JPS5918687Y2 - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置Info
- Publication number
- JPS5918687Y2 JPS5918687Y2 JP1980071121U JP7112180U JPS5918687Y2 JP S5918687 Y2 JPS5918687 Y2 JP S5918687Y2 JP 1980071121 U JP1980071121 U JP 1980071121U JP 7112180 U JP7112180 U JP 7112180U JP S5918687 Y2 JPS5918687 Y2 JP S5918687Y2
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- JP
- Japan
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- oxide film
- electrodes
- silver
- substrate
- electrode
- Prior art date
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- Expired
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Classifications
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/90—Bond pads, in general
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/071—Connecting or disconnecting
- H10W72/075—Connecting or disconnecting of bond wires
- H10W72/07551—Connecting or disconnecting of bond wires characterised by changes in properties of the bond wires during the connecting
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/50—Bond wires
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- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
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- H10W72/50—Bond wires
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- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
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- H10W72/50—Bond wires
- H10W72/59—Bond pads specially adapted therefor
-
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- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/90—Bond pads, in general
- H10W72/931—Shapes of bond pads
- H10W72/932—Plan-view shape, i.e. in top view
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- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/90—Bond pads, in general
- H10W72/981—Auxiliary members, e.g. spacers
- H10W72/983—Reinforcing structures, e.g. collars
Landscapes
- Wire Bonding (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は半導体装置、特に銀ボンディング細線を用いた
半導体装置の改良に関する。
半導体装置の改良に関する。
従来例を第1図を参照して説明する。
1はシリコン半導体基板、2は基板1表面に形成された
酸化膜、3はアルミニウムの電極、4は電極3を除く酸
化膜2表面を被覆するCVD酸化膜、5は銀のボンディ
ング細線、6は封止のためのエポキシ樹脂である。
酸化膜、3はアルミニウムの電極、4は電極3を除く酸
化膜2表面を被覆するCVD酸化膜、5は銀のボンディ
ング細線、6は封止のためのエポキシ樹脂である。
斯上の構造ではエポキシ樹脂6またはリードフレーム界
面を通って侵入する水分によってエポキシ樹脂6とCV
D酸化膜4の界面に銀7の析出現象が発生する。
面を通って侵入する水分によってエポキシ樹脂6とCV
D酸化膜4の界面に銀7の析出現象が発生する。
この銀7の析出は電位の高い電極3から電位の低い電極
3方向に戊長し、やがて電極間を短絡してしまう。
3方向に戊長し、やがて電極間を短絡してしまう。
本考案は斯点に鑑みてなされ、銀の析出現象を防止する
半導体装置を実現するものであり、本考案の一実施例を
第2図および第3図を参照して詳述する。
半導体装置を実現するものであり、本考案の一実施例を
第2図および第3図を参照して詳述する。
第2図は本考案の上面図であり、第3図は第2図のA−
A線断面図である。
A線断面図である。
11はシリコン半導体基板であり、基板11内にはトラ
ンジスタ・ダイオード・集積回路等が形成されている。
ンジスタ・ダイオード・集積回路等が形成されている。
12は基板11表面を被覆する酸化膜であり、熱酸化な
どで形成される。
どで形成される。
13はアルミニウムの電極であり、基板11の端部等に
複数個形成される。
複数個形成される。
14はCVD酸化膜であり、基板11内に形成された素
子や配線の保護を行うためのものであり電極13を除く
酸化膜12のほぼ全面に形成されている。
子や配線の保護を行うためのものであり電極13を除く
酸化膜12のほぼ全面に形成されている。
15は銀のボンディング細線であり、一端を電極13に
固着されている。
固着されている。
従来多用された金のボンディング細線を銀に換えること
によりコストダウンができる。
によりコストダウンができる。
16は封止のためのエポキシ樹脂である。
本考案の特徴は電極13間のCVD酸化膜14をエツチ
ングして溝18を設けることにある。
ングして溝18を設けることにある。
溝18は電極13の三辺を囲むコ字状の溝18とコ字状
の溝18の間に形成される1つ以上の直線状の溝18か
ら構成される。
の溝18の間に形成される1つ以上の直線状の溝18か
ら構成される。
これらの溝はCVD酸化膜14をエツチングして電極1
3を露出する工程で同時形成される。
3を露出する工程で同時形成される。
本考案に依ればエポキシ樹脂16とCVD酸化膜14の
界面の電極13間のパスが凹凸状となり長くなりまたエ
ポキシ樹脂16CVD酸化膜14の結合もこの凹凸でか
なり強化される。
界面の電極13間のパスが凹凸状となり長くなりまたエ
ポキシ樹脂16CVD酸化膜14の結合もこの凹凸でか
なり強化される。
この結果銀ボンディング細線15からの銀17の析出は
この溝18によってかなり押えられ、銀の析出による電
極13の短絡を防げる。
この溝18によってかなり押えられ、銀の析出による電
極13の短絡を防げる。
以上に詳記した如く本考案に依れば、CVD酸化膜に溝
を形成するだけで銀の析出による電極の短絡を防止でき
且つ金より安価に銀ポンチ゛イング細線を用いることを
可能とする。
を形成するだけで銀の析出による電極の短絡を防止でき
且つ金より安価に銀ポンチ゛イング細線を用いることを
可能とする。
第1図は従来例を説明する断面図、第2図は本考案を説
明する上面図、第3図は第2図のA−A線断面図である
。
明する上面図、第3図は第2図のA−A線断面図である
。
Claims (1)
- 半導体基板と該基板上に形成された酸化膜と該酸化膜上
に形成された複数の電極と該電極を除く前記酸化膜を被
覆するCVD酸化膜と前記電極に固着された銀ボンディ
ング細線とを具備する半導体装置に於いて、前記電極間
のCVD酸化膜をエツチングして溝を設けることを特徴
とする半導体装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1980071121U JPS5918687Y2 (ja) | 1980-05-22 | 1980-05-22 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1980071121U JPS5918687Y2 (ja) | 1980-05-22 | 1980-05-22 | 半導体装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS56172942U JPS56172942U (ja) | 1981-12-21 |
| JPS5918687Y2 true JPS5918687Y2 (ja) | 1984-05-30 |
Family
ID=29664941
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1980071121U Expired JPS5918687Y2 (ja) | 1980-05-22 | 1980-05-22 | 半導体装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5918687Y2 (ja) |
-
1980
- 1980-05-22 JP JP1980071121U patent/JPS5918687Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS56172942U (ja) | 1981-12-21 |
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