JPS59192244A - 感光性樹脂組成物および感光性エレメント - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は感光性樹脂組成物及び感光性ニレメン更に詳し
くは、印刷配線板製造用の半田マスク等の永久保護マス
クの形成に使用し得る難燃性を付与された感光性樹脂組
成物及び該組成物の層と該層を支持する支持体フィルム
とからなる感光性エレメントに関する。

感光性エレメント、すなわち支持体フィルム上の実質的
に乾燥した感光性樹脂組成物の層が印刷配線板を製造す
るためのフォトレジストとして使用されることはよく知
られている。

印刷配線板製造用に用いられる感光性エレメントはその
使用目的によって２種に大別される。一つは、エツチン
グあるいは金属めっきの際の一時的なレジスト像を形成
するための配線パターン形成用の感光性エレメントであ
る。この感光性エレメントにより形成された一時的なレ
ジストはエツチングあるいはめつき後にはく離除去され
る。他の一つは、半田マスク等の永久保護マスクを形成
するための感光性エレメントであり、形成された永久株
数マスクは最終的に印刷配線板上に残存し。

永久的に配線パターンを保設する。このため、多くの場
合、後者の永久保護マスク形成用の感光性エレメントに
は難燃性の付与が望まれる。ハロゲン化化合物が感光性
エレメントの離燃化に効果のあることは公知である。ま
た多量のハロゲン化化合物の含有による他特性の低下を
回避するために三酸化アンチモンを併用することが難燃
性の付与に非常に効果のめることも公知である。しかし
。

三酸化アンチモンは樹脂成分及び溶剤に不溶の白色粒子
であるため、三酸化アンチモンを含有する感光性エレメ
ントは三酸化アンチモン粒子による光の散乱により解像
度が低下し、多量゛の三酸化アンチモンを含有する場合
には不透明となりネガ合わせが困離になる。

本発明者らは９種々検討した結果９通常使用される平均
粒径０．３〜０．５μｍの三酸化アンチモンにかえて平
均粒径０．１μｍ以下の超微粒子の三酸化アンチモンを
用いることにより透明性とともに解像度が改善されるこ
とを見出した。

本発明の目的は、半田マスク等の永久保護マスクの形成
に使用しうる難燃性が付与され、かつ解像匿の良好な感
光性樹脂組成物及び該組成物の層と該層を支持する支持
体フィルムとからなる感光性エレメントを提供すること
にある。

本発明は（ａ）　　平均粒径０．１μｍ以下の三酸化ア
ンチモンを０．１〜１５重量部。

（ｂｌ　　末端エチレン基を少なくとも２個有する光重
合性化合物を２ｏ二ｓｏｚ量部。

ＣＣ１熱可塑性有機高分子化合物を２０〜８０重量部。

および （ｄｌ　　活性光線の照射によって前記光重合性化合物
（ｂｌの重合を開始する増感剤及び／又は増感剤系を０
．５〜１０重量部 含有し、（ｂ）及び（Ｃ）の少なくとも一つと共有結合
したハロゲン原子を（ａ）（ｂ）（Ｃ）及びｆｄ）のＭ
量に対して３〜３０重量％含有してなる感光性樹脂組成
物ならびに （ａｌ　　平均粒径０．１μｍ以下の三酸化アンチモン
を０．１〜１５重量部。

（ｂｌ　　末端エチレン基を少なくとも２個有する光重
合性化合物を２０”〜８０重景重 量Ｃ）熱可塑性有機高分子化合物を２０〜８０重基部。

および （ｄｉ　　活性光線の照射によって前記光重合性化合物
（ｂｌの重合を開始する増感剤及び／又は増感剤系を０
．５〜１０Ｍ量部 含有し、（ｂ）及び（Ｃ）の少なくとも一つと共有結合
したハロゲン原子を（ａｌｆｂｌ（Ｃ）及び（ｄ）の重
量に対して３〜３０重量％含有してなる感光性樹脂組成
物の層と該層を支持する支持体フィルムからなる感光性
エレメントに関する。

本発明になる感光性樹脂組成物について以下に詳細に説
明する。

本発明の提案する感光性樹脂組成物は平均粒径０．１μ
ｍ以下の三酸化アンチモンを含有する。平均粒径が０．
１μｍ’ｌこえると解像度が低下するからでおる。解像
度の点から平均粒径０．０５μｍ以下のものが好ましい
。このような超微粒子の三酸化アンチモンとしては例え
ば日本精鉱■が製造販売しているＰＡＴＯＸ−Ｕ（商標
、平均粒径０．０２μｍの三酸化アンチモン）が用いら
れる。三酸化アンチモンの含有量は０．１〜１５重量部
とされるが、０．１重量部未満では難燃性を向上する効
果が小キく。

１５重量部をこえると解像度、透明性、基材との接着性
が低下する。

本発明の提案する感光性樹脂組成物は末端エチレン基を
少なくとも２個有する光重合性化合物を２０〜８０重量
部含有する。この化合物の例としては、トリメチロール
プロパン、トリメチロールエタン、ペンタエリスリトー
ル、ジペンタエリスリトール、１．３−ブタンジオール
、１．４−ブタンジオール、１，５−ベンタンジオール
、ポリカプロラクトンジオール、ポリプロピレングリコ
ール。

デカメチレングリコール、グリセリン、ネオペンチルグ
リコール、２．２−ビス（４，４’　（２−ヒドロキシ
エトキシ）フェニル〕プロパン、トリス（２−ヒドロキ
シエチル）イソシアヌル酸等の多価アルコールとアクリ
ル酸又はメタクリル酸とのエステル、ビスフェノールへ
−エピクロルヒドリン系エポキシ樹脂、エポキシ化ノボ
ラック樹脂、環状脂肪族エポキシ樹脂等のエポキシ基を
少なくとも２個有する化合物とメタクリル酸又はアクリ
ル酸との反応生成物、無水フタル酸−ジエチレングリコ
ール−アクリル酸（１／２／２のモル比）縮合物、トリ
メチロールプロパンーテトラヒドロ無水フタル酸−アク
リル酸（２／１／４のモル比）縮合物等の末端にアクリ
ロイルオキシ基及び／又はメタクリロイルオキシ基を有
する低分子ポリエステル樹脂などがあげられる。特公昭
５２−４３０９２号公報、特願昭５５−１３１３２２号
公報、特願昭５５−１３７９３０号公報、特願昭５５−
１４１６８２号公報等に記載されるようなジオールモノ
アクリレート又はジオールモノメタクリレートとジイソ
シアネートとの反応生成物、ジオールモノアクリレート
又はジオールモノメタクリレートとジオールとジイソシ
アネートとの反応生成物は形成される永久保獲マスクの
耐熱性９機械的強度の点から特に好ましい。

末端エチレン基を少なくとも２個有する光重合性化合物
の含有量はフィルム性及び光硬化性の点から２０〜８０
重量部とされる。

本発明の提案する感光性樹脂組成物は熱可塑性有機高分
子化合物を必須成分として含有する。使用できる例とし
ては特公昭４１−１５９３２号公報中に記載された熱可
塑性重合体等を示すことができるが、他の組成との相溶
性、適用する基板表面との密着性等の点からビニル系共
重合線状高分子化合物が好捷しい。共重合成分としては
各種のビニル単量体を用いることができる。ビニル単量
体の適当な例としてはメタクリル酸メチル、メタクリル
酸ブチル、アクリル酸エチル、スチレン。

α−メチルスチレン、ビニルトルエン、２−ヒドロキシ
エチルメタクリレート、２−ヒドロキシグロビルアクリ
レート、アクリル酸、メタクリル酸。

グリシジルメタクリレート、ｔ−ブチルアミノエチルメ
タクリレート、　２．３−ジブロモグロビルメタクリレ
ート、３−クロロ−２−ヒドロキシエチルメタクリレー
ト、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、トリブロ
モフェニルアクリレート。

アクリルアミド、アクリロニトリル、ブタジェン等を挙
げ子！Ｉる。熱可塑性有機高分子化合物の含有量はフィ
ルム性及び光硬化性の点から２０〜８０ｊ］Ｉ量部とさ
れる。

本発明の提案する感光性樹脂組成物は活性光線の照射に
よって前記の光重合性化合物の重合を開始する増感剤及
び／又は増感剤系全必須成分として含有する。使用でき
る増感剤としては２−エチルアントラキノン、２−１−
ブチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、
１，２−ベンズアントラキノン、λ３−ジフェニルアン
トラキノン等の置換又は非置換の多核キノン類、ジアセ
チル、ベンジル等のケトアルドニル化合物、ベンゾイン
、ヒバロン等のα−ケタルドニルアルコノー類およびエ
ーテル類、α−フェニル−ベンゾイン。

α、α−ジェトキシアセトフェノン等のα−炭化水素置
換芳香族アシロイン類、ベンゾフェノン。

４．４′−ビスジアルキルアミノベンゾフェノン等の芳
香族ケトン類などを例示でき、これらは単独でも組合せ
てもよい。使用できる増感剤系としては２、４．５−ト
！、Ｉアリールイミダゾールニ量体と２−メルカプトベ
ンゾキナゾール、ロイコクルスタルバイオレット、トリ
ス（４−ジエチルアミン−２＝メチルフエニル）メタン
等との組合せなどを例示できる。また、それ自体で光開
始性はないが。

前述した物質と組合せて用いることにより全体として光
開始性能のより良好な増感剤系となるような添加剤を用
いることができる。例えばベンゾフェノンに対するトリ
エタノールアミン等の三級アミンなどである。感光性樹
脂組成物中の増感剤及び／又は増感剤系は、０．５〜１
０重量部含有される。

本発明の提案する感光性樹脂組成物は上記の（ｂｌ及び
（Ｃ）の少なくとも一つと共有結合したノ・ロゲン原子
を（ａｌｆｂ）（Ｃ）及び（ｄ）の重量に対して３〜３
０重景多含有する。

ハロゲン原子が共有結合された光重合性化合物の例とし
ては、テトラブロモビスフェノールＡのジー（２−アク
リロイルオキシエチル）エーテル。

テトラブロモビスフェノール゛Ａのジー（３−アクリル
オキソ−２−ヒドロキシプロピル）エーテル。

テトラクロロビスフェノールＡのジー（２−アクリロイ
ルオキシエチル）エーテル、テトラクロロビスフェノー
ルＡのジー（３−アクリロイルレオキン−２−ヒドロキ
フプロピル）エーテル、テトラブロモビスフェノールＡ
のジー（２−メタクリロイルオキシエチル）エーテル、
テトラクロロビスフェノールＡのジー（３−メタクリロ
イルオキソ−２−ヒドロキシグロピル）エーテル、ジブ
ロモネオペンチルグリコールジアクリレート等をあげ得
る。

ハロゲン原子が共有結合された熱可塑性有機高分子化合
物は２例えば上記の熱可塑性有機高分子化合物の材料と
・・ロゲン原子含有ビニル単量体を共事合させて得るこ
とができ、・・ロゲン原子含有ビニル単量体の例として
はトリブロモフェニルアクリレート、トリブロモフェニ
ルメタン１Ｊ７−）。

トリブロモフェノキシエチルアクリレート、トリブロモ
フェノキシポリオキシエチレンアクリレート、トリブロ
モフェノキシエチルメタクリレート。

トリブロモフェノキシポリオキシエチレンメタクリレー
ト等を挙げることができる。

ハロゲン原子が共有結合された光重合性化合物とハロゲ
ン原子が共有結合された熱可塑性有機高分子化合物とを
同時に用いてもよい。

サラに、ヘキサブロムベンゼン、ヘキサクロル−ｐ−キ
シレン、デトラプロムエタンのようなハロゲン化合物も
添加成分として用いてもよい。・ハロゲン原子の含有量
が、上記の（ａｌ（ｂ）（Ｃ１及び（ｄｌの重量に対し
て３Ｍ量係未満では、難燃性付与の効果が小さく、３０
重量％をこえると基材との接着性、可とう性が低下する
。

さらに、不発明の感光性樹脂組成物は他の副次的成分を
含有することができる。副次的成分としては熱重合防止
剤、染料、顔料、フィラー、分散安定剤、塗工性向上剤
、他の難燃剤、他の離燃助剤等であり、これらの選択は
通常の感光性樹脂組成物と同様の考慮のもとに行なわれ
る。

次に本発明の提案する感光性エレメントについて以下に
詳細に説明する。

本発明の提案する感光性エレメントは支持体フィルム上
に上記で詳細に説明した感光性樹脂組成物の層全形成す
ることにより得られる。支持体フィルム上への感光性樹
脂組成物のノーの形成は常法により行なうことができる
。たとえば感光性樹脂組成物をメｆルエチルケトン、ト
ルエン、塩化メチレン等の有機溶剤に均一１／ｉ：溶解
させ（但し、三酸化アンチモン、顔料等は均一に分散さ
せ）、この溶液を該支持体フィルム上にナイフコート法
。

ロールコート法等で塗布し、乾燥して行なわｎる。

組成中、三酸化アンチモンはペイントシェーカ。

サンドミル、ボールミル、三本ロール等を使用して光重
合性化合物、熱可塑性有機高分子化合物等にあらかじめ
分散させておき、その後他の組成物の溶液と均一に混合
し、感光性樹脂組成物の溶液を調整するのが好−ましい
。

本発明に用いられる支持体フィルムは活性光に対し透明
であっても不透明であってもよい。好ましい例として、
ポリエステルフィルム、ポリイミドフィルム、ポリスチ
レンフィルム等の公知のフィルムを挙げることができる
。

長尺の感光性ニレメン）’（ｒ−製造する場合は、製造
の最終段階で該エレメントをロール状に巻き取る。この
場合、感光性粘着テープ等で公知の方法を用い、背面処
理した支持体フィルムを用いることにより、ロール状に
巻き取ったときの感光性樹脂組成物の層の支持体フィル
ム背面への転着を防ぐことが可能である。同じ目的、塵
の付着を防ぐ目的等で該エレメントの感光性樹脂組成物
の層上に剥離可能なカバーフィルムを積層することが好
ましい。

剥離可能なカバーフィルムの例としては、ポリエチレン
フィルム、ポリプロピレンフィルム、テフロンフィルム
、表面処理をした紙等があり、カバーフィルムを剥離す
るときに感光性樹脂組成物の層と支持体フィルムとの接
着力よりも、感光性樹脂組成物の層とカバーフィルムと
の接着力がより小さいものであればよい。

次に９本発明の提案する感光性エレメントの使用方法の
例について説明する。

本発明の提案する感光性エレメントの基板上へのＡｆｔ
　層は容易に行なわれる。すなわち、カバーフィルムの
ない場合はそのまま、カバーフィルムのある場合はカバ
ーフィルムを剥離して又は剥離しながら、加熱・加圧積
層する。加熱・加圧積層は印刷配線板製造業者では周知
の常圧ラミネータを用いて行なうことができる。基板が
、４体配線ラインの形成された印刷配線板のように１０
μｍ以上の凹凸のるるものの場合は、減圧下又は真空下
で積層することが好ましい。

このための装置１ｔとしては特開昭５２−５２７０３号
又は特公昭５５−１．３３４１号に記載される積層装置
等がある。

積層後のＸＩ′ル光および現像処理は常法により行ない
得る。すなわち、支持体フィルムが活性光に不透明であ
る場合は支持体フィルムを剥離した後。

高圧水銀灯、超高圧水銀灯等の光諒全用い、ネガマスク
を通して像的に露光する。

露光後支持体フィルムが残っている場合は支持体フィル
ムを剥離し、現像する。現像液には、１゜１．１−トリ
クロルエタン等の有機溶剤、アルカリ性水溶液、有機溶
剤の水溶液等が用いられる。

更に現像後の８０℃ないし２００℃での加熱処理及び活
性光の露光により優れた特性を有する永久保護マスクと
なる。現像後の刃口熱処理及び活性光の露光の順序はど
ちらが先でもよく、またそれぞれを何度かに分けて行な
ってもよい。

このようにして形成される採掘被膜はトルエン。

メチルエチルケトン、イソプロピルアルコール等の有機
溶液に十分耐え、酸性水溶液又はアルカリ性水溶液にも
而］え、更に耐熱性１機械的強度にも優れ、廁［燃性が
要求される印刷配線板用の半田マスク等の永久採掘マス
クとして好適である。

次に本発明の実施例を示す。

本発明はこの実施例によって限定されるものではない。

実施例中及び比較例中の１部」は重量部を示す。

参考例１ 末端エチレン基を有する光重合性化合物の合成トルエン
　　　　　　　１２００部 トルエン　　　　　　　　３００部 ｐ−メトキシフェノール　０．３部 Ｃメタノール　　　　　　　２０部 上記Ａを臨度計、攪拌装置、冷却管、窒素ガス導入・Ｕ
及び部下器のついた。加熱及び冷却の可能な容積約５ｔ
の反応器に加え攪拌しながら６０℃に昇温した。反応温
度を５５〜６５℃に保ちながら約５時間で均一にＢを滴
下した。

Ｂを滴下後、約５時間かけて徐々に反応温度を８０℃ま
で昇温した。その後温度を６０℃に下げＣを加え約１時
間攪拌を続けた。その後、減圧乾燥して溶剤を除去し、
粘稠な末端エチレン基を有する光重合性化合物（１）を
得た。

参考例１で得られた光重合性化合物（１１５０部。

メタクリル酸メチル・アクリル酸メチル・テトラヒドロ
フルフリルメタクリレート・トリブロモフェニルアクリ
レート（６０／４　／１０／２６重量比）共重合物（分
子量約１０万）　４８部。

ベンゾフェノン　　　　　　　　　　　　３部。

Ｓヒラ−ケトン　　　　　　　　　　　　０．３部。

Ｐ、ＡＴＯＸ−Ｕ　（日本精鉱■製、平均粒径０．０２
　ｔｔｍの三酸化アンチモン）　　　　　　　　　２部
。

ホスマーＭ　（油脂製品＠製、リン酸エステル）とイン
ダゾールとの等モル塩　　　　　０．２部。

ｐ−メトキシフェノール　　　　　　０．０２部。

ビクトリアピュアブルー　　　　　　　０．０２部。

トルエン　　　　　　　　　　　　　　５０部。

メチルエチルケトン　　　　　　　　　５０部上記組成
の感光性樹脂組成物の溶液を調整した。

なお、ＰＡＴＯＸ−Ｕはあらかじめ上記光重合性化合物
（Ｉ）中に三本ロールを用いて分散した。

第１図に示す装置を用いて上記感光性樹脂組成物の溶液
１全２５μＩｎ厚さのポリエチレンテレフタレートフィ
ルム２上に均一に塗布Ｌ８０〜１００℃のＩＡ風風流流
式乾燥機３約１０分間通して乾燥した。感光性樹脂組成
物の層の乾燥後の厚さは約７５μｍであった。感光性樹
脂組成物の層の上には。

更に第１図のように厚さ約２５μｍのポリエチレンフィ
ルム４をカバーフィルムとして張り曾わせた。

第１図において、５はポリエチレンテレフタレートフィ
ルムくシ出しロール、６，７．８はロール、９はナイフ
、１０はポリエチレンフィルム〈り出しロールｌ　１１
，１２はロール、１３はｌ感光性エレメント巻き取りロ
ールである。

このようにして得られた感光性エレメントを。

前処理により銅表面を清浄にした銅張積層板（日立化成
工業■製、ＭＣＬ−Ｅ６］、、銅箔厚さ３５μｍ、基材
厚さ１．６ｆｆ１１１１）上に、曙産業１１ｍＡ−ｓｏ
。

型′ｉミル圧ラうイ、−夕を用いカバーフィルムを剥離
しながら積層した。積層後日立化成工業■製２１段ステ
ップタブレット及び解像度評価用テストパターンＡ２ネ
ガを通し、■オーク製作新製フェニックス３０００型露
光機を使用してｇ　□　ｍＪ　／ｃｍ２の露光量の紫外
線を照射した。その後、８０℃で５分間加熱し、室温で
３０分間放置したのち、支持体フィルムを剥離し、　１
，１．１−）　ＩＪジクロルタンを用い。

２０℃で１５０秒間スプレー現像した。線幅、線間隔８
０μｍまで解像できる良好な解像性を有していた。また
、上記Ａ２ネガの線幅２００μｍのテストパターンに対
応して形成された硬化被膜の線幅は２２０μｍで線幅変
化量は＋２０μｍであった。感光度を表わすステップタ
ブレット段数は８段であった。

次に上記の感光性エレメントを、第３図に示す銅パター
ン（銅厚さ約５０μｍ）の形成された試験用印刷配線板
（ガラスエポキシ基板、基材厚さ１，６ｒＩｒ！ｎ）上
に日立化成工業■製真空ラミネータ（真空度３０　ｆｉ
Ｈｇ　、ラミネート温度１００℃、ラミネートスピード
１ｍ／分）７を用い、カバーフィルムを剥離しながら加
熱・加圧積層した。第３図において、１６は銅パターン
部分、１７は基材の露出部分を示し、数字の単位は喘で
ある。室温で３時間放置した後第２図に示した試験用ネ
ガマスクを通してｇ□ｍＪ／ｃｍ”の露光量の紫外線を
照射した。第２図において１４は不透明部分、１５は透
明部分。

畝字の単位は酎である。８０℃で５分加熱し室温で３０
分間放置したのち、支持体フィルムを剥離Ｌｌ、１．１
−１クロルエタンを用い２０℃で１５０秒間スプレー現
像した。現像後８０℃で１０分間加熱乾燥し、露光量３
Ｊ／Ｃｍ２の紫外線照射した。

さらに１５０°Ｃで３０分間加熱処理した。このように
して保護被膜を形成した試験基板を、ロジン系スラック
スＭＨ−３２０Ｖ（タムラ化研■製）を用いて２５５〜
２６５℃のフロー半田浴に１５秒間接触させ半田試験を
行なった。保護被膜の浮き、はがれはなく、良好な半田
耐熱性を示した。

また、厚さ１．２酎、ＰＨ−４グレードのガラスエポキ
シ基材（日立化成工業■製Ｍ　ＣＬ　−Ｅ−６７の基材
）の両面に上記感光性エレメントの硬化被膜を形成した
場合、ＵＬ９４Ｖ−０の離燃性を保持することがわが１
ｍ）ｆｃ。

比較例１ −８　（日本精鉱■製、平均粒径０．５μｍの三酸化ア
ンチモン）２部を用い、他は実施例１と同様の操作を行
なった。得られた感光性エレメントの解像度は１２５μ
ｍ、線幅変化量は＋３５μｍで実施例１の感光性エレメ
ントの場合より劣っていた。ステップタブレット段数は
８段であった。

参考例２ 末端エチレン基を有する光重合性化合物の合成（２） トルエン（溶剤）　　　　１２００部 Ｂ　１，６−ヘキサンジオ−４７２部（８描量）ル Ｃ２−ヒドロキシエチル　９２８部（８当量）アクリレ
ート トルエン（溶剤）　　　　　８８部 ヒドロキノン　　　　　　０，４部 （熱重合防止剤） Ｄ　メタノール（停止剤）　　　３２部上記Ａ′ｆｒ：
温度計、攪拌装置、冷却管、窒素ガス導入管及び南下器
のついた。加熱及び冷却の可能な答槓約５ｔの反応器に
加え攪拌しながら６０℃に昇温した。反応温度を５５〜
６５℃に保ちながら約３１４間で均一にＢを滴下した。

Ｂ滴下後、５５〜６５℃の温１及で約２時間保ち、その
後５５〜６５℃の温度でＣを約３時間で均一に滴下した
。Ｃ滴下後、約５時間かけて徐々に反応温度を８０℃ま
で昇温した。その後温度を６０℃に下げ、Ｄを加え約１
時間攪拌を続けた。その後、減圧乾燥して溶剤を除去し
、粘稠な末端エチレン基を有する光ム合性化合物（ｎ）
を得た。

実施例２ 参考例２で得られた光重合性化合物（Ｉｌｌ　　３５部
。

テトラブロモビスフェノールＡノシ−（２−７クリロイ
ルオキシエチル）エーテル　　２０部。

メタクリル酸メチル・アクリル酸・２−ヒドロキシエチ
ルメタクリレ−）　（９０／　２　／　８重ｔベンゾフ
ェノン　　　　　　　　　　　　３部。

ミヒラーケトン　　　　　　　　　　　０．３部。

ＰＡＴＯＸ−０８部。

ホスマーＭとインダゾールとの等モル塩０．２部。

ｐ−メトキシフェノール　　　　　　　０．０２部。

ビクトリアピュアブルー　　　　　　　０．０２部。

トルエン　　　　　　　　　　　　　　　５０部。

メチルエチルケトン　　　　　　　　　５０部上記組成
の感光性樹脂組成物の溶液を調整し。

実施例１と同様にして感光性エレメントを製造した。得
られた感光性エレメントの特性を実施例１と同様の操作
で評価した。解像度は１５０μｍ、線幅変化量は＋５０
μｍで、ステップタブレット段数は８段でめった。上記
感光性エレメントの透明性は良好で半田試験を行なうた
めの試験用ネガマスク（２１２図）の位置合わせも問題
なく行なえた。

実施例１と同様の操作で行なった半田試験の結果は良好
であった。また、厚さ０．８１１１１１１．ＦＲ，−４
グレードのガラスエポキシ基材（日立化成工業■製。

レメントの硬化被Ｍを形成した場合、ＵＬ９４Ｖ−０の
難燃性を保持することがわかった。

比較例２ 実施例２のＰＡＴＯＸ−０８部にかえてＡＴＯＸ−Ｆ　
（日本精鉱０覧製、平均粒径０．３μｍの三酸化アンチ
モン）８部を用い、他は実施例２と同様の操作を行なっ
た。得られた感光性エレメントは線幅。

線間隔３００μＩｌ’ｌのテストパターンを解像できず
。

線幅変化量も測定できなかった。また上記感光性エレメ
ントは不透明で半田試験を行なうための試験用ネガマス
クの位置合わせができなかった。

尚、上記は本発明になる感光性樹脂組成物の一実施例に
すぎず、当然２本発明の精神を逸脱しない範囲で種々の
変形及び使用方法が可能である。

【図面の簡単な説明】

第１図は実施例で用いた感光性エンメントの製造装置の
略図、絹２図は実施例で用いた試験用ネガマスクを示す
図、第３図は実施例で用いた試験基板の銅パターンを示
す図である。 符号の説明 １・・・感光性樹脂組成物の溶液 ２・・・ポリエチレンテレフタレートフィルム３・・・
乾燥機 ４・・・ポリエチレンフィルム 訃、ｊ−”　ＩＪエチレンテレフタレートフィルム＜す
出しロール ６．７．８・・・ロール ９・・・ナイフ １０・・・ポリエチレンフィルム＜＃）出しローｈ１１
．１２・・・ロール １３・・・感光性エンメント巻き取りロール１４・・・
ネガマスクの不透明部分 １５・・・ネガマスクの透明部分 １６・・−銅パターン部分 １７・・・基材の露出部分 葛１図 第　Ｚ　図 ロロロロロｌ ロロロロロロ ロロロロロロ 一ロ口口口口

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、（ａ）　　平均粒径０．１μｍ以下の三酸化アンチ
   モンをｏ、　ｉ〜１５Ｍ昂：部。 ｆｂ）　　末端エチレン基を少なくとも２個有する光重
   合性化合物を２０〜８０Ｍ量部。 ＣＣ１熱可塑性有機高分子化合物を２０〜８０重量部。 および （ｄ）　　活性光線の照射によって前記光重合性化合物
   （ｂ）の重合を開始する増感剤及び／又は増感剤系を０
   ．５〜１０．ｉ置部 含有し、（ｂ）及び（Ｃ１の少なくとも一つと共有結合
   したハロゲン原子を（ａ）ｆｂｌｃ）及び（ｄ）の重量
   に対して３〜３ＯＮ量係含有してなる感光性樹脂組成物
   。 ２、三酸化アンチモンが平均粒径が０．０５μｍ以下の
   三酸化アンチモンである特許請求の範囲第１項記戦の感
   光性樹脂組成物。 ３、末端エチレン基を少なくとも２細巾する光重合性化
   合物がジオールモノアクリレート又はジオールモノメタ
   クリレートとジインシアネートとの反応生成物である特
   許請求の範囲第１項又は第２項記載の感光性樹脂組成物
   。 ４、末端エチレン基を少なくとも２個有する光重合性化
   合物がジオールモノアクリレート又はジオールモノメタ
   クリレートとジオールとジイソシアネートとの反応生成
   物である特許請求の範囲第１項又は第２項記載の感光性
   樹脂組成物。 ５、（ａ）　　平均粒径０．１μｍ以下の三酸化アンチ
   モンを０．１〜１５Ｎ量部。 （ｂ）　　末端エチレン基を少なくとも２個有する光重
   合性化合物を２０〜８０重量部。 （Ｃ）　　熱可塑性有機高分子化合物を２０〜８０重量
   部。 および ｆｄ）　　活性光線のＭ射によって前記光重合性化合物
   （ｂｌの重合を開始する増感剤及び／又は増感剤系を０
   ，５〜１０重量部 含有し、（ｂ）及び（Ｃ）の少なくとも一つと共有結合
   したハロゲン原子を（ａ）（ｂ）（Ｃ１及び（ｄｉの重
   量に対して３〜３０重量％含有する感光性樹脂組成物の
   層と該層を支持する支持体フィルムからなる感光性エレ
   メント。 ６、二酸化アンチモンが平均粒径が０．０５μｍ以下の
   三酸化アンチモンである特許請求の範囲第５項記載の感
   光性エレメント。 ７、末端エチレン基を少なくとも２個有する光重合性化
   合物がジオールモノアクリレート又はジオールモノメタ
   クリレートとジインシアネートとの反応生成物である特
   許請求の範囲第５項又は第６項記載の感光性エレメント
   。 ８、末端エチレン基を少なくとも２個有する光１合性化
   合物がジオールモノアクリレート又はジオールモノメタ
   クリレートとジオールとジインシアネートとの反応生成
   物である特許請求の範囲第５項又は第６項記載の感光性
   エレメント。