮成形機に取
り付けて、光を透過する透明樹脂材料を成形し、上記ス
タンパブロック２１に対応して凹凸状のピット列が形成
される情報記録面２２を複数個有する透明基板２３を形
成する。
そして、第１５図に示すようにこの透明基板２３の情報
記録面２２上にアルミニウム等の金属を蒸着し、反射膜
２４を形成する。
記録面２２上にアルミニウム等の金属を蒸着し、反射膜
２４を形成する。
次に、第１６図に示すように、上記反射膜２４上に、こ
の反射膜２４の損傷を防止するための保護層２５を塗布
形成して大型円盤２６を完成する。
の反射膜２４の損傷を防止するための保護層２５を塗布
形成して大型円盤２６を完成する。
最後に、第１７図に示すように、上記大型円盤２６を各
情報記録面２２に対応して小型の記録円盤２１に分割し
、各記録円盤２７に対してラベル印刷を施し、小型の記
録円盤２７を完成する。
情報記録面２２に対応して小型の記録円盤２１に分割し
、各記録円盤２７に対してラベル印刷を施し、小型の記
録円盤２７を完成する。
以上述べたように、上記実施例においては小型の記録円
盤２７の情報信号に対応する情報原盤ブロック１８を複
数個有する情報原盤１７を一括して形成しているので、
各情報原盤ブロック１８毎にニッケル電鋳を施して小型
の情報原盤を形成する場合と比較して、工数を減らして
製造時間を短縮することが可能となっている。
盤２７の情報信号に対応する情報原盤ブロック１８を複
数個有する情報原盤１７を一括して形成しているので、
各情報原盤ブロック１８毎にニッケル電鋳を施して小型
の情報原盤を形成する場合と比較して、工数を減らして
製造時間を短縮することが可能となっている。
また、上記情報原盤１γを用いれば、スタンパブロック
２１や記録円盤２７を複数枚まとめて製造することがで
き、上記記録円盤２７の生産効率を大幅に向上して量産
化を図り、製造コストを低減することが可能となってい
る。
２１や記録円盤２７を複数枚まとめて製造することがで
き、上記記録円盤２７の生産効率を大幅に向上して量産
化を図り、製造コストを低減することが可能となってい
る。
さらに、上記情報原盤１７の大きさをビデオディスクや
ディジタルオーディオディスクと同一径とすることによ
り、上記情報原盤１７を形成するだめのニッケル電鋳工
程やスタンパ２０成形のためのニッケル電鋳工程、記録
円盤２７成形のための射出成形工程等において、従来の
記録円盤の成形に用いられている装置や技術をほとんど
利用することができ、設備投資を減らして製造コストを
低減することが可能となる。
ディジタルオーディオディスクと同一径とすることによ
り、上記情報原盤１７を形成するだめのニッケル電鋳工
程やスタンパ２０成形のためのニッケル電鋳工程、記録
円盤２７成形のための射出成形工程等において、従来の
記録円盤の成形に用いられている装置や技術をほとんど
利用することができ、設備投資を減らして製造コストを
低減することが可能となる。
さらにまた、上記情報原盤１７を大型の円盤と％
して形成しておけば、その取り扱いが客員なものとなり
、保管性も良好なものとなる。
、保管性も良好なものとなる。
ところで、上記実施例においては、ガラス基板１２上に
情報ブロック１４を複数個独立して形成するために、あ
らかじめ情報信号に対応して開口窓１０が形成されるマ
スク板１１を用いているが、上記ガラス基板１２上に被
着形成されるフォトレジスト層１３に対して直接光学式
カッティングを施してもよい。
情報ブロック１４を複数個独立して形成するために、あ
らかじめ情報信号に対応して開口窓１０が形成されるマ
スク板１１を用いているが、上記ガラス基板１２上に被
着形成されるフォトレジスト層１３に対して直接光学式
カッティングを施してもよい。
すなわぢ、第１９図に示すように、大型の円盤状のガラ
ス基板１２表面に光によって分解するポジ型のフォトレ
ジスト層１３を０１μｍ程度の厚さに被着形成しておき
、第２０図に示すように、任意の点ａを中心として上記
ガラス基板１２を回転駆動しながら第１８図に示す光学
式カッティング装置を用いて上記フォトレジスト層１３
を露光する。さらに、任意の点ｂ−ｆを中心として順次
上記露光を施し、上記フ第１・レジスト層１３を現像し
て第２１図に示すように各点ａ −ｆを中心とする円形
の情報ブロック１４が複数形成されるガラス基板１２を
得る。以下、先の実施例と同様の操作で情報原盤１７を
得る。
ス基板１２表面に光によって分解するポジ型のフォトレ
ジスト層１３を０１μｍ程度の厚さに被着形成しておき
、第２０図に示すように、任意の点ａを中心として上記
ガラス基板１２を回転駆動しながら第１８図に示す光学
式カッティング装置を用いて上記フォトレジスト層１３
を露光する。さらに、任意の点ｂ−ｆを中心として順次
上記露光を施し、上記フ第１・レジスト層１３を現像し
て第２１図に示すように各点ａ −ｆを中心とする円形
の情報ブロック１４が複数形成されるガラス基板１２を
得る。以下、先の実施例と同様の操作で情報原盤１７を
得る。
このように、ガラス基板１２上のフォトレジスト層１３
に対して直接光学式カッティングを施して工程をさらに
簡略化してもよい。このとき、上記光学式カッティング
装置を複数、例えば７台準備し、これら光学式カッティ
ング装置を上記各点ａ−ｆを中心としてそれぞれ回転し
ながらフォトレジスト層１３を露光し、上記複数の情報
ブロック１４を一度に形成し製造時間の大幅な短縮を図
ることも可能である。
に対して直接光学式カッティングを施して工程をさらに
簡略化してもよい。このとき、上記光学式カッティング
装置を複数、例えば７台準備し、これら光学式カッティ
ング装置を上記各点ａ−ｆを中心としてそれぞれ回転し
ながらフォトレジスト層１３を露光し、上記複数の情報
ブロック１４を一度に形成し製造時間の大幅な短縮を図
ることも可能である。
なお、本発明は、上述の光学式ディスクばかりでな（、
各種記録円盤や記録カードの製造にも適用することがで
きることは言うまでもない。
各種記録円盤や記録カードの製造にも適用することがで
きることは言うまでもない。
上述の実施例の説明からも明らかなように、本発明によ
れば、情報原盤の製造時間を短縮し量産化を図ることが
可能となっている。
れば、情報原盤の製造時間を短縮し量産化を図ることが
可能となっている。
また、本発明により製造される情報原盤を用いれば、ス
タンパや記録円盤等を一度に複数枚まとめて製造するこ
とができ、生産効率を大幅に向上して製造コストの低減
を図ることが可能となるとともに、特に上記情報原盤の
大きさを従来のビデオディスク等と同一の大きさとする
ことにより従来の製造装置や技術をその才ま利用するこ
とができ、さらに製造コストの低減を図ることが可能と
なっている。
タンパや記録円盤等を一度に複数枚まとめて製造するこ
とができ、生産効率を大幅に向上して製造コストの低減
を図ることが可能となるとともに、特に上記情報原盤の
大きさを従来のビデオディスク等と同一の大きさとする
ことにより従来の製造装置や技術をその才ま利用するこ
とができ、さらに製造コストの低減を図ることが可能と
なっている。
第１図ないし第１１図は本発明による情報原盤の製造工
程の工程順序を示すものであり、第１図はフォトレジス
ト層被着工程を示す断面図、第２図は光学式カッティン
グ工程を示す断面図、第３図はフォトｌ／シスト層現像
工程を示す断面図、第４図はエツチング工程を示す断面
図、第５図はフォトレジスト層除去工程を示す断面図、
第６図（Ａｌはマスク板載置工程を示す断面図、第６図
（Ｂ）はその平面図、第７図は露光工程を示す断面図、
第８図は現像工程を示す断面図、第９図は銀メツキ工程
を示す断面図、第１０図はニッケル電鋳工程を示す断面
図、第１１図は得られる情報原盤を示す断面図である。 第１２図ないし第１７図は本発明により製造される情報
原盤を用いて記録円盤を製造する工程順序を示す断面図
であり、第１２図はマザー盤製造工程、第１３図はスタ
ンパ製造工程、第１４図は透明基板成形工程、第１５図
は反射膜形成工程、第１６図は保護膜形成工程、第１７
図は記録円盤分割工程を示す。 第１８図は本発明に用いられる光学式カッティング装置
の構成を示す模式図である。 第１９図ないし第２１図は情報ブロック形成するための
他の例を示すものであり、第１９図はフォトレジスト層
被着工程を示す斜視図、第２０図は光学式カッティング
工程を示す斜視図、第２１図は形成される情報ブロック
を示す平面図である。 １２・・・・・・・・・ガラス基板 １４・・・・・・・・情報ブロック １７・・・・・・・・情報原盤 １８・・・・・・・・情報原盤ブロック特許出願人 シ
ービーエヌ・ソニーレコード株式会社代理人 弁理士
小 池 見 回 １） 村 榮 − 第１図 第３図 第４図 第５図 第６ 図（Ａ） 第６図ＣＢ） ＼ 第７図 １２ 第８図 ト 第１５図 第１６図 第１９図 第１８図
程の工程順序を示すものであり、第１図はフォトレジス
ト層被着工程を示す断面図、第２図は光学式カッティン
グ工程を示す断面図、第３図はフォトｌ／シスト層現像
工程を示す断面図、第４図はエツチング工程を示す断面
図、第５図はフォトレジスト層除去工程を示す断面図、
第６図（Ａｌはマスク板載置工程を示す断面図、第６図
（Ｂ）はその平面図、第７図は露光工程を示す断面図、
第８図は現像工程を示す断面図、第９図は銀メツキ工程
を示す断面図、第１０図はニッケル電鋳工程を示す断面
図、第１１図は得られる情報原盤を示す断面図である。 第１２図ないし第１７図は本発明により製造される情報
原盤を用いて記録円盤を製造する工程順序を示す断面図
であり、第１２図はマザー盤製造工程、第１３図はスタ
ンパ製造工程、第１４図は透明基板成形工程、第１５図
は反射膜形成工程、第１６図は保護膜形成工程、第１７
図は記録円盤分割工程を示す。 第１８図は本発明に用いられる光学式カッティング装置
の構成を示す模式図である。 第１９図ないし第２１図は情報ブロック形成するための
他の例を示すものであり、第１９図はフォトレジスト層
被着工程を示す斜視図、第２０図は光学式カッティング
工程を示す斜視図、第２１図は形成される情報ブロック
を示す平面図である。 １２・・・・・・・・・ガラス基板 １４・・・・・・・・情報ブロック １７・・・・・・・・情報原盤 １８・・・・・・・・情報原盤ブロック特許出願人 シ
ービーエヌ・ソニーレコード株式会社代理人 弁理士
小 池 見 回 １） 村 榮 − 第１図 第３図 第４図 第５図 第６ 図（Ａ） 第６図ＣＢ） ＼ 第７図 １２ 第８図 ト 第１５図 第１６図 第１９図 第１８図
Claims (1)
- 凹凸状のパターンを有する情報ブロックを複数個独立し
て基板上に形成し、次いで上記独立した複数個の情報ブ
ロックの凹凸面上にメッキを施し、このメッキを施した
面に独立した複数個の情報原盤ブロックが形成されるよ
うにしてなる情報原盤の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15549483A JPS6047255A (ja) | 1983-08-25 | 1983-08-25 | 情報原盤の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15549483A JPS6047255A (ja) | 1983-08-25 | 1983-08-25 | 情報原盤の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6047255A true JPS6047255A (ja) | 1985-03-14 |
Family
ID=15607271
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15549483A Pending JPS6047255A (ja) | 1983-08-25 | 1983-08-25 | 情報原盤の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6047255A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6074136A (ja) * | 1983-09-29 | 1985-04-26 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | デイジタル信号記録再生デイスク及びその製造法 |
| CN114166123A (zh) * | 2021-12-03 | 2022-03-11 | 蚌埠凯盛工程技术有限公司 | 一种随动式镀膜生产线玻璃基板位置自动追踪方法 |
-
1983
- 1983-08-25 JP JP15549483A patent/JPS6047255A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6074136A (ja) * | 1983-09-29 | 1985-04-26 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | デイジタル信号記録再生デイスク及びその製造法 |
| CN114166123A (zh) * | 2021-12-03 | 2022-03-11 | 蚌埠凯盛工程技术有限公司 | 一种随动式镀膜生产线玻璃基板位置自动追踪方法 |
| CN114166123B (zh) * | 2021-12-03 | 2024-04-30 | 蚌埠凯盛工程技术有限公司 | 一种随动式镀膜生产线玻璃基板位置自动追踪方法 |
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