JPS59190576A - 低トルクシ−ル - Google Patents
低トルクシ−ルInfo
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- JPS59190576A JPS59190576A JP58066683A JP6668383A JPS59190576A JP S59190576 A JPS59190576 A JP S59190576A JP 58066683 A JP58066683 A JP 58066683A JP 6668383 A JP6668383 A JP 6668383A JP S59190576 A JPS59190576 A JP S59190576A
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- rubber
- seal
- coating
- seal lip
- sputter etching
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Links
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Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16J—PISTONS; CYLINDERS; SEALINGS
- F16J15/00—Sealings
- F16J15/16—Sealings between relatively-moving surfaces
- F16J15/32—Sealings between relatively-moving surfaces with elastic sealings, e.g. O-rings
- F16J15/3284—Sealings between relatively-moving surfaces with elastic sealings, e.g. O-rings characterised by their structure; Selection of materials
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Sealing With Elastic Sealing Lips (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、低トルクシールに関する。更に詳しくは、ゴ
ム製シールリップの表面にフッ素系樹脂コーティングを
行なった往復動用および回転用の低トルクシールに関す
る。
ム製シールリップの表面にフッ素系樹脂コーティングを
行なった往復動用および回転用の低トルクシールに関す
る。
オイルシールによって代表され、る往復動用および回転
用シールのトルクを低くするために、従来から各種の方
法が行わわているが、それぞれ次のような欠点がみられ
る。
用シールのトルクを低くするために、従来から各種の方
法が行わわているが、それぞれ次のような欠点がみられ
る。
(1)摺動部の面積を小さくする。
この場合には、ゴムが本来有する特性から、摺動抵抗を
ある程度以下に減少させることはできない0 (2)摺動部に摩擦抵抗の小さい材料、例えばテトラフ
ルオロエチレン樹脂などを接着する。
ある程度以下に減少させることはできない0 (2)摺動部に摩擦抵抗の小さい材料、例えばテトラフ
ルオロエチレン樹脂などを接着する。
この場合には、摩擦係数は減少するものの、密封性を維
持するため緊迫力を強める必要があり、そのために抵抗
値としてはそれ程改善はされず、またリップの追従性も
悪化する。
持するため緊迫力を強める必要があり、そのために抵抗
値としてはそれ程改善はされず、またリップの追従性も
悪化する。
(3)摺動部に摩擦抵抗の小さい材料を塗付したり、吠
き付けたりする。例えば、テトラフルオロエチレン樹脂
コーティングなどが行われる。
き付けたりする。例えば、テトラフルオロエチレン樹脂
コーティングなどが行われる。
この場合には、テトラフルオロエチレン樹脂などが有す
る特性から摺動性が良好であり、しかもコーテイング膜
の厚さが数10μm程度と薄く、機械的にはゴム製シー
ルリップの特性が十分発揮されるため緊迫力は大きくな
らず、追従性も良好であるが、ゴム層とテトラフルオロ
エチレン樹脂層との密着性に問題があり、使用したとき
比較的早くコーチインク層が剥離し、摩擦力を増大させ
る。
る特性から摺動性が良好であり、しかもコーテイング膜
の厚さが数10μm程度と薄く、機械的にはゴム製シー
ルリップの特性が十分発揮されるため緊迫力は大きくな
らず、追従性も良好であるが、ゴム層とテトラフルオロ
エチレン樹脂層との密着性に問題があり、使用したとき
比較的早くコーチインク層が剥離し、摩擦力を増大させ
る。
本発明は、かかるテトラフルオロエチレン樹脂などのコ
ーティング法において、ゴム層とコーティング層との間
の接着性を改善することを目的としており、本発明のか
かる目的は、往復動用および回転用のシールにおいて、
ゴム製シールリップの表面に不活性ガスのグロー放電捷
たけ高周波スパッタエツチング処理を施した後、フッ累
系樹脂コーティングを行なうことにより達成され、その
結果として低トルク化が十分に達成されることが見出さ
れた。
ーティング法において、ゴム層とコーティング層との間
の接着性を改善することを目的としており、本発明のか
かる目的は、往復動用および回転用のシールにおいて、
ゴム製シールリップの表面に不活性ガスのグロー放電捷
たけ高周波スパッタエツチング処理を施した後、フッ累
系樹脂コーティングを行なうことにより達成され、その
結果として低トルク化が十分に達成されることが見出さ
れた。
このような前処理を行なうことにより、フッ素系樹脂の
コーティングが行わえするゴム製シールリップの表面に
、細かな凹凸を生じさせ同時に活性化させることで、フ
ッ素系樹脂コーティング層との密着性を向上させ、フッ
素系樹脂コーティングシールの寿命を格段と向上させる
ことができる。
コーティングが行わえするゴム製シールリップの表面に
、細かな凹凸を生じさせ同時に活性化させることで、フ
ッ素系樹脂コーティング層との密着性を向上させ、フッ
素系樹脂コーティングシールの寿命を格段と向上させる
ことができる。
そして、このことによって、低トルクシールとしての多
くの利点が得らね、J!IJち摺動性はフッ素系樹脂の
特性を有し、丑た緊迫力は小さく、追従性モ良好である
。更に、テトラフルオロエチレン樹脂焼付品と比較して
、製造が簡単であり、工程が簡略化され、コストも廉価
である。
くの利点が得らね、J!IJち摺動性はフッ素系樹脂の
特性を有し、丑た緊迫力は小さく、追従性モ良好である
。更に、テトラフルオロエチレン樹脂焼付品と比較して
、製造が簡単であり、工程が簡略化され、コストも廉価
である。
ここで、シールリップを形成するゴム材料としては、例
えばアクリロニトリルブタジェンゴムAブチルゴム、エ
ピクロルヒドリンゴム、エチレンプロピレン(ジエン)
ゴム、フッ素ゴム、クロルスルホン化ポリエチレン、ク
ロロブレンゴム、スチレンブタジ′エンゴム、シリコン
ゴム、フルオロシリコンゴム、アクリルゴム、ウレタン
ゴム、天然ゴムなどが挙げられ、る。
えばアクリロニトリルブタジェンゴムAブチルゴム、エ
ピクロルヒドリンゴム、エチレンプロピレン(ジエン)
ゴム、フッ素ゴム、クロルスルホン化ポリエチレン、ク
ロロブレンゴム、スチレンブタジ′エンゴム、シリコン
ゴム、フルオロシリコンゴム、アクリルゴム、ウレタン
ゴム、天然ゴムなどが挙げられ、る。
図面の第1図(は、不活性ガスのグロー放電により、本
発明を適用する装置および方法の概略図でアリ、具体的
には次のようにしてシールのゴム製シールリップ部分の
処理が行われる。
発明を適用する装置および方法の概略図でアリ、具体的
には次のようにしてシールのゴム製シールリップ部分の
処理が行われる。
(1)パイレックス製反応器1内尾、処理不要部をマス
クしたシール2を横taきまたは縦置きにセツティング
する。この際、プラズマ((接しない面は処理されない
ので、そハのセツティング方法に注意する。なお、符号
3はo −IJング、4はビラニ真空ゲージである。
クしたシール2を横taきまたは縦置きにセツティング
する。この際、プラズマ((接しない面は処理されない
ので、そハのセツティング方法に注意する。なお、符号
3はo −IJング、4はビラニ真空ゲージである。
(2) ′i、ず、油回転ホ゛ンプ5を作動させ、反応
器内を10−’ Torrのオーダー迄排気する。この
際、反応器の内壁に水分や汚れが付着していると、この
真空度に達する迄に時間ケ要するので、前取って十分な
洗浄、乾繰を1−る方が効率的である。なお、符号6〜
8は、いずれもバルブである。
器内を10−’ Torrのオーダー迄排気する。この
際、反応器の内壁に水分や汚れが付着していると、この
真空度に達する迄に時間ケ要するので、前取って十分な
洗浄、乾繰を1−る方が効率的である。なお、符号6〜
8は、いずれもバルブである。
次に、バルブ7を閉じ、油回転ポンプ5′および油拡散
ポンプ15を作動させ、電離真空計16に連結されたパ
ンフル17内が10” Torr以上になら4′いよう
にゆっくりとバルブ18を開け、反応器内を高真空に排
気′「る。このとき、酸緊の彫物を避けるために、10
’−5Torrのオーダー迄排気することが望ましい。
ポンプ15を作動させ、電離真空計16に連結されたパ
ンフル17内が10” Torr以上になら4′いよう
にゆっくりとバルブ18を開け、反応器内を高真空に排
気′「る。このとき、酸緊の彫物を避けるために、10
’−5Torrのオーダー迄排気することが望ましい。
(3)窒素ガスボンベ9、バルブ10〜11がラナル窒
素カス導入糸から、窒素ガスを約0.001〜0.5T
orr 、好ましくは約0.01〜0.1 ’rorr
の圧力になる迄反応器内に導入する。これ以下のへ゛ダ
素ガス圧力では族71シが持続せず、一方こわ以上に窒
素ガスの圧力を間めると、放電が不安定となるため、均
質な処理面が得られない。
素カス導入糸から、窒素ガスを約0.001〜0.5T
orr 、好ましくは約0.01〜0.1 ’rorr
の圧力になる迄反応器内に導入する。これ以下のへ゛ダ
素ガス圧力では族71シが持続せず、一方こわ以上に窒
素ガスの圧力を間めると、放電が不安定となるため、均
質な処理面が得られない。
用いられる窒素ガスは、純度の高いものを使用たり、あ
るいは7Mられてもその効果は減少するからである。
るいは7Mられてもその効果は減少するからである。
(4)高周波発生源(周波数13.56 M Hz )
12、整合器13および鍋コイル14からなる高周波
放電系を用いて窒素を励起し、窒素プラズマを発生させ
る。この際、整合器で、入射波電力と反射波電力の差(
有効放電電力)が最大になるように調整し、損失をでき
るたけ抑えるようにする。
12、整合器13および鍋コイル14からなる高周波
放電系を用いて窒素を励起し、窒素プラズマを発生させ
る。この際、整合器で、入射波電力と反射波電力の差(
有効放電電力)が最大になるように調整し、損失をでき
るたけ抑えるようにする。
有効放電電力は、約10〜30 Wであることが望まし
く、そ力、はこれ以下では効率が悪く、捷だこれ以上で
は処理面に荒れを生ずることがあるがらるために15分
間以上低湿プラズマ処理した後、放電、窒素ガスの導入
および油回転ポンプの運転を順次止め、リーク弁(8)
を開いて反応器内に大気を導入し、処理物を取り出す。
く、そ力、はこれ以下では効率が悪く、捷だこれ以上で
は処理面に荒れを生ずることがあるがらるために15分
間以上低湿プラズマ処理した後、放電、窒素ガスの導入
および油回転ポンプの運転を順次止め、リーク弁(8)
を開いて反応器内に大気を導入し、処理物を取り出す。
捷だ、図面の第2図は、高周波スノぐツタエツチングに
より、本発明を適用する装置および方法の概略図であり
、具体的には次のようにし一〇シールのゴム製シールリ
ップ部分の処理が行われる。
より、本発明を適用する装置および方法の概略図であり
、具体的には次のようにし一〇シールのゴム製シールリ
ップ部分の処理が行われる。
(])反応器21内に、処理不要部をマスクしたシール
22を下部電極23上に横置きまたけ縦置きにセツティ
ングする。
22を下部電極23上に横置きまたけ縦置きにセツティ
ングする。
(2)排気系の油回転ポンプ(図示せず)を作動さぜ1
反応器内を10”−2Torrのオータ゛−;’Z=J
#気し、その後バルブ操作により、油回転ポンプで1O
−5Torr以下に排気する。
反応器内を10”−2Torrのオータ゛−;’Z=J
#気し、その後バルブ操作により、油回転ポンプで1O
−5Torr以下に排気する。
(3)アルゴンなどの不活性ガスの7f=ンヘ24、ノ
くルフ25 オよびバリアブルリークノクルブ26カ)
らなる不活性ガス導入系IJ)ら不活性力スを導入し、
反応器内を10−’ Torrのオーダーとする。
くルフ25 オよびバリアブルリークノクルブ26カ)
らなる不活性ガス導入系IJ)ら不活性力スを導入し、
反応器内を10−’ Torrのオーダーとする。
(4)排気口27に直結したメインバルブ(図示せず)
を半閉じにして排気力を絞り、反応器内を1O−2To
rrのオーダーとする。
を半閉じにして排気力を絞り、反応器内を1O−2To
rrのオーダーとする。
(5) is 周波発生源(周波数13.56 M H
z ) 28および整合器29からなる高周波放電系を
用いて、前記下部電極(23)および上部電極30から
なる平行電極の間に放電を生じさせ、その際反射波電力
を最低にするように整合器(コンデンサー)を調節する
。
z ) 28および整合器29からなる高周波放電系を
用いて、前記下部電極(23)および上部電極30から
なる平行電極の間に放電を生じさせ、その際反射波電力
を最低にするように整合器(コンデンサー)を調節する
。
(6)処理電力は、入射波電力から反射波電力を差し引
いた有効放電電力で表わされ、それ′は標準的には10
〜100Wであり、このような有効放電電力下での処理
を数分間性なう。
いた有効放電電力で表わされ、それ′は標準的には10
〜100Wであり、このような有効放電電力下での処理
を数分間性なう。
(7)放電を止め、不活性ガスの尋人を市めた後、メイ
ンバルブを全開して反応器内のガスを排気し、次いでメ
インバルブを閉じてからり−クノ< ルア’31を開け
、反応器内を大気圧にしてから処理物〃:取り出される
。
ンバルブを全開して反応器内のガスを排気し、次いでメ
インバルブを閉じてからり−クノ< ルア’31を開け
、反応器内を大気圧にしてから処理物〃:取り出される
。
なお、符号32は真空計、脣た33(佳アースをそわぞ
ハ、指示している。
ハ、指示している。
次に、実施例について本発明を説明する。
実施例
アクリロニトリルゴム製ゴム部5工、金属部52および
金属スプリング53.53′よりなり、その断面形状が
第3図に示きれるようなオイルシール54のシールリッ
プ部55を、第2図に示すような態様に従って、高周波
スパッタエツチングを行なった。このスパッタエツチン
グ処理では、平行電極間間隔60mm、アルゴン圧力0
.1 Torr z有効放電電力40W、電力密度0.
8 ℃崖、処理時間2分間の条件が用いられた。
金属スプリング53.53′よりなり、その断面形状が
第3図に示きれるようなオイルシール54のシールリッ
プ部55を、第2図に示すような態様に従って、高周波
スパッタエツチングを行なった。このスパッタエツチン
グ処理では、平行電極間間隔60mm、アルゴン圧力0
.1 Torr z有効放電電力40W、電力密度0.
8 ℃崖、処理時間2分間の条件が用いられた。
このようにして高周波スパッタエツチングした妻L
オイルシールのJj−%−tシール部に、ポリテトラフ
ルオロエチレンコーティングを次のようにして行なった
。なお、形成されたコーテイング膜56の厚さは、場所
により異なるが、一般に約5〜40μn7である。
ルオロエチレンコーティングを次のようにして行なった
。なお、形成されたコーテイング膜56の厚さは、場所
により異なるが、一般に約5〜40μn7である。
(コーティング剤配合)
蒸留水 2620ニカゾー
ルFX −329(日本カーボン製品) 21.9
7ニカゾールrvx −702(日本カーボン製品)6
.59グラフアイ トNAOR(日本カーボン製品)1
30(コーティング方法) スプレーガンを用い、吹付圧力3〜4カ、吐出量20〜
302勧、吹付距離15〜40an−,吹付角40〜6
0℃で吹付け。
ルFX −329(日本カーボン製品) 21.9
7ニカゾールrvx −702(日本カーボン製品)6
.59グラフアイ トNAOR(日本カーボン製品)1
30(コーティング方法) スプレーガンを用い、吹付圧力3〜4カ、吐出量20〜
302勧、吹付距離15〜40an−,吹付角40〜6
0℃で吹付け。
この高周波スパッタリング−ポリテトラフルオロエチレ
ンコーティングオイルシール2個をオイル密封試験機の
両壁側に取り付け、これ゛らのオイルシールのコーテイ
ング面に接触するロッドを試験機の両壁を貫通するよう
に設置し、試験機内には圧空によりオイル圧を6鴇にし
て充満させ、ロッドをストローク±30++o++、サ
イクル1.5 H2で貫通壁に対して直角方向に加振し
た。なお、摩擦力には、ストローク(在役距離)±30
1n1n、サイクル(往復動をくり返す周波数) 0.
I Hzの条件が付与された。
ンコーティングオイルシール2個をオイル密封試験機の
両壁側に取り付け、これ゛らのオイルシールのコーテイ
ング面に接触するロッドを試験機の両壁を貫通するよう
に設置し、試験機内には圧空によりオイル圧を6鴇にし
て充満させ、ロッドをストローク±30++o++、サ
イクル1.5 H2で貫通壁に対して直角方向に加振し
た。なお、摩擦力には、ストローク(在役距離)±30
1n1n、サイクル(往復動をくり返す周波数) 0.
I Hzの条件が付与された。
(測定試料)
A゛高周波スパッタエツチング・コーティング共になし
B:高周波スパッタエツチングなし、コーティングあり
C:高周波スパッタエツチング・コーティング共にあり
試験時間に対するオイルシール1個当りの摩擦力の経時
変化は、第4図に示される。この結果からも分るように
、ポリテトラフルオロエチレンコーティングした試料B
およびCは、ゴムそのものイングした試料Bは、すぐに
摩擦力の増加がみられ、その後も試験時間の経過と共に
増加し、30分間以上経過すると試料Aの値に近すいて
行く。
変化は、第4図に示される。この結果からも分るように
、ポリテトラフルオロエチレンコーティングした試料B
およびCは、ゴムそのものイングした試料Bは、すぐに
摩擦力の増加がみられ、その後も試験時間の経過と共に
増加し、30分間以上経過すると試料Aの値に近すいて
行く。
これに対して、コーティングの前に高周波スパッタエツ
チングした試料Cは、初期の摩擦力が最も小さいばかり
ではなく、その後も摩擦力はあまり増加しない。
チングした試料Cは、初期の摩擦力が最も小さいばかり
ではなく、その後も摩擦力はあまり増加しない。
更に、試#終了後(60分間後)、それぞれのリップの
表面状態を観察したところ、試料Bは表面のコーティン
グ層21:殆んど剥離し、ゴム層が露出しているのが認
められたが、試料Cのコーティング層には全く剥離がみ
られず、摩耗によるコーティング層の減少のみが観察さ
れた。
表面状態を観察したところ、試料Bは表面のコーティン
グ層21:殆んど剥離し、ゴム層が露出しているのが認
められたが、試料Cのコーティング層には全く剥離がみ
られず、摩耗によるコーティング層の減少のみが観察さ
れた。
第1[は、不活性ガスのグロー放電により、本発明を適
用する装置および方法の概略図である。 第2図は、高周波スパッタエツチングにより、本発明を
適用する装置および方法の概略図である。 第3図は、本発明に係る低トルクシール′の装態様の断
面図である。また、第4図は、この低トルクシールの摩
擦力の経時変化を示すグラフである。 (符号の説明〉 1.21・・・・・・反応器 2.22・・・・・・被処理物シール 12 、28・・・・・・高周波発生源13 、29・
・・・・・整合器 23・・・・・・・・・・・・・・・下部電極30・・
・・・・・・・・・・・・・上部電極54・・・・・・
・・・・・・・・・オイルシール55・・・・・・・・
・・・・・・・シールリップ部56・・・・・・・曲曲
コーチインク膜代理人 弁理士 吉 1)俊 夫 第2図 第3図 手 続 補 正 書 (自発)昭和58年6月
30臼 1、事件の表示 昭和58年將許願第66683号 2、発明の名称 低トルクシール 3補正栄する者 事件との関係 特許出願人 名 称 (438)日本オイルシール工業株式会社4、
代 理 人 住 所 東京都港区芝大門1−2−7 阿藤ビル5
01号明細嘗の発明の詳細な説明の欄 6補正の内容
用する装置および方法の概略図である。 第2図は、高周波スパッタエツチングにより、本発明を
適用する装置および方法の概略図である。 第3図は、本発明に係る低トルクシール′の装態様の断
面図である。また、第4図は、この低トルクシールの摩
擦力の経時変化を示すグラフである。 (符号の説明〉 1.21・・・・・・反応器 2.22・・・・・・被処理物シール 12 、28・・・・・・高周波発生源13 、29・
・・・・・整合器 23・・・・・・・・・・・・・・・下部電極30・・
・・・・・・・・・・・・・上部電極54・・・・・・
・・・・・・・・・オイルシール55・・・・・・・・
・・・・・・・シールリップ部56・・・・・・・曲曲
コーチインク膜代理人 弁理士 吉 1)俊 夫 第2図 第3図 手 続 補 正 書 (自発)昭和58年6月
30臼 1、事件の表示 昭和58年將許願第66683号 2、発明の名称 低トルクシール 3補正栄する者 事件との関係 特許出願人 名 称 (438)日本オイルシール工業株式会社4、
代 理 人 住 所 東京都港区芝大門1−2−7 阿藤ビル5
01号明細嘗の発明の詳細な説明の欄 6補正の内容
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、ゴム製シールリップの表面に不活性ガスのグロー放
電または高周波スパッタエツチング処理を施した後、フ
ッ素系樹脂コーティングを行なった往復動用および回転
用の低トルクシール。 2、フッS + ’fl 脂コーティングとしてテトラ
フルオロエチレン樹脂コーティングが行われた特許請求
の範囲第1項記載の低トルクシール。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58066683A JPS59190576A (ja) | 1983-04-14 | 1983-04-14 | 低トルクシ−ル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58066683A JPS59190576A (ja) | 1983-04-14 | 1983-04-14 | 低トルクシ−ル |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59190576A true JPS59190576A (ja) | 1984-10-29 |
Family
ID=13322969
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58066683A Pending JPS59190576A (ja) | 1983-04-14 | 1983-04-14 | 低トルクシ−ル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59190576A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62158255U (ja) * | 1986-03-31 | 1987-10-07 | ||
| JPS63142472U (ja) * | 1987-03-12 | 1988-09-20 | ||
| JPH01169668U (ja) * | 1988-05-20 | 1989-11-30 | ||
| US5350181A (en) * | 1991-09-30 | 1994-09-27 | Skf Usa Inc. | Pumping feature on wear sleeve for unitized seal |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5377885A (en) * | 1976-12-21 | 1978-07-10 | Anelva Corp | Coating method for substrate |
| JPS5761862A (en) * | 1980-09-25 | 1982-04-14 | Aburamobuitsuchi Gore Rudorufu | Seal |
-
1983
- 1983-04-14 JP JP58066683A patent/JPS59190576A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5377885A (en) * | 1976-12-21 | 1978-07-10 | Anelva Corp | Coating method for substrate |
| JPS5761862A (en) * | 1980-09-25 | 1982-04-14 | Aburamobuitsuchi Gore Rudorufu | Seal |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62158255U (ja) * | 1986-03-31 | 1987-10-07 | ||
| JPS63142472U (ja) * | 1987-03-12 | 1988-09-20 | ||
| JPH01169668U (ja) * | 1988-05-20 | 1989-11-30 | ||
| US5350181A (en) * | 1991-09-30 | 1994-09-27 | Skf Usa Inc. | Pumping feature on wear sleeve for unitized seal |
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