JPS59190368A - 金属板のエツチング装置及びそのエツチング液再生方法 - Google Patents
金属板のエツチング装置及びそのエツチング液再生方法Info
- Publication number
- JPS59190368A JPS59190368A JP6367983A JP6367983A JPS59190368A JP S59190368 A JPS59190368 A JP S59190368A JP 6367983 A JP6367983 A JP 6367983A JP 6367983 A JP6367983 A JP 6367983A JP S59190368 A JPS59190368 A JP S59190368A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- etching
- iron
- composition
- nickel
- ability
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F1/00—Etching metallic material by chemical means
- C23F1/46—Regeneration of etching compositions
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は金属板のエツチング装置及びそのエツチング液
再生方法に係り、特に鉄及びニッケルを主成分とする金
属板のエツチングに関するものである。
再生方法に係り、特に鉄及びニッケルを主成分とする金
属板のエツチングに関するものである。
一般にカラー受像管はフェース内面に赤、青及び緑にそ
れぞれ発光する螢光体を多数配列した螢光面とこの螢光
面に近接対向して配設され多数の′鴫子と一ム開孔を有
するシャドウマスクとこのシャドウマスクに対向配設さ
れ３本の電子ビームを射出する電子銃とから構成さ几て
いる。このシャドウマスクは多数の電子ビーム開孔を介
して３本の電子ビームを正しく対応した位置に射突させ
るための色選別１能を有する重要な部材である。このよ
うなシャドウマスクは量産工程としての供給能力、コス
ト、加工性及び強度等の総合的観点や１ら一般に高純度
の鉄を素材とする厚さＱ、 ｌ ｍｍ乃至０３朋の薄板
にエツチングにより多数の電子ビーム開孔を穿設Ｕ２て
いる。第１図はシャドウマスクのエツチング装置の概略
を示す構成図である。まず所定の厚さの鉄板の両面にレ
ジスト膜を塗布形成し、マスクパターンな介して露光し
、次いで現像し、開孔を穿設すべき部分のレジストＭを
ｉ除去する（図示せず）。
れぞれ発光する螢光体を多数配列した螢光面とこの螢光
面に近接対向して配設され多数の′鴫子と一ム開孔を有
するシャドウマスクとこのシャドウマスクに対向配設さ
れ３本の電子ビームを射出する電子銃とから構成さ几て
いる。このシャドウマスクは多数の電子ビーム開孔を介
して３本の電子ビームを正しく対応した位置に射突させ
るための色選別１能を有する重要な部材である。このよ
うなシャドウマスクは量産工程としての供給能力、コス
ト、加工性及び強度等の総合的観点や１ら一般に高純度
の鉄を素材とする厚さＱ、 ｌ ｍｍ乃至０３朋の薄板
にエツチングにより多数の電子ビーム開孔を穿設Ｕ２て
いる。第１図はシャドウマスクのエツチング装置の概略
を示す構成図である。まず所定の厚さの鉄板の両面にレ
ジスト膜を塗布形成し、マスクパターンな介して露光し
、次いで現像し、開孔を穿設すべき部分のレジストＭを
ｉ除去する（図示せず）。
このようＫして準備されたマスク原板（図示せず）はエ
ツチング室（１）内に入り多数のノズル（図示せず）か
ら噴出される第２塩化鉄（ＦｅＣｌ、）からなるエツチ
ング液によりエツチングされ開孔が穿設される。エツチ
ング液はエツチングタンク（４）からポンプ（Ｐｌ）を
介してエツチング室（１）に入りマニホールド（２）か
らノズル（図示亡ず）を介して噴出されライン（３）か
ら再びエツチングタンク（４）へ戻る。
ツチング室（１）内に入り多数のノズル（図示せず）か
ら噴出される第２塩化鉄（ＦｅＣｌ、）からなるエツチ
ング液によりエツチングされ開孔が穿設される。エツチ
ング液はエツチングタンク（４）からポンプ（Ｐｌ）を
介してエツチング室（１）に入りマニホールド（２）か
らノズル（図示亡ず）を介して噴出されライン（３）か
ら再びエツチングタンク（４）へ戻る。
ここで、エツチング時に、
Ｆｅ ＋２ＦｅＣＡ！３→３ＦｅＣ１２（１）なる反応
が生じ、このＦｅＣ１，はエツチング能力を有さない組
成物である。従ってエツチングが継続されこのＦｅＣｌ
２が生成増加するに従ってエツチング能率は低下する。
が生じ、このＦｅＣ１，はエツチング能力を有さない組
成物である。従ってエツチングが継続されこのＦｅＣｌ
２が生成増加するに従ってエツチング能率は低下する。
しかし乍ら、ＦｅＣ７１，に塩素ガスを溶解させること
により、 ３ＦｅＣｌｔ ＋ ３／２ Ｃ１ｂ −） ３Ｆｅ（Ｊ
！ｓ （２）なる反応を生じさせ元のエツチン
グ能力を有する第２塩化鉄に環元再生することができる
（ここで言う環元とは化学的意味の環元ではなく、あく
まで元に戻す意味のことを指す）。
により、 ３ＦｅＣｌｔ ＋ ３／２ Ｃ１ｂ −） ３Ｆｅ（Ｊ
！ｓ （２）なる反応を生じさせ元のエツチン
グ能力を有する第２塩化鉄に環元再生することができる
（ここで言う環元とは化学的意味の環元ではなく、あく
まで元に戻す意味のことを指す）。
従ってエツチング装置は前述のエツチング液循環系に加
えて塩素ガス注入系（６）を有しており、さらに水注入
系（７）及び遊離塩ｅ量を制御するためのＨＣ７注入系
（８）により環元再生された第２塩化鉄のＰＨ１組成及
び比重を調整している。熱交換器（５）は温度を制御す
るためのものである。エツチング液の一部はエツチング
タンク（４）の排出口（９）から排液処理装置（図示せ
ず）を介して廃棄される。
えて塩素ガス注入系（６）を有しており、さらに水注入
系（７）及び遊離塩ｅ量を制御するためのＨＣ７注入系
（８）により環元再生された第２塩化鉄のＰＨ１組成及
び比重を調整している。熱交換器（５）は温度を制御す
るためのものである。エツチング液の一部はエツチング
タンク（４）の排出口（９）から排液処理装置（図示せ
ず）を介して廃棄される。
従来のエツチング装置では以上のようにしてエツチング
が継続して実施される。しかし乍ら鉄を素材とするシャ
ドウマスクの最大の欠点はその膨張係数が０〜１００℃
で約１２ Ｘ １０−’ と非常に大きいことである
。シャドウマスク型カラー受像管ではその用溝上電子ビ
ームの約２／３以上がシャドウマスクに射突し熱エネル
ギーに変換されシャドウマスクを加熱膨張させる。この
結果シャドウマスクと螢光面との距離（以降ｑ値と略称
する）が変化し、電子ビームが正しく対応した螢光体に
射突しなくなり色純度の劣化を生じ、致命的な欠陥とな
る。この色純度の劣化を防止するために種々の工夫が為
されているが、鉄を素材としたシャドウマスクを用いて
いる限り完全な対策は見出されていない。
が継続して実施される。しかし乍ら鉄を素材とするシャ
ドウマスクの最大の欠点はその膨張係数が０〜１００℃
で約１２ Ｘ １０−’ と非常に大きいことである
。シャドウマスク型カラー受像管ではその用溝上電子ビ
ームの約２／３以上がシャドウマスクに射突し熱エネル
ギーに変換されシャドウマスクを加熱膨張させる。この
結果シャドウマスクと螢光面との距離（以降ｑ値と略称
する）が変化し、電子ビームが正しく対応した螢光体に
射突しなくなり色純度の劣化を生じ、致命的な欠陥とな
る。この色純度の劣化を防止するために種々の工夫が為
されているが、鉄を素材としたシャドウマスクを用いて
いる限り完全な対策は見出されていない。
このような観点から鉄及びニッケルを主成分とする素材
をシャドウマスクに適用する例が特公昭４２−２５４４
６号公報、特開昭５０−５８９７７号公報及び特開昭５
０−６８６５０号公報等で提案されている。例えば３６
ニツケルー６４鉄のいわゆるアンバー合金はその熱膨張
係数が０〜１００℃で約Ｏ〜２Ｘ１０’と極めて小さく
、シャドウマスクの熱膨張に起因するｑ値の変化は殆ん
ど起シ得ず、色純度劣化の問題が解決される。しかし乍
ら鉄及びニッケルを主成分とする素材を塩化第２鉄によ
り開孔穿設する場合、特に成分中のニッケルについては
、Ｎｉ 千２Ｆ”ｅＣｌａ −） ＮｉＣ４＋２ＦｅＣ
１１２（３１なる反応によりエツチング能力を有さない
ＮＩＣ１２とＦｅＣ７１２が生成される。このうちＦｅ
Ｃ４は前述の塩素ガスの溶解により元のエツチング能力
を有する第２塩化鉄に環元することができるが、ＮＩＣ
１２の方は塩素ガスの溶解手段では第２塩化鉄には環元
されない。従ってエツチングの継続に伴って之等のエツ
チング能力を有さない組成物ＮｉＣ４が増加し、エツチ
ング能力が次第に低下する。またエツチング温度、比重
及び時間等の条件を遂時変化させて管理する事も考えら
れるが、工程管理は非常に複雑となり、且つ均一な穿設
開孔の精度も期し難い。またＮｉＣ４の増加によりエツ
チング液のＰＨが変化し、水酸化鉄が形成され易くなり
、これが開孔に沈積して開孔形状をより悪化させる。
をシャドウマスクに適用する例が特公昭４２−２５４４
６号公報、特開昭５０−５８９７７号公報及び特開昭５
０−６８６５０号公報等で提案されている。例えば３６
ニツケルー６４鉄のいわゆるアンバー合金はその熱膨張
係数が０〜１００℃で約Ｏ〜２Ｘ１０’と極めて小さく
、シャドウマスクの熱膨張に起因するｑ値の変化は殆ん
ど起シ得ず、色純度劣化の問題が解決される。しかし乍
ら鉄及びニッケルを主成分とする素材を塩化第２鉄によ
り開孔穿設する場合、特に成分中のニッケルについては
、Ｎｉ 千２Ｆ”ｅＣｌａ −） ＮｉＣ４＋２ＦｅＣ
１１２（３１なる反応によりエツチング能力を有さない
ＮＩＣ１２とＦｅＣ７１２が生成される。このうちＦｅ
Ｃ４は前述の塩素ガスの溶解により元のエツチング能力
を有する第２塩化鉄に環元することができるが、ＮＩＣ
１２の方は塩素ガスの溶解手段では第２塩化鉄には環元
されない。従ってエツチングの継続に伴って之等のエツ
チング能力を有さない組成物ＮｉＣ４が増加し、エツチ
ング能力が次第に低下する。またエツチング温度、比重
及び時間等の条件を遂時変化させて管理する事も考えら
れるが、工程管理は非常に複雑となり、且つ均一な穿設
開孔の精度も期し難い。またＮｉＣ４の増加によりエツ
チング液のＰＨが変化し、水酸化鉄が形成され易くなり
、これが開孔に沈積して開孔形状をより悪化させる。
さらにエツチング能力が管理基準値以下、例えば第２塩
化鉄５０ｑ６溶液中ＫＮｉｃ７．が５チをこえると開孔
形状が乱れマスクとして使用不能となり、全て新らしい
エツチング液に交換せねばならず、交換時間とエツチン
グ系が安定するまでの時間は長時間を要し生産性を低下
させる。
化鉄５０ｑ６溶液中ＫＮｉｃ７．が５チをこえると開孔
形状が乱れマスクとして使用不能となり、全て新らしい
エツチング液に交換せねばならず、交換時間とエツチン
グ系が安定するまでの時間は長時間を要し生産性を低下
させる。
本発明は以上の点に鑑へてなされたもので、鉄及びニッ
ケルを主成分とする金属板Ｏエツチングにおして反応生
成されるエツチング能力を有さない組成物のりら主とし
てニッケルを含む組成物を：除去しエツチング能力を有
する元のエツチング液に戻すためのエツチング装置及び
その再生方法を提供することを目的とする。
ケルを主成分とする金属板Ｏエツチングにおして反応生
成されるエツチング能力を有さない組成物のりら主とし
てニッケルを含む組成物を：除去しエツチング能力を有
する元のエツチング液に戻すためのエツチング装置及び
その再生方法を提供することを目的とする。
ｒ発明の概要〕
本発明は鉄及びニッケルを主成分とする金属板のエツチ
ングにおいて、エツチング液との反応によって生成され
るエツチング能力を有さない組成物を変性させ、ニッケ
ルを含む組成物を分離除去し、鉄を含む組成物を元のエ
ツチング能力を有するエツチング液に再生するエツチン
グ装置及びその再生方法である。
ングにおいて、エツチング液との反応によって生成され
るエツチング能力を有さない組成物を変性させ、ニッケ
ルを含む組成物を分離除去し、鉄を含む組成物を元のエ
ツチング能力を有するエツチング液に再生するエツチン
グ装置及びその再生方法である。
〔発明の実施ＷＩＪ ）
以下本発明の実施例について詳７ｉ′Ｉ１１に説明する
。
。
尚、シャドウマスク型カラー受像管の構成とシャドウマ
スクの構成１幾能については従来と同様であるので詳側
な説明は省略し、以下エツチングに関してのみ説明する
。
スクの構成１幾能については従来と同様であるので詳側
な説明は省略し、以下エツチングに関してのみ説明する
。
第２図に本発明のエツチング装置の実施例としての概略
構成を示す。
構成を示す。
鉄及びニッケルを主成分とする所定の厚さの金属板の両
面にレジスト膜を塗布形成し、マスクパターンを介して
露光し、次いで現像し、開孔を穿設すべき部分のレジス
ト膜を除去しエツチングすべき部分を露出さピる（図示
せず）。
面にレジスト膜を塗布形成し、マスクパターンを介して
露光し、次いで現像し、開孔を穿設すべき部分のレジス
ト膜を除去しエツチングすべき部分を露出さピる（図示
せず）。
このようにして準備されたマスク原板（図示せず）はエ
ツチング室（１）内に入り第２塩化鉄（ＦｅＣＡｓ）か
らなるエツチング液によりエツチング１九開孔が穿設さ
れる。エツチング液はエツチングタンク（４）からポン
プ（Ｐ、）を介してエツチング室（１）に入りマニホー
ルド（２）に設けられた多数のノズル〔図示せず〕から
噴出され、ライン（３）から再びエツチングタンク（４
）へ戻る循環系を循環する。この循環系には塩素ガス注
入系（６）、水注入系（７）及びＨＣｌ注入系（８）が
付加され、エツチングにより反応生成されるエツチング
能力を有さない組成物のうち（１）式の鉄を含む組成物
を（２）式に示すように第２塩化鉄に再生し遊離塩酸量
、ＰＨ，組成及び比重を調整する。熱交換器（５）は液
温を１′Ａ整するためのものである。また液の一部はエ
ツチングタンク（４）の排出口（９）から排液処理装置
（図示せず）を介して廃棄される。
ツチング室（１）内に入り第２塩化鉄（ＦｅＣＡｓ）か
らなるエツチング液によりエツチング１九開孔が穿設さ
れる。エツチング液はエツチングタンク（４）からポン
プ（Ｐ、）を介してエツチング室（１）に入りマニホー
ルド（２）に設けられた多数のノズル〔図示せず〕から
噴出され、ライン（３）から再びエツチングタンク（４
）へ戻る循環系を循環する。この循環系には塩素ガス注
入系（６）、水注入系（７）及びＨＣｌ注入系（８）が
付加され、エツチングにより反応生成されるエツチング
能力を有さない組成物のうち（１）式の鉄を含む組成物
を（２）式に示すように第２塩化鉄に再生し遊離塩酸量
、ＰＨ，組成及び比重を調整する。熱交換器（５）は液
温を１′Ａ整するためのものである。また液の一部はエ
ツチングタンク（４）の排出口（９）から排液処理装置
（図示せず）を介して廃棄される。
さらに液の一定量はエツチングタンク（４）からポンプ
（Ｐ２）を介して再生循環系にまわされる。即ちまず反
応タンクａ〔では添加剤αυとしてアンモニア水が添加
される。
（Ｐ２）を介して再生循環系にまわされる。即ちまず反
応タンクａ〔では添加剤αυとしてアンモニア水が添加
される。
（１）式及び（３）式に示すようなエツチング能力を有
さない鉄イオン及びニッケルイオンを含む組成物中に過
剰のアンモニア水を添加すると、鉄イオンを含む組成物
は水酸化鉄Ｆｅ（ＯＨ）ｓ 及びｒｅ（ＯＨ）。
さない鉄イオン及びニッケルイオンを含む組成物中に過
剰のアンモニア水を添加すると、鉄イオンを含む組成物
は水酸化鉄Ｆｅ（ＯＨ）ｓ 及びｒｅ（ＯＨ）。
として水に不溶の沈澱物に変性する。一方、ニッケルイ
オンを含む組成物はニッケルアミン錯塩Ｎ１（ＮＨ３）
、・Ｈ，Ｏとして液中に溶解したままの状態となる。こ
のように変性された各組成物はポンプ（Ｐ、）を介して
濾過器Ｉに移され、ここで液状のニッケルアミン錯塩は
排出口（１５１から排液処理装置（図示せず）を介して
廃棄される。一方、水酸化鉄として沈澱した変性組成物
は濾過により分離され溶解タンクａ３１に移される。こ
の水酸化鉄からなる変性組成物に添加剤圓として塩酸を
攪拌し乍ら添加すると、 Ｆｅ （ＯＨ）ｓ ＋３ＨＣｌ →Ｆｅ Ｃ１４＋３Ｈ
ｔＯ（４）Ｆｅ （ＯＨ）ｔ＋２ＨＣ／ −＋ Ｆｅ
Ｃ！ｌｔ＋２ＨｔＯ（５）なる反応により溶解しＦｅＣ
ｌ３とＦｅＣ４が得られるＯこの時塩酸の添加量は遊離
塩酸量を考慮し消費される塩酸より過剰に添加するとよ
い。
オンを含む組成物はニッケルアミン錯塩Ｎ１（ＮＨ３）
、・Ｈ，Ｏとして液中に溶解したままの状態となる。こ
のように変性された各組成物はポンプ（Ｐ、）を介して
濾過器Ｉに移され、ここで液状のニッケルアミン錯塩は
排出口（１５１から排液処理装置（図示せず）を介して
廃棄される。一方、水酸化鉄として沈澱した変性組成物
は濾過により分離され溶解タンクａ３１に移される。こ
の水酸化鉄からなる変性組成物に添加剤圓として塩酸を
攪拌し乍ら添加すると、 Ｆｅ （ＯＨ）ｓ ＋３ＨＣｌ →Ｆｅ Ｃ１４＋３Ｈ
ｔＯ（４）Ｆｅ （ＯＨ）ｔ＋２ＨＣ／ −＋ Ｆｅ
Ｃ！ｌｔ＋２ＨｔＯ（５）なる反応により溶解しＦｅＣ
ｌ３とＦｅＣ４が得られるＯこの時塩酸の添加量は遊離
塩酸量を考慮し消費される塩酸より過剰に添加するとよ
い。
謀「
次 式の反応番でよって得られたＦｅ（Ｊ、とＦｅ
Ｃ＆を含む溶液はポンプ（Ｐ４）を介して調整タンク住
ｅに移し、水又は温水叩を添加して液の比重及び温度を
調整する。調整後溶液はポンプ（Ｐ、）を介して再びエ
ツチングタンク（４）に戻され再生装置系を形成する。
Ｃ＆を含む溶液はポンプ（Ｐ４）を介して調整タンク住
ｅに移し、水又は温水叩を添加して液の比重及び温度を
調整する。調整後溶液はポンプ（Ｐ、）を介して再びエ
ツチングタンク（４）に戻され再生装置系を形成する。
必要ならばエツチングタンクａ４への途中に熱交換器を
配してもよい（図示せず）。環元されたＰｅＣ１５とＦ
ｅ（Ｊ、のうちＦｅＣ７ｊ、はエツチング液循環系の塩
素ガス溶解により容易に第２塩化鉄に戻すことができる
（ここで言う環元は化学的意味ではなく元に戻す意味を
指す）。このようＫして循環装置系及び再生装置系のプ
ロセスを一定時間毎に繰り返すことＫよシエッチング液
中のニッケルを含むエツチング能力を有さない組成物の
量（比）を管理限界値以下に制御することができる。循
環装置系から再生装置系へまわす量はタンク容量とニッ
ケルを含む組成物の管理限界値をどれ位にするかで実験
的に決定することができる。
配してもよい（図示せず）。環元されたＰｅＣ１５とＦ
ｅ（Ｊ、のうちＦｅＣ７ｊ、はエツチング液循環系の塩
素ガス溶解により容易に第２塩化鉄に戻すことができる
（ここで言う環元は化学的意味ではなく元に戻す意味を
指す）。このようＫして循環装置系及び再生装置系のプ
ロセスを一定時間毎に繰り返すことＫよシエッチング液
中のニッケルを含むエツチング能力を有さない組成物の
量（比）を管理限界値以下に制御することができる。循
環装置系から再生装置系へまわす量はタンク容量とニッ
ケルを含む組成物の管理限界値をどれ位にするかで実験
的に決定することができる。
以上のように本発明によれば、鉄及びニッケルを主成分
とする金属板のエツチングにおいて、エツチング液と反
応生成されるエツチング能力を有さない鉄及びニッケル
を含む組成物を分離し、鉄を含む組成物のみを効果的に
エツチング能力を有する組成物に再生することができ、
エツチング精度を常に一定・に管理することができるの
で、その工業的価値は大である。
とする金属板のエツチングにおいて、エツチング液と反
応生成されるエツチング能力を有さない鉄及びニッケル
を含む組成物を分離し、鉄を含む組成物のみを効果的に
エツチング能力を有する組成物に再生することができ、
エツチング精度を常に一定・に管理することができるの
で、その工業的価値は大である。
第１図は従来のエツチング装置を示す概略構成図、第２
図は本発明のエツチング装置の一実施例を示す概略構成
図である。 （１）・・エツチング室［２）・マニホールド（３）・
ラ４７ １４）・・エツチングタンク（５
）・熱交換器 （６）・・塩素ガス注入系（７
）、ａη・・・水注入系 （８）・・ＨＣ／注入
系＋９７．（１５）・・排出口 ａト・・反応
タンクａυ、＋１４１ 添加剤注入系 ａｚ・・濾
過器（１３・・溶解タンク αｅ・調整タンク、
スズ千１・υ
図は本発明のエツチング装置の一実施例を示す概略構成
図である。 （１）・・エツチング室［２）・マニホールド（３）・
ラ４７ １４）・・エツチングタンク（５
）・熱交換器 （６）・・塩素ガス注入系（７
）、ａη・・・水注入系 （８）・・ＨＣ／注入
系＋９７．（１５）・・排出口 ａト・・反応
タンクａυ、＋１４１ 添加剤注入系 ａｚ・・濾
過器（１３・・溶解タンク αｅ・調整タンク、
スズ千１・υ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）鉄及びニッケルを主成分とする金属板をエツチング
液によシ所定のパターンにエツチング液る金属板のエツ
チング装置において、前記エツチング装置は前記エツチ
ング液をエツチング室とエツチング液タンクを介して循
環させる循環装置系と、前記鉄及びニッケルを主成分と
する金属板のエツチングによって反応生成されるエツチ
ング能力を有さない組成物のうちニッケルを含む組成物
を除去し且つ鉄を含む組成物を残留させ、エツチング能
力を有するエツチング液に還元する再生装置系とを有す
ることを特徴とする金属板のエツチング装置。 ２）前記再生装置系は前記エツチング能力を有さない組
成物と添加剤との反応装置と反応した鉄及びニッケルを
含む変性組成物の濾過装置と鉄を含む変性組成物をエツ
チング能力を有するエツチング液に環元する環元装置と
を少くとも備えたことを特徴とする特許請求の範囲第１
項記載の金属板のエツチング装置。 ３）エツチング液による鉄及びニッケルを主成分とする
金属板のエツチングによって反応生成されるエツチング
能力を有さない鉄及びニッケルを含む組成物からエツチ
ング能力を有する前記エツチング液を再生するエツチン
グ液再生方法にｋいて、前記エツチング能力を有さない
組成物全変性する手段と鉄を含む前記変性組成物を分離
する手段と前記分離された鉄を含む変性組成物をエツチ
ング能力を有する鉄を含む前記エツチング液に環元再生
する手段とを備えたことを特徴とするエツチング液再生
方法。 ４）前記エツチング液が鉄を含む塩化物からなり、前記
エツチング能力を有さない鉄及びニッケルを含む塩化物
からなる組成物を添加剤と反応させ前記ニッケルを含む
組成物を水溶性アミン酢塩に前記鉄を含む組成物を沈澱
性水酸化物にそれぞれ変性させ、前記鉄を含む沈澱性変
性組成物のみを濾過法により分離し、前記分離された鉄
を含む変性組成物を環元剤と反応させてエツチング能力
を有する前記エツチング液を含む塩化物に再生すること
を特徴とする特許請求の範囲第３項記載のエツチング液
再生方法。 ５）前記エツチング液が第２塩化鉄、前記添加剤がアン
モニア、前記環元剤が塩酸であることを特徴とする特許
請求の範囲第４項記載のエツチング液再生方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6367983A JPS59190368A (ja) | 1983-04-13 | 1983-04-13 | 金属板のエツチング装置及びそのエツチング液再生方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6367983A JPS59190368A (ja) | 1983-04-13 | 1983-04-13 | 金属板のエツチング装置及びそのエツチング液再生方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59190368A true JPS59190368A (ja) | 1984-10-29 |
Family
ID=13236288
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6367983A Pending JPS59190368A (ja) | 1983-04-13 | 1983-04-13 | 金属板のエツチング装置及びそのエツチング液再生方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59190368A (ja) |
-
1983
- 1983-04-13 JP JP6367983A patent/JPS59190368A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2009235438A (ja) | エッチング液、該エッチング液を用いたエッチング方法および被エッチング基板 | |
| US4313808A (en) | Electrodialyzer and method of regenerating waste photographic processing solution | |
| CA1069367A (en) | Plating solution containing an inorganic redox couple and a complexing agent for cuprous ions | |
| TW201542873A (zh) | 連續鉑層之無電沉積 | |
| US4578162A (en) | Method for dissolving copper in the presence of iron | |
| JPS59190368A (ja) | 金属板のエツチング装置及びそのエツチング液再生方法 | |
| JPS59190367A (ja) | 金属板のエツチング装置及びそのエツチング液再生方法 | |
| US4440729A (en) | Procedure for chemical, automatic dissolution of molybdenum core wire in tungsten filament coil and a device for implementing the procedure | |
| JPS6337192B2 (ja) | ||
| JPS58167770A (ja) | シヤドウマスクの製造方法 | |
| JP2001316893A (ja) | 不溶性陽極を使用する表面処理方法及びその装置 | |
| US3887371A (en) | Photographic method for printing viewing-screen structure including treatment of exposed coating with ammonium compound | |
| US3681110A (en) | Method of producing a luminescent-screen structure including light-emitting and light-absorbing areas | |
| US3342594A (en) | Method for making color phosphor screens | |
| JP2003293184A (ja) | 有孔金属板の製造法 | |
| SU1175370A3 (ru) | Способ образовани кислотоустойчивой копии на поверхности | |
| JP2965457B2 (ja) | ニッケルを含む塩化鉄系廃液の再生方法 | |
| JPS60200985A (ja) | シヤドウマスクの製造方法 | |
| JPS59100441A (ja) | 物体表面から付着不溶化したポリビニルアルコ−ル部分を除去する方法 | |
| IE44382B1 (en) | Electrolytic production of perforated metal foil | |
| CN115893537A (zh) | 一种剥锡废液的净化再生方法 | |
| US3706558A (en) | Photographic method for printing viewing screen structure including treatment of exposed coating before development | |
| JPH04296346A (ja) | ポリビニルピロリドン系感光材の改質方法 | |
| JP2004143001A (ja) | セリウム回収方法 | |
| RU2095471C1 (ru) | Устройство для регенерации медьсодержащих растворов травления |