JPS59176581A - 厚い層の泥状物のための焼付け炉 - Google Patents

厚い層の泥状物のための焼付け炉

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JPS59176581A
JPS59176581A JP4120984A JP4120984A JPS59176581A JP S59176581 A JPS59176581 A JP S59176581A JP 4120984 A JP4120984 A JP 4120984A JP 4120984 A JP4120984 A JP 4120984A JP S59176581 A JPS59176581 A JP S59176581A
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JP
Japan
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furnace
baking
region
heating
guided
Prior art date
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Pending
Application number
JP4120984A
Other languages
English (en)
Inventor
カルル・デツケルマン
ペ−タ−・ヘツセ
イノ・タイトル
ヨヒエン・ガルマイア−
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WC Heraus GmbH and Co KG
Original Assignee
WC Heraus GmbH and Co KG
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Publication date
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    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
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    • H05K3/10—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
    • H05K3/12—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using thick film techniques, e.g. printing techniques to apply the conductive material or similar techniques for applying conductive paste or ink patterns
    • H05K3/1283—After-treatment of the printed patterns, e.g. sintering or curing methods
    • H05K3/1291—Firing or sintering at relative high temperatures for patterns on inorganic boards, e.g. co-firing of circuits on green ceramic sheets
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27B—FURNACES, KILNS, OVENS OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
    • F27B9/00—Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity
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    • F27B9/084—Muffle furnaces the muffle being fixed and in a single piece
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 けるために、基体がコンベヤベルトの上を焼付ける炉内
を貫通して導かれるようになっている厚い層の泥状物の
ための焼付は炉に関するものである。
例えば、高抵抗の厚い層の抵抗体を製造する場合に、厚
い層の泥状物又は厚いフィルム状の泥状物を焼付けるた
めの貫通炉が公知となっており、この炉は、直接的又は
間接的に加熱するために加熱コイルか、又は、赤外線加
熱器かを有している。厚い層の泥状物の電気的特性は、
焼付は温度に著しく関係するものであり、特に、加熱領
域の内部において均一な、すなわち、一定の温度の輪郭
が持続され、その上、実用上任意にしばしば再生可能で
あるべきであるということに関係するので、著しい温度
変動を示す従来の貫通炉においては、温度が測定探触子
を介して常時調査され、調節される。温度輪郭は、炉の
操業又は停止の際に変わるので、従来の炉は、連続的に
運転されている。作業位相における炉の運転停止は、普
通のことではない。熱論、従来は、しばしば、何らの満
足な結果も得られていなかった。熱電対の老化は、ピー
ク温度を変化させ、従って、抵抗の絶対値を変化させる
。
重畳されたハンチングによって、ピーク温度は抵抗値を
散乱させる。
それ故、本発明は、厚い層の泥状物が、正確な、再生可
能な温度の下において焼付けられることができる厚い層
の泥状物のための焼付は炉を得るという課題に基礎を置
くものである。
この課題は、「特許請求の範囲」第１項の特徴項によっ
て解決される。
本発明の手段によって得られる利点は、特に、次ぎのと
おりである。
／　焼付は炉の加熱領域内におけるヒートパイプの配置
及びその長さ及び直径を加熱系統に調和させることによ
って、炉の短時間の始動位相の後に速やかに、はぼ一定
であるある設定温度に到達する。実際上、何らの温度変
動も生じないか、又は、はんのわずかではあるが、しか
しながら、制御可能である温度変化が生ずるだけである
。常時の温度調節は、実際上不必要となる。温度探触子
は、ヒートパイプの中には、省略されることができる。
コ　また、本発明による焼付は炉によって、直接的、又
は、間接的に加熱される炉と相違して、非常に短い始動
位相の後に、既に、ある希望温度に到達する。成る程、
赤外線炉も、また、短い始動位相に卓越しているが、し
かしながら、赤外線炉においては、等温帯の中（３） においては、既に述べたように、大きな温度変動が現わ
れる。
３、　焼付けによって作られた厚い層の抵抗体の表面抵
抗は、焼付は温度に著しく関係するので、温度変動は、
廃品の抵抗体の増加の結果となる。仕上げ製品の廃品の
量は、著しく減少する。なぜならば、炉内の温度の輪郭
は、非常にわずか変化するだけであり、また、非常に良
好に再生可能であるからである。なお、ピーク領域内罠
おける温度変動は、０．／’Ｉ：：よりも、よりわずか
である。また、この温度輪郭は、レーザ調整にまって補
正されなければならない小さな抵抗体を得ることを可能
とさせる。その結果、抵抗体の品質は向上され、泥状物
の消費は、廃品の減少によって低下される。
侶更に、焼付けのためのエネルギー消費ハ、著しく低下
される。なぜならば、炉は、長い作業停止の際には、運
転をしゃ断されることができ、また、改めての加熱の後
に、温度輪（″　） 郭が、再び正確に設定されるからである。温度輪郭の制
御は、必要ではない。
本発明による厚い層の泥状物焼付は炉の他の有利な実施
形態は、「特許請求の範囲」第一項以下の記載から知る
ことができる。
以下、本発明をその実施例を示す添附図面に基づいて説
明する。
第１図に示された炉は、加熱開始領域コ、本来の加熱領
域６及び冷却領域３を有している。
中央の領域、すなわち、加熱領域６は、ヒート１パイプ
／によって形成されている。
このようなヒートパイプ／は、それ自体公知である。本
発明による炉の中には、有利な様式でヒートパイプ／が
設置されているが、このヒートパイプｌは、ドイツ公開
特許第、？！　　／６　　ダグ３ケ号公報に記載されて
いる。この場合、間接的な、圧力に関係する温度調節装
置を有しているヒートパイプが、問題となるものである
〇ヒートバイブ／の空間ｔの中に達する探触子は、ここ
では、省略されている。
内部を制御されたガス雰囲気が支配しているルツボざを
貫通して、ローラの上に、はぼ同軸心に無端状のコンベ
ヤベルトＳが、その上部の走行部分を案内されており、
この上部の走行部分は、矢印りの方向に駆動されるよう
になっている。下方の走行部分は、ルツボｇの外部を、
加熱領域６及び冷却領域７の絶縁物の下部に沿って導か
れる。コンベヤベルトＳの上において炉を貫通して輸送
される焼付けされるべき基体は、ヒートバイブ／の入口
側において、まず、７個又は多数の加熱帯を有している
加熱開始領域−を貫いて走行し、それから、既に、あら
かじめ加熱されて、加熱コイルＩＯを有しているヒート
バイブ／によって形成されている加熱領域乙につながっ
ている、冷却要素／／を有している冷却領域３の中にお
いて、基体は冷却されるが、冷却要素／／は、同様に、
多数の調節可能な段に細分されることもできる。
圧力フィルタによって処理された厚い層の泥状物、弓に
、抵抗泥状物を良好に焼付けることができるために、温
度／時間曲線が、本発明による炉によって実施されるが
、この曲線は、第２図に示すとおりである。個々の領域
、すなわち、加熱開始領域１１等温領域又はピーク領域
■、冷却領域ｎｒが、図には、対応する領域、すなわち
、貫通炉の加熱開始領域コ、加熱領域６及び冷却領域３
を附属されている。
ヒートバイブ／は、Ｏｌ−〜／、！ＩＮ、好適には、０
．１〜ｏ、ｇｍであると有利である。バイブ直径は１．
ｌ？、ｌｔ〜！ｒ００ｒａｎであって良いが、好適には
、ｌＩ０〜／　Ａ　Ｏｔｒｍのパイプ直径である。この
ように寸法法めされたヒートバイブは、厚い層の泥状物
の焼付けのために、特に適している。
図示された実施形態の変形は、本発明の要旨から離れる
こと無しに、熱論可能なところである。上に説明され、
図示され、特許を請求された特徴のすべての相互の組合
わせ並びにそれ自体公知の特徴との組合わせも、明らか
に本発明に属するものである。
【図面の簡単な説明】
（７） 第１図は、本発明による焼付は炉の／実施例を示す略縦
断面図、第一図は、この焼付は炉によって維持される温
度輪郭を示す線図である。 ／・・・ヒートバイブ；コ・・・加熱開始領域；３・・
・冷却領域；Ｓ・・・コンベヤベルト；６・・・加熱領
域；ｇ・・・ルツボ；／θ・・・加熱コイル；／／・・
・冷却要素。 （ｆｆ） ＦＩＧ、　１ 第１頁の続き （ｌ　　明　者　ヨヒエン・ガルマイアードイツ連邦共
和国６０００フランク フルト・ヴオルフスガングシュ トラーセ１５

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 ｌ　基体の上に厚い層の泥状物を焼付けるために、基体
    がコンベヤベルトの上を焼付は炉内を貫通して導かれる
    ようになっている厚い層の泥状物を焼付けるための炉に
    おいて、炉が、通過方向に見られて、加熱開始領域、ヒ
    ートパイプによって形成された等温領域及び冷却領域を
    有していることを特徴とする焼付は炉。 ユ　圧力制御されたヒートパイプが設置されている特許
    請求の範囲第１項記載の焼付は炉。 ３　加熱開始領域及び冷却領域が電気的に加熱されるよ
    うになっている特許請求の範囲第１又はコ項記載の焼付
    は炉。 ｔ　ヒートパイプが、電気的加熱コイルによって包囲さ
    れている特許請求の範囲第１．−又は３項記載の焼付は
    炉。 Ｓ　冷却領域が、閉塞された冷却水循環回路を有してい
    る特許請求の範囲第７〜９項のいずれかに記載の焼付は
    炉。 ム　コンベヤベルトが、その上方の走行路を管状の炉を
    ほぼ軸心を貫いて案内され、一方、下方の走行路を加熱
    領域及び冷却領域の絶縁物の下方ではあるが、しかしな
    がら、炉のハウジングの内部を案内されるようになって
    いる特許請求の範囲第１〜３項のいずれかに記載の焼付
    は炉。
JP4120984A 1983-03-03 1984-03-03 厚い層の泥状物のための焼付け炉 Pending JPS59176581A (ja)

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DE33074542 1983-03-03
DE19833307454 DE3307454C2 (de) 1983-03-03 1983-03-03 Dickschichtpasten-Einbrennofen

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Families Citing this family (1)

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JPS5884A (ja) * 1981-06-25 1983-01-05 中村　義彦 Ｕ型間接通電加熱炉

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DE3307454A1 (de) 1984-09-06
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