JPS5919100B2 - 3,5−ジアミノ−1,2,4−トリアゾ−ル硫酸塩の製造法 - Google Patents

3,5−ジアミノ−1,2,4−トリアゾ−ル硫酸塩の製造法

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Publication number
JPS5919100B2
JPS5919100B2 JP9227674A JP9227674A JPS5919100B2 JP S5919100 B2 JPS5919100 B2 JP S5919100B2 JP 9227674 A JP9227674 A JP 9227674A JP 9227674 A JP9227674 A JP 9227674A JP S5919100 B2 JPS5919100 B2 JP S5919100B2
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JP
Japan
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reaction
hydrazine
mol
sulfate
diamino
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Expired
Application number
JP9227674A
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JPS5123266A (en
Inventor
勇 広津
浩一 大内
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Sanwa Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sanwa Chemical Co Ltd
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Publication date
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Expired legal-status Critical Current

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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、一般式 HN−NHト H2N−CC−NH2・ HCl+ NH2−(\ /
* 2NH2NH2・ H2SO4・ 2HCIで表わ
されるヒドラジン酸性塩とジシアンジアミドとを反応さ
せることを特徴とする3・5−ジア、 ミノー1 ・
2 ・ 4−トリアゾール硫酸塩の製造法に関する。
従来3・5−ジアミノーl ・ 2 ・ 4−トリアゾ
ール(以下グアナゾールと称する)の製造法としてはヒ
ドラジン2塩酸塩とジシアンジアミドとを0反応させる
方法が知られている。
(米国特許第2648671号明細書参照)。しかしな
がらこの従来方法は反応仕込組成中のヒドラジン分とし
て9%以上の含有濃度に於て初めて65〜70%のグア
ナゾールを取得出来るも5 のであり(6%の場合は収
率15%)、高収率を得るためには高濃度のヒドラジン
を用いるか若しくはヒドラジン2塩酸塩にした後水の濃
縮を必要とした。
またヒドラジン2塩酸塩は水に易溶性の性質を有しジシ
アンジアミドとの反応に於て、発0熱反応であることか
ら分割投入方式に於ても温度の匍脚が難カルくかつ反応
時間も長時間を要する。即ち、反応温度が50℃以上か
または必要以上の時間を要した場合は副反応物としてグ
アニル尿素、下記に示すグアナゾグアナゾール等(水に
難溶性)、6の生成がいちじるしく目的生成物の収率が
低下する欠点を有していた。NHCN→HN(l)NH
+No、。
Clさらに上記した方法は反応終了後生成物を取得する
にも塩酸グアナゾールが水に易溶性であることからそれ
をいつたん遊離化させた後減圧濃縮して乾固させ、次い
で大量の熱メタノールにて抽出した後さらに減圧濃縮し
目的のグアナゾールを取得しなければならず極めて煩雑
な後処理を行なわ)なければならなかつた。
本発明者等はこれら従来法に於ける欠点を解決すべく種
種研究を重ねた結果下記に示すような本発明方法によれ
ば極めて簡単にグアナゾール類を取得し得ることを見出
した。
すなわち本発明方法は混酸のヒドラジン酸性塩とジシア
ンジアミドとを反応させるものであるが本発明方法によ
ればヒドラジン2塩酸塩の場合に比べて反応が緩慢なた
め反応温度の制御が容易であり、かつ反応温度も40〜
70℃好ましくは50〜65℃で実施することができ目
的生成物も極めて高収率で得ることができる。
また本発明方法によれば反応終了後単に反応液を冷却す
ることによつて簡単に生成物であるグアKナゾール硫酸
塩を収得することが出来るので従来法のような煩雑な後
処理工程をまつたく必要としない利点を有し反応終了後
生成物を取得した後の反応母液は次の反応の反応液とし
て用いることによつて本発明方法を効果的に実施するこ
とが出来る。
本発明方法に用いられるヒドラジン酸性塩は例えば下記
式に示す方法により取得することができる。
次に本発明をさらに具体的に説明するために実施例をあ
げるが本発明は以下の実施例に限定されるものではない
実施例 1 1000CCの3頚フラスコに効率の良(・撹拌子およ
び温度計を附して20%ヒドラジンヒトラード250V
( 1.0モル)を仕込み水浴下内温30℃以下に保ち
つつ酸性硫酸ヒドラジン130,( 1.0モル)を徐
徐に加えPH6.Oに調整して中性塩である硫酸ヒドラ
ジンとする、この水溶液中に35%塩酸を208V(
2.0モル)を上記内温で滴加し硫酸、塩酸からなる混
酸のヒドラジン酸性塩とした後ジシアンジアミド168
,(2.0モル)を内温60℃に保ちつつ同温温で4時
間反応を行ない完結させる。
次いで直ちに冷却を始め内温15℃で結晶を充分に析出
させこのものを遠心沢過し、冷水(5℃)で2回洗滌を
行なつた後乾燥して3・5ジアミノ−1 ・ 2 ・
4 −トリアゾール硫酸塩169V(純度92%、収率
57%)を得る。なおこの場合の反応組成中のヒドラジ
ノ濃度8.5%である。
実施例 2 実施例1によつて得られた反応母液(ヒドラジン分含有
量2.3%)553yのH容量を反応装置に仕込み続い
て80%ヒドラジンヒトラード25?(0.4モル)を
加え水浴下内温30℃以下に保ちつつ酸性硫酸ヒドラジ
ン527(0.4モル)を徐徐に加えPH6.Oに調整
する。
この水溶液中に35゛%塩酸を104t(1.0モル)
を上記内温を30℃以下に保持しながら滴加し硫酸、塩
酸からなる混酸のヒドラジン酸性塩とした後ジシアンジ
アミド847(1.0モル)を内温60℃に保ちつつ反
応を行ない同温度で4時間反応させる。次いで直ちに冷
却を始め内温15℃で結晶を充分に析出させ遠心沢過し
、冷水(5℃)で2回洗滌を行なつた後乾燥して3・5
−ジアミノ−1・2・4トリアゾール硫酸塩126y(
純度88%、収率85%)を得る。本例の反応組成物中
のヒドラジン濃度は8.9%である。なお再結晶は水を
用いて行ない純度98.5%の目的生成物を取得した(
収率95%)。
実施例 3 1000CCの3頚フラスコに効率の良い攪拌子および
温度計を附して80%ヒドラジンヒトラード125y(
2.0モル)を仕込み水浴下内温30℃以下に保ちつつ
60%硫酸165ク(1.0モル)を徐徐に加えPH6
.Oに調整して中性塩である硫酸ヒドラジンとする。
この水溶液中に35%塩酸2087(2.0モル)を上
記内温で滴加し硫酸塩酸からなる混酸のヒドラジン酸性
塩とした後ジシアンジアミド1687(2.0モル)を
内温60℃に保ちつつ反応を行ない、同温度で4時間反
応を行ない充結させる。なおこの場合の反応組成物中の
ヒドラジン濃度は9.6%である。以下実施例1と同様
にして処理を行なうと3・5−ジアミノ−1・2・4−
トリアゾール硫酸塩163t(純度92.5%、収率5
5%)を得る。
比較例撹拌機、温度計を付けた1000CCの3頚フラ
スコに、水250CCと酸性硫酸ヒドラジン(H2N−
NH2・H2SO4) 1307(1.0モル)とを添
加した。
内温を45〜50℃に維持しつつジシアンジアミド84
7(1.0モル)を添加して2時間反応させた。
この場合の反応組成中のヒドラジン濃度は6,9%であ
る。冷却後か性ソーダ2モル水溶液200CCで中和し
てグアナゾール遊離し、Mt・%H2SO4をNa2s
O4に変えた。
常温で減圧濃度、乾操後、1,51沸騰メタノールでグ
アナゾールを抽出し、このメタノール溶液をエバポレー
ターで濃縮、冷却、沢過、乾燥して、3・5−ジアミノ
−1・2・4−トリアゾール11.9ク(純度90%、
収率12%)を得た。水の添加量500CC(ヒドラジ
ン濃度4.5%)、反応時間を4時間とした以外は前記
例と同様な条件で反応を行なうと純度91%、収率13
%で目的物が得られる。
更に反応温度を70℃または90℃とした以外は前記例
と同様に反応を行なうとそれぞれ純度73%、収率18
%および純度61%、収率21%で目的物を得ることが
できる。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式 2NH_2NH_2・H_2SO_4・2HClで表わ
    されるヒドラジン酸性塩とジシアンジアミドとを反応さ
    せることを特徴とする3・5−ジアミノ−1・2・4−
    トリアゾール硫酸塩の製造法。
JP9227674A 1974-08-14 1974-08-14 3,5−ジアミノ−1,2,4−トリアゾ−ル硫酸塩の製造法 Expired JPS5919100B2 (ja)

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JP9227674A JPS5919100B2 (ja) 1974-08-14 1974-08-14 3,5−ジアミノ−1,2,4−トリアゾ−ル硫酸塩の製造法

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JPS5123266A JPS5123266A (en) 1976-02-24
JPS5919100B2 true JPS5919100B2 (ja) 1984-05-02

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4357395A (en) * 1980-08-22 1982-11-02 General Electric Company Transfer lamination of vapor deposited foils, method and product
DE3510202A1 (de) * 1985-03-21 1986-09-25 Bayer Ag, 5090 Leverkusen Elektrische leiterplatten

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JPS5123266A (en) 1976-02-24

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