JPH0243038Y2 - - Google Patents

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JPH0243038Y2
JPH0243038Y2 JP1982027212U JP2721282U JPH0243038Y2 JP H0243038 Y2 JPH0243038 Y2 JP H0243038Y2 JP 1982027212 U JP1982027212 U JP 1982027212U JP 2721282 U JP2721282 U JP 2721282U JP H0243038 Y2 JPH0243038 Y2 JP H0243038Y2
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JP
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furnace
furnace chamber
core tube
firing
inlet side
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JP1982027212U
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JPS58131662U (ja
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Description

【考案の詳細な説明】 本考案は連続厚膜焼成炉の改良に関する。厚膜
集積回路の製造においては、アルミナ等の基板上
に所要の回答パターンを印刷したのち、これをレ
ベリング及び乾燥し次いで焼成する工程がとられ
る。この厚膜回路の焼成を行う手段として最近で
は近赤外線を利用した赤外線加熱方式が採用され
ているが、本方式は焼成時間の短縮という点では
メリツトはあるものの、この方式で予熱・バーン
アウトおよび本焼成の全工程を行つた場合には、
複数の赤外線ランプによる熱放射という特性から
波長のフラツキなどにより温度分布が炉内各部で
一様となりにくく、ことに一定のキープ時間(た
とえば10分)のあいだきわめて高い温度精度(た
とえば±1.5〜2℃以内)の再現を必要とする本
焼成工程においてペースト内金属成分の酸化、還
元および融合反応を安定して行い得ず、そのため
特に抵抗体印刷ペーストを焼成した場合に回路特
性に大きなバラツキが生じ、歩留りを悪下させる
という欠点があつた。
本考案は上記した従来の厚膜焼成炉の不具合を
解消し、焼成時間を短縮できるうえに安定した高
い温度精度を再現でき、品質の良好な抵抗体焼成
を行うことができる連続式厚膜焼成炉を提供しよ
うとするもので、その特徴とするところは同一炉
内で赤外線直接放射により予熱・バーンアウトを
行い、続いて抵抗加熱による間接加熱で一定のキ
ープ時間のあいだ本焼成を行うようにしたことに
ある。
すなわち本考案は、基板上に厚膜ペーストを印
刷した被処理物をコンベアベルトで移送させつつ
焼成する横型連続炉において、トンネル状炉体内
に入口側の炉室と残部炉室とを区画する仕切壁を
設け、残部炉室に入口側の炉室に到らぬように炉
芯管を内挿するとともに、炉芯管と入口側の炉室
を貫いてコンベアベルトを移動自在に配し、前記
入口側の炉室に被処理物を直接加熱してバーンア
ウトを行う赤外線ヒータを配設し、炉芯管外周に
本焼成用の抵抗発熱体を配したことを特徴とする
ものである。
以下本考案の実施例を添付図面に基いて説明す
る。
第1図ないし第3図において、1はセラミツク
などの耐火材で構成されたトンネル状の炉体であ
り、この炉体1には入口からたとえば炉長の約1/
3〜1/5の位置に相当する部位に内方へ張出す仕切
り壁2が設けられ、この仕切り壁2により入口側
の炉室3と後側の長大な炉室4とが区画形成され
ている。
5,5′は前記入口側の炉室内に所定間隔で配
設された赤外線ヒータであり、アルゴンなどの不
活性ガスを充填した石英シーズの如きにタングス
テンフイラメント類を納めたランプ等により構成
され、フイラメントに加える電圧により波長を直
接制御せしめるようになつている。
6は後側の長大な炉室4の全長にわたり挿設さ
れた炉芯管であり、石英もしくは耐熱鋼により構
成され、その先端部61をもつて前記仕切り壁2
に嵌合保持され、中間部はセキ8,8により間隔
的に支承されている。そして炉芯管6の外周域の
炉室内壁には抵抗発熱体7が配設され、測定用熱
電対9により給電力をコントロールするようにな
つている。
10はベルトコンベアであり、炉体前後のプー
リ11,11′に懸回され、駆動装置12により
所定速度で印刷基板Wを搬送するようになつてお
り、入口側の炉室3には炉床から炉芯管とほぼ同
レベルの高さでベルト受け13が設けられてい
る。
14は炉芯管6の後端に連接された冷却筒であ
り、水冷ジヤケツトにより2重筒として構成され
ている。15は入口筒であり乾燥清浄空気の導入
部16と強制排気部17が設けられている。
本考案は上記のような構成からなるので、基板
に抵抗ペーストなどを印刷した印刷基板Wを焼成
するにあたつては、予め赤外線ヒータ5,5′に
昇温及びバーンアウト用の所定電圧を設定すると
共に、抵抗発熱体7にフアイアリング用キープ温
度に対応する電力を設定し、各ガス導入部にクリ
ーンエアもしくはN2ガスを供給する。
このような条件で次に駆動装置12によりコン
ベアベルト10を移動させつつ、このコンベアベ
ルト10に印刷基板Wを栽置すれば、印刷基板W
は入口筒15から大きなボリユームの入口側炉室
3に装入される。この入口側炉室3には赤外線発
熱ヒータ5,5′が配設されており、各赤外線発
熱ヒータ5,5′から設定電圧に対応する波長で
赤外線エネルギが直接放射され、これが印刷基板
Wのペーストに急速に浸透する。これによりペー
ストは急加熱されペースト内有機物が蒸発しクリ
ーンエアによりバーンアウトされる。このように
赤外線加熱で予焼成とバーンアウトを行うため、
抵抗加熱方式にくらべて同工程に要する時間がき
わめて短かくなり、また赤外線放熱の特性から抵
抗加熱方式で急加熱した場合のようなペーストの
表面膜の剥れや有機物の噴出しなどの不具合が生
じない。
上記のように入口側炉室3で急加熱されること
により印刷基板Wは本焼成温度に到るが、この印
刷基板Wはベルトコンベア10により引続いて炉
芯管6に装入されそのまま移送されながら炉芯管
6の外周の抵抗発熱体7により一定時間のあいだ
加熱される。この場合、炉室4が入口側の炉室3
と仕切壁2により区画され、入口側炉室3の赤外
線放射エネルギによる外乱がほとんどないこと、
抵抗発熱体7による間接加熱であるため炉芯管内
全体が一様な温度分布となりいわゆるコールドポ
イントが生じないこと、温度制御が容易で赤外線
放射の場合のような電圧の変化に伴う波長のフラ
ツキという不安定要素がないこと、炉芯管6と入
口側炉室3との断面積差によりクリーンガスが入
口側方向へときれいに流れることなどにより、印
刷基板Wに高い温度精度と雰囲気を与えることが
できる。したがつて印刷ペーストの還元、酸化お
よび合金反応がきわめて安定した状態で進行し、
こうして焼成を終えた印刷基板Wは炉体1から送
出されることにより徐冷され、冷却部14におい
て降温冷却されることにより特性のバラツキの少
ない目的IC製品となる。
以上説明した本考案によるときには、トンネル
状炉体1内に入口側の炉室3と残部炉室4とを区
画する仕切壁2を設け、残部炉室4に入口側の炉
室3に到らぬように炉芯管6を内挿するととも
に、炉芯管6と入口側の炉室3を貫いてコンベア
ベルト10を移動自在に配す一方、入口側の炉室
3に被処理物を直接加熱してバーンアウトを行う
赤外線ヒータ5,5′を配設し、芯管6外周に本
焼成用の抵抗発熱体7を配したので、入口側の炉
室3において印刷基板に赤外線ヒータ5,5′か
ら電磁波が直接照射されてペーストが急速加熱さ
れ、それにより有機物が蒸発、バーンアウトさ
れ、るため、処理時間が極めて短く、かつペース
トの表面の割れや有機物の噴出が生じない。
しかも、続く焼成工程が抵抗加熱で行われ、温
度分布が一様で、電圧の変化による波長のフラツ
キすなわち電磁波のムラという不安定さがなく、
かつ、この抵抗加熱を行う残部炉室4が入口側の
炉室3と仕切壁2で区画されているため、炉室4
に赤外線による外乱がほとんどなく、さらに入口
側の炉室3と炉芯管6との断面積差によりクリー
ンガスが印刷基板と向流するように入口側に流れ
る。そのため、焼成工程が極めて高い温度精度条
件と雰囲気条件で行われ、前段のバーンアウト処
理とあいまち、回路特性のバラツキの少ない良質
の厚膜ICを歩留り良く量産することができると
いうすぐれた効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本考案に係る連続厚膜焼成炉の一実施
例を示す縦断側面図、第2図は第1図における予
熱・バーンアウトゾーンの拡大断面図、第3図は
第1図における本焼成ゾーンの拡大断面図であ
る。 1……炉体、2……仕切壁、3……入口側炉
室、4……残余炉室、5,5′……赤外線ヒータ、
6……炉芯管、7……抵抗発熱体、10……コン
ベアベルト。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 基板上に厚膜ペーストを印刷した被処理物をコ
    ンベアベルトで移送させつつ焼成する横型連続炉
    において、トンネル状炉体1内に入口側の炉室3
    と残部炉室4とを区画する仕切壁2を設け、残部
    炉室4に入口側の炉室3に到らぬように炉芯管6
    を内挿するとともに、炉芯管6と入口側の炉室3
    を貫いてコンベアベルト10を移動自在に配し、
    前記入口側の炉室3に被処理物を直接加熱してバ
    ーンアウトを行う赤外線ヒータ5,5′を配設し、
    炉芯管6外周に本焼成用の抵抗発熱体7を配した
    ことを特徴とする連続厚膜焼成炉。
JP2721282U 1982-03-01 1982-03-01 連続厚膜焼成炉 Granted JPS58131662U (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2721282U JPS58131662U (ja) 1982-03-01 1982-03-01 連続厚膜焼成炉

Applications Claiming Priority (1)

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JP2721282U JPS58131662U (ja) 1982-03-01 1982-03-01 連続厚膜焼成炉

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS58131662U JPS58131662U (ja) 1983-09-05
JPH0243038Y2 true JPH0243038Y2 (ja) 1990-11-15

Family

ID=30039129

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2721282U Granted JPS58131662U (ja) 1982-03-01 1982-03-01 連続厚膜焼成炉

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6247185A (ja) * 1985-08-27 1987-02-28 富士通株式会社 厚膜回路部品の乾燥炉

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5442283U (ja) * 1977-08-31 1979-03-22

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JPS58131662U (ja) 1983-09-05

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