JPS59193531A - 磁気記録用コ−テイング組成物および磁気記録構造の製造方法 - Google Patents
磁気記録用コ−テイング組成物および磁気記録構造の製造方法Info
- Publication number
- JPS59193531A JPS59193531A JP4480584A JP4480584A JPS59193531A JP S59193531 A JPS59193531 A JP S59193531A JP 4480584 A JP4480584 A JP 4480584A JP 4480584 A JP4480584 A JP 4480584A JP S59193531 A JPS59193531 A JP S59193531A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coating composition
- molecular weight
- compound
- group
- ethylenic unsaturations
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- Pending
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- Paints Or Removers (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の分野
本発明は、非磁化性基材上の凝固した熱硬化性樹脂コー
ティングぎビクル中に磁化性の粒子(magnetiz
ab’le particles )の層が分散されて
いるテープまたはディスクのような磁気記録構造の迅速
な製造が可能な電子ビームの照射で硬化しうるコーティ
ング組成物に関する。
ティングぎビクル中に磁化性の粒子(magnetiz
ab’le particles )の層が分散されて
いるテープまたはディスクのような磁気記録構造の迅速
な製造が可能な電子ビームの照射で硬化しうるコーティ
ング組成物に関する。
背景技術
テープおよびディスクのような磁気記録構造の製法は公
知である。これらの公知の方法においては、磁気配向を
保有する能力のある、通常は酸化物粒子である粒子で顔
料化した液体コーティング組成物を適当な非磁化性基材
上に適用する。この顔料入りコーティングを、次いでベ
ーク(bake )してコーティングを凝固させ、磁化
性粒子をコーティング内に固定する。
知である。これらの公知の方法においては、磁気配向を
保有する能力のある、通常は酸化物粒子である粒子で顔
料化した液体コーティング組成物を適当な非磁化性基材
上に適用する。この顔料入りコーティングを、次いでベ
ーク(bake )してコーティングを凝固させ、磁化
性粒子をコーティング内に固定する。
公知の方法においては、磁化性粒子が非磁化性結合剤(
これは熱可塑性または熱硬化性でもよい)と混合して使
用され、その結合剤を溶解し、基材上にうすいコーティ
ングとして適用するための溶剤溶液とするための溶剤が
存在する。塗被した基材は、強制乾燥させて溶剤を除去
する。若干の反応性結合剤は、ポリイソシアネートと共
に、例えば140″Fのような熱室中に長く貯蔵して硬
化させる。例証となる方法が米国特許明細書簡4.24
6,316号に示されている。
これは熱可塑性または熱硬化性でもよい)と混合して使
用され、その結合剤を溶解し、基材上にうすいコーティ
ングとして適用するための溶剤溶液とするための溶剤が
存在する。塗被した基材は、強制乾燥させて溶剤を除去
する。若干の反応性結合剤は、ポリイソシアネートと共
に、例えば140″Fのような熱室中に長く貯蔵して硬
化させる。例証となる方法が米国特許明細書簡4.24
6,316号に示されている。
公知の方法は、遅く、使用する硬化法に均一性が欠ける
〜また、インシアネート官能基物質を使用するときは、
これらが限られた保存寿命であるため融通がきかない。
〜また、インシアネート官能基物質を使用するときは、
これらが限られた保存寿命であるため融通がきかない。
非磁化性の基材上のポリエチレン状に不飽和のコーテイ
ング液体を電子ビーム照射を使用して急速に硬化させる
のが望ましいが、この方法で生成された硬化コーティン
グは良い製品となるに必要な物理的のタフネス(tou
ghnese )に欠ける。これに関連して第50−7
7436号として1975年6月24日に公開された日
本国特許出願第48−126778号が参考となる。
ング液体を電子ビーム照射を使用して急速に硬化させる
のが望ましいが、この方法で生成された硬化コーティン
グは良い製品となるに必要な物理的のタフネス(tou
ghnese )に欠ける。これに関連して第50−7
7436号として1975年6月24日に公開された日
本国特許出願第48−126778号が参考となる。
さらに最近に至って、アクリル化つレタンオリザマーを
使用する電子ぎ−ム硬化の磁気記録構造が製造されてい
るがこれらはオリゴマーが磁気性粒子をぬらすことがで
きるようにするためにチタネートカップリング剤を必要
とする(第58−29124号として1986年2月2
1日に公開された日本国特許出願第48−126778
号を参照されたい)。ぬれ(wetting )の改善
の達成が本発明の重要な特徴である。
使用する電子ぎ−ム硬化の磁気記録構造が製造されてい
るがこれらはオリゴマーが磁気性粒子をぬらすことがで
きるようにするためにチタネートカップリング剤を必要
とする(第58−29124号として1986年2月2
1日に公開された日本国特許出願第48−126778
号を参照されたい)。ぬれ(wetting )の改善
の達成が本発明の重要な特徴である。
電子ビーム硬化法は、安定なコーティングの使用、比較
的大きい生産速度、比較的均一な製品品質、比較的こじ
んまりした装置および本発明のような比較的耐性のある
製品のような多くの有利性を備えている。ぬれ特性のす
ぐれたオリイマー系の開発が望まれるのはこれらの理由
のためである。
的大きい生産速度、比較的均一な製品品質、比較的こじ
んまりした装置および本発明のような比較的耐性のある
製品のような多くの有利性を備えている。ぬれ特性のす
ぐれたオリイマー系の開発が望まれるのはこれらの理由
のためである。
発明の開示
本発明によれば、つl/タン結合によって結合されてい
る少なくとも2.5個の反復学位(好ましくは少なくと
も4個)および好ましくは尿素基を有し、粘稠な非注加
性の液体から常態で固体までのエチレン状不飽和を複数
有する化合物であって、750〜1o、o o o単位
の分子量当り平均1個のエチレン状に不飽和な基を有す
る該エチレン状不飽和を複数有する化合物少なくとも1
種を含む液体ビヒクル中に磁化性の粒子が分散されてい
る電子ビーム硬化性のコーティング組成物が提供される
。前記の反復頃位は、500〜2,500 、さらに好
ましくは600〜1,5 D Oの範囲内の分子量ヲ有
するポリエーテルジオールによって供給され、これによ
って磁化性顔料のぬれが改善される。アルキレン基が3
または4個の炭素原子を有するオキシアルキレン基に基
づくポリエーテルジオールが特に好ましく、これらのう
ち炭素原子4個を有するものが、所望の分子量を有する
力?リテトラメチレングリコールにおけるように最良で
ある。前記の液体ビヒクルは、コーティング可能な低粘
度を有する、そして、前記の不飽和化合物の状態は25
℃において示される。
る少なくとも2.5個の反復学位(好ましくは少なくと
も4個)および好ましくは尿素基を有し、粘稠な非注加
性の液体から常態で固体までのエチレン状不飽和を複数
有する化合物であって、750〜1o、o o o単位
の分子量当り平均1個のエチレン状に不飽和な基を有す
る該エチレン状不飽和を複数有する化合物少なくとも1
種を含む液体ビヒクル中に磁化性の粒子が分散されてい
る電子ビーム硬化性のコーティング組成物が提供される
。前記の反復頃位は、500〜2,500 、さらに好
ましくは600〜1,5 D Oの範囲内の分子量ヲ有
するポリエーテルジオールによって供給され、これによ
って磁化性顔料のぬれが改善される。アルキレン基が3
または4個の炭素原子を有するオキシアルキレン基に基
づくポリエーテルジオールが特に好ましく、これらのう
ち炭素原子4個を有するものが、所望の分子量を有する
力?リテトラメチレングリコールにおけるように最良で
ある。前記の液体ビヒクルは、コーティング可能な低粘
度を有する、そして、前記の不飽和化合物の状態は25
℃において示される。
この液体コーティングを、次いで非磁化性基村上に適用
してそれの湿フィルムを形成する。常法のように湿コー
ティングした基材が揮発性の非反応性溶剤を含有する場
合には、室温またはわずかに高められた温度でこの揮発
性溶剤を除去する。
してそれの湿フィルムを形成する。常法のように湿コー
ティングした基材が揮発性の非反応性溶剤を含有する場
合には、室温またはわずかに高められた温度でこの揮発
性溶剤を除去する。
湿ったものか乾燥したものか、室温乾燥か、高められた
温度で乾燥したいずれかのコーティングを、次いで電子
ビーム放射にさらして不飽和化合物を中に磁化性粒子が
分散されている゛ノリツt−” (S all )の熱
硬化樹脂コーティングに転化させる。
温度で乾燥したいずれかのコーティングを、次いで電子
ビーム放射にさらして不飽和化合物を中に磁化性粒子が
分散されている゛ノリツt−” (S all )の熱
硬化樹脂コーティングに転化させる。
本発明のエチレン状不飽和を複数有する化合物は、複数
の反復学位を含有するように形成される。
の反復学位を含有するように形成される。
これらは前記に示したようにある選らばれた基によって
結合される。これがどのようにしてできるかを説明する
ために約650の平均分子量を有するポリテトラメチレ
ングリコールのような適当なポリエーテルジオールを例
にすると、これとインホロンジイソシアネートのような
ジイソシアネートと反応させ、過剰な官能基によって決
まる、インシアネート末端基かヒドロキシエチルのいず
れでもよい線状オリゴマーが得られる。例えば相互に反
応する官能基の間の当量比3:2−1:たは4:ろを使
用するように比率を変えることによって、ウレタン基に
よって結合されている幾つかの反復準位が形成される。
結合される。これがどのようにしてできるかを説明する
ために約650の平均分子量を有するポリテトラメチレ
ングリコールのような適当なポリエーテルジオールを例
にすると、これとインホロンジイソシアネートのような
ジイソシアネートと反応させ、過剰な官能基によって決
まる、インシアネート末端基かヒドロキシエチルのいず
れでもよい線状オリゴマーが得られる。例えば相互に反
応する官能基の間の当量比3:2−1:たは4:ろを使
用するように比率を変えることによって、ウレタン基に
よって結合されている幾つかの反復準位が形成される。
前記のオリゴマーがイソシアネート末端基の場合は、ヘ
キサメチレンジアミンとさらに反応してウレタン基に加
えて尿素基が存在するオリゴマーが得られるように、特
に好ましい結果が得られる。
キサメチレンジアミンとさらに反応してウレタン基に加
えて尿素基が存在するオリゴマーが得られるように、特
に好ましい結果が得られる。
これらの尿素基は、電子ビーム硬化コーティングに硬さ
および剛性を付与する。
および剛性を付与する。
前記のように段階的に反応を進めるか、またはジアミン
とジオールの混合物を使用すれば、最初に形成されたオ
リゴマー中の結合基が若干の尿素基および若干のウレタ
ン基を含有すであろうことが理解できるであろう。
とジオールの混合物を使用すれば、最初に形成されたオ
リゴマー中の結合基が若干の尿素基および若干のウレタ
ン基を含有すであろうことが理解できるであろう。
前記のジオールの約15チまでの代りに1,6−ヘキサ
ンジメルカゾタンのようなジメルカプタンを使用するこ
とができる、この場合の生成物は反復革位中にシカ−バ
メート基を含有する。
ンジメルカゾタンのようなジメルカプタンを使用するこ
とができる、この場合の生成物は反復革位中にシカ−バ
メート基を含有する。
二官能基物質については前記したが、線状の代りに分枝
状のオリゴマーを形成する比較的高次の官能基を有する
物質も含むことができる。これら高次の官能基物質の例
は、トリメチロールプロパンまたはペンタエリスリトー
ルである。ヘキザメチレンジイソシアネートのビウレッ
トのようなトリイソシアネートもまた有用である。しか
し、二官能基物質が好ましく、これが使用する物質の大
部分を構成する。
状のオリゴマーを形成する比較的高次の官能基を有する
物質も含むことができる。これら高次の官能基物質の例
は、トリメチロールプロパンまたはペンタエリスリトー
ルである。ヘキザメチレンジイソシアネートのビウレッ
トのようなトリイソシアネートもまた有用である。しか
し、二官能基物質が好ましく、これが使用する物質の大
部分を構成する。
前述した種類の複数の結合がタフネスの改善されたオリ
ゴマーにするが、比較的高分子量のポリエーテルは、普
通に必要とされるような特に高比率で磁化性粒子を適切
に配合するのに必要なぬれ性を付与する。ポリオギシプ
ロピレングリコールまたはポリテトラメチレングリコー
ルのようにポリエーテル中のオキシアルキレン基が6ま
たは4個の炭素原子を含有するのが好ましい。多くの変
法が可能なことは当業者には明らかであろうし、また実
施例においても説明する。本発明においても湿潤剤を添
加してもよいが、湿潤剤のない系の方がより良好であり
、従って添加剤を添加するときは比較的良好な状、轢か
ら出発する。
ゴマーにするが、比較的高分子量のポリエーテルは、普
通に必要とされるような特に高比率で磁化性粒子を適切
に配合するのに必要なぬれ性を付与する。ポリオギシプ
ロピレングリコールまたはポリテトラメチレングリコー
ルのようにポリエーテル中のオキシアルキレン基が6ま
たは4個の炭素原子を含有するのが好ましい。多くの変
法が可能なことは当業者には明らかであろうし、また実
施例においても説明する。本発明においても湿潤剤を添
加してもよいが、湿潤剤のない系の方がより良好であり
、従って添加剤を添加するときは比較的良好な状、轢か
ら出発する。
前記のオリゴマーば、好ましくはアクリレート基である
不飽和基を末端基とする。これは、2−ヒドロキシエチ
ルアクリレートまたはその反応生成物のいずれかと、1
モル比の、インホロンジイソシアネートのようなジイソ
シアネートとを使用して不飽和モノイソシアネートを得
ることによって容易に達成される。2−ヒドロキシアル
キルアクリレートおよび2−ヒドロキシエチルアクリレ
ートも有用である。オリゴマーが、インシアネート末端
基の場合は、ヒドロキシアルキルアクリレートが反応体
として選ばれる。オリゴマーが、ヒrロキル基を末端基
とするときは、モノイソシアネートが選ばれる。相当す
るメタクリレートも同様に有用であるがアクリレートの
方が迅速に硬化する。これより有用性の少ないエチレン
状の基の例はアリルアルコールである。
不飽和基を末端基とする。これは、2−ヒドロキシエチ
ルアクリレートまたはその反応生成物のいずれかと、1
モル比の、インホロンジイソシアネートのようなジイソ
シアネートとを使用して不飽和モノイソシアネートを得
ることによって容易に達成される。2−ヒドロキシアル
キルアクリレートおよび2−ヒドロキシエチルアクリレ
ートも有用である。オリゴマーが、インシアネート末端
基の場合は、ヒドロキシアルキルアクリレートが反応体
として選ばれる。オリゴマーが、ヒrロキル基を末端基
とするときは、モノイソシアネートが選ばれる。相当す
るメタクリレートも同様に有用であるがアクリレートの
方が迅速に硬化する。これより有用性の少ないエチレン
状の基の例はアリルアルコールである。
本発明のコーティングは、すぐれたタフネスを有するの
で満足な良品質の磁気記録構造を迅速に製造することが
できる。
で満足な良品質の磁気記録構造を迅速に製造することが
できる。
有機涛剤を除去して形成された未硬化コーティングは、
ソリッドフィルムであり、これは電子ビーム硬化処理の
前にカレンダーがけ、またはその他の機械的な加工をす
るのが好ましい。
ソリッドフィルムであり、これは電子ビーム硬化処理の
前にカレンダーがけ、またはその他の機械的な加工をす
るのが好ましい。
好ましいエチレン状不飽和を複数有する化合物は、1,
500〜20,000の範囲内の分子量を有し、反応体
の少なくとも1種が二宜能基反応体の反応から誘導され
るものである。少なくとも1個が有機ジイソシアネート
である複数の二官能基化合物の反応によって形成された
本質的に線状のエチレン状不飽和を複数有する化合物で
あり、その線状構造が、2−ヒドロキシエチルアクリレ
ートまたはヒドロキシエチルアクリレートのように単一
ヒrロキシル基を含有する他のアクリレート基との反応
による場合のように、その各端が1個のアクリレート基
が末端基となっているものを使用するのが特に好ましい
。
500〜20,000の範囲内の分子量を有し、反応体
の少なくとも1種が二宜能基反応体の反応から誘導され
るものである。少なくとも1個が有機ジイソシアネート
である複数の二官能基化合物の反応によって形成された
本質的に線状のエチレン状不飽和を複数有する化合物で
あり、その線状構造が、2−ヒドロキシエチルアクリレ
ートまたはヒドロキシエチルアクリレートのように単一
ヒrロキシル基を含有する他のアクリレート基との反応
による場合のように、その各端が1個のアクリレート基
が末端基となっているものを使用するのが特に好ましい
。
非反応性の揮発性溶剤の存在を最小にするために、コー
ティング組成物に後述するようにそれらのエチレン状不
飽和によって反応する液体モノエチレン状、または液体
ポリ−エチレン状希釈剤を含ませることによってコーテ
ィング粘度近くまで希釈するのが好ましい。
ティング組成物に後述するようにそれらのエチレン状不
飽和によって反応する液体モノエチレン状、または液体
ポリ−エチレン状希釈剤を含ませることによってコーテ
ィング粘度近くまで希釈するのが好ましい。
使用される揮発性溶剤は広い変化がある。トルエンのよ
うな芳香族溶剤、シクロヘキサノンのような脂環式溶剤
およびテトラヒドロフランのようなペテロ環式溶剤など
、いずれも本発明において有用であり、後記に説明する
。
うな芳香族溶剤、シクロヘキサノンのような脂環式溶剤
およびテトラヒドロフランのようなペテロ環式溶剤など
、いずれも本発明において有用であり、後記に説明する
。
顔料添加コーティング組成物中の非揮発性固形分(反応
性揮発性成分も含む)100部に基づいて、50〜40
0部、好ましくは100〜600部の揮発性溶剤を使用
するのが好ましい。これらの溶剤し1、硬化の前に好ま
しくは蒸発に除去するのが好ましい。
性揮発性成分も含む)100部に基づいて、50〜40
0部、好ましくは100〜600部の揮発性溶剤を使用
するのが好ましい。これらの溶剤し1、硬化の前に好ま
しくは蒸発に除去するのが好ましい。
本発明によって、磁化性粒子によるコーティングの顔料
化は、硬化コーティングの全重量に基づいて50〜85
重量係の顔料粒子を含有する分散体となる。25〜50
係の全非揮発性固形分を有するコーティング組成物を適
用するのが便利である。
化は、硬化コーティングの全重量に基づいて50〜85
重量係の顔料粒子を含有する分散体となる。25〜50
係の全非揮発性固形分を有するコーティング組成物を適
用するのが便利である。
適当な磁化性粒子は、前記に引用の特許および本出願の
実施例中に例証されている。これらは周知であり、本発
明においても光業界のこれらのものと同じである。これ
らは普通には、酸化物粒子である。
実施例中に例証されている。これらは周知であり、本発
明においても光業界のこれらのものと同じである。これ
らは普通には、酸化物粒子である。
既に説明したエチレン状不飽和を複数有する化合物は、
コーティング組成物中に存在する唯一の重合性化合物で
もよいが、1分子当り少なくとも2個のアクリレート基
を含有し、アクリレート基1個当り500単位以下の分
子量を有する低分子量ポリアクリレートを一部含有させ
るのが好ましい。これらは相当広い変化があり、本明細
書の実施例においても幾つかが使用されている。さらに
詳細には、あらゆる種類の液体アクリレート、例えばブ
チレングリコールジアクリレートおよびトリメチロール
プロパンジアクリレートが使用できるが、インシアネー
ト官能基が、ヒドロキシエチルアクリレートとの反応に
よって消費されている有機ポリインシアネートを使用す
るのが好ましい。
コーティング組成物中に存在する唯一の重合性化合物で
もよいが、1分子当り少なくとも2個のアクリレート基
を含有し、アクリレート基1個当り500単位以下の分
子量を有する低分子量ポリアクリレートを一部含有させ
るのが好ましい。これらは相当広い変化があり、本明細
書の実施例においても幾つかが使用されている。さらに
詳細には、あらゆる種類の液体アクリレート、例えばブ
チレングリコールジアクリレートおよびトリメチロール
プロパンジアクリレートが使用できるが、インシアネー
ト官能基が、ヒドロキシエチルアクリレートとの反応に
よって消費されている有機ポリインシアネートを使用す
るのが好ましい。
この目的用としで好ましいポリイソシアネートは、トル
エンジイソシアネートおよびイソホロンジイソシアネー
ト、またはそれ自体は公知の反応によって3個のイソシ
アネート基からのインシアヌレート環の形成によって生
成されるこれらのトリマ〜である。これらは実施例にお
いて説明する。室温では液体でないが、トリス−ヒドロ
キシエチルイソシアヌレートトリアクリレートも他の好
ましい?リアクリレートである。
エンジイソシアネートおよびイソホロンジイソシアネー
ト、またはそれ自体は公知の反応によって3個のイソシ
アネート基からのインシアヌレート環の形成によって生
成されるこれらのトリマ〜である。これらは実施例にお
いて説明する。室温では液体でないが、トリス−ヒドロ
キシエチルイソシアヌレートトリアクリレートも他の好
ましい?リアクリレートである。
エチレン状不飽和を複数有する化合物がコーティング組
成物中の全重合性物質の少なくとも約60係を構成する
のが好ましく、さらに好ましくは少なくとも約50係を
構成する。前記の低分子量ポリアクリレートは、望まし
くは全重合性物質の5〜約70%の量、好ましくは少な
くとも10チの量で存在する。
成物中の全重合性物質の少なくとも約60係を構成する
のが好ましく、さらに好ましくは少なくとも約50係を
構成する。前記の低分子量ポリアクリレートは、望まし
くは全重合性物質の5〜約70%の量、好ましくは少な
くとも10チの量で存在する。
モノエチレン状に不飽和の物質、例えばN−ビニルピロ
リダンも少量存在してもよい、2−ヒドロキシエチルア
クリレートのような多数の他のモノマーも同様に有用で
ある。
リダンも少量存在してもよい、2−ヒドロキシエチルア
クリレートのような多数の他のモノマーも同様に有用で
ある。
本出願においては、別記しない限り全割合は重量で示す
。現在のところ好まし組成物を次表に示す。
。現在のところ好まし組成物を次表に示す。
前記の表に引用した実施例は次の通りである。
実施例1
適当な反応容器中に、ポリテトラメチレングリコールウ
レタンが、約700の分子量を有し、インシアネート末
端基のウレタンが、約1900の分子量を有し、約5〜
6個のウレタン基を有するトルエンジインシアネート末
端基のポリテトラメチレングリコールウレタン(デュポ
ン製品アジプレ=y (Adiprene ) L −
200を使用してもよい)1250g(1,1モル)、
1500gのシクロヘキサノン、1.ろyのジブチルス
ズジラウレートおよび0.8 gのフェノチアジンを入
れる。この反応混合物を40℃に熱し、42.8g(0
,37モル)の2−ヒドロキシエチルアクリレートを添
加する。
レタンが、約700の分子量を有し、インシアネート末
端基のウレタンが、約1900の分子量を有し、約5〜
6個のウレタン基を有するトルエンジインシアネート末
端基のポリテトラメチレングリコールウレタン(デュポ
ン製品アジプレ=y (Adiprene ) L −
200を使用してもよい)1250g(1,1モル)、
1500gのシクロヘキサノン、1.ろyのジブチルス
ズジラウレートおよび0.8 gのフェノチアジンを入
れる。この反応混合物を40℃に熱し、42.8g(0
,37モル)の2−ヒドロキシエチルアクリレートを添
加する。
この反応混合物を、40〜50℃に30分保持する。次
いで、207.6 g(0,915モル)の、分子量2
60のジ第一アミンで増量した( extended
)ポリオキシプロピレンジアミン(シェフアミン(Je
ffamine ) (D 230 )を使用してもよ
い)を60°Cの温度を維持する速度で添加する。前記
の反応を、遊離のNCOが無くなるまで続ける。生成物
は、6500センチポアズの粘度を有する50チ溶剤溶
液である。
いで、207.6 g(0,915モル)の、分子量2
60のジ第一アミンで増量した( extended
)ポリオキシプロピレンジアミン(シェフアミン(Je
ffamine ) (D 230 )を使用してもよ
い)を60°Cの温度を維持する速度で添加する。前記
の反応を、遊離のNCOが無くなるまで続ける。生成物
は、6500センチポアズの粘度を有する50チ溶剤溶
液である。
実施例2
溶剤としてトルエンを使用し、1モルのシェフアミy
D 230ミカエル(Michael )に2モルの2
−エチルへキシルアクリレートセ付加させて製造したア
ミン増量剤を使用する以外は、実施例1の方法を繰返す
。生成物は6800センチポアズの粘度を有する50%
溶剤溶液である。シェフアミン反応体は2個の末端第一
アミン基を有するので2個の第二アミンが反応用として
残されている。
D 230ミカエル(Michael )に2モルの2
−エチルへキシルアクリレートセ付加させて製造したア
ミン増量剤を使用する以外は、実施例1の方法を繰返す
。生成物は6800センチポアズの粘度を有する50%
溶剤溶液である。シェフアミン反応体は2個の末端第一
アミン基を有するので2個の第二アミンが反応用として
残されている。
実施例3
適当な反応容器に、540g(2,16モル)の4 、
4’−メチレンビスフェニルインシアネート(モーベイ
社(MObay)の製品モンダール(Mondur )
Mを使用してもよい)、1800gのテトラヒドロフ
ラン溶剤および1.7gのジブチルスズジラウレートを
入れる。この混合物を攪拌しながら、反応温度を60°
Cに保って平均分子量650のポリテトラメチレングリ
コール(デュポン社の製品テラ:7−ル(Teraco
l ) 650を使用してもよい11154.9(1,
8モル)を徐々に添加する。添加が完結した後、60℃
に1時間保ち、次いで、83.5 g(0,72モル)
の2−ヒドロキシエチルアクリレートおよび0.9yの
フェノチアジンを添加する。この反応を遊離のNCOが
無くなるまで続ける。得られる生成物は、560センチ
ポアズの粘度を有する50チの有機溶剤溶液である。
4’−メチレンビスフェニルインシアネート(モーベイ
社(MObay)の製品モンダール(Mondur )
Mを使用してもよい)、1800gのテトラヒドロフ
ラン溶剤および1.7gのジブチルスズジラウレートを
入れる。この混合物を攪拌しながら、反応温度を60°
Cに保って平均分子量650のポリテトラメチレングリ
コール(デュポン社の製品テラ:7−ル(Teraco
l ) 650を使用してもよい11154.9(1,
8モル)を徐々に添加する。添加が完結した後、60℃
に1時間保ち、次いで、83.5 g(0,72モル)
の2−ヒドロキシエチルアクリレートおよび0.9yの
フェノチアジンを添加する。この反応を遊離のNCOが
無くなるまで続ける。得られる生成物は、560センチ
ポアズの粘度を有する50チの有機溶剤溶液である。
実施例4
適当な容器に736&(0,65モル)のアジプレンL
−200(分子量1000のポリテトラメチレングリコ
ールと2=1モル比過剰のトルエンジインシアネートと
のインシアネート末端基の反応生成物)、774gのト
ルエン、0.18gのジブチルスズジラウレートおよび
0.5gのフェノチアゾンを入れる。この混合物に38
g(0,325モル)の2−ヒドロキシエチルアクリ
レ−トラ添加して、60℃で60分反応させる。次いで
、温度を40℃に低下させ、インシアヌレート環および
6個のインシアネート基を有するインホロンジインシア
ネートトリマーを81gのトルエンに溶解した81gの
量で(50%溶液)添加する。
−200(分子量1000のポリテトラメチレングリコ
ールと2=1モル比過剰のトルエンジインシアネートと
のインシアネート末端基の反応生成物)、774gのト
ルエン、0.18gのジブチルスズジラウレートおよび
0.5gのフェノチアゾンを入れる。この混合物に38
g(0,325モル)の2−ヒドロキシエチルアクリ
レ−トラ添加して、60℃で60分反応させる。次いで
、温度を40℃に低下させ、インシアヌレート環および
6個のインシアネート基を有するインホロンジインシア
ネートトリマーを81gのトルエンに溶解した81gの
量で(50%溶液)添加する。
145gのトルエンに溶解させた1 45 g(0,6
5モル)のシェフアミンD230を60〜65°Cの範
囲内の温度を維持するような速度で添加する。この反応
を遊離のNCOが無くなるまで続ける。得られる三官能
基性のポリマー溶液をテトラヒドロフランで30%固形
分まで希釈し、250センチポアズの粘度を有する溶液
を得る。
5モル)のシェフアミンD230を60〜65°Cの範
囲内の温度を維持するような速度で添加する。この反応
を遊離のNCOが無くなるまで続ける。得られる三官能
基性のポリマー溶液をテトラヒドロフランで30%固形
分まで希釈し、250センチポアズの粘度を有する溶液
を得る。
前記の実施例に記載の溶液生成物に前記の表に示したよ
うなポリアクリレートを混合し、磁化性顔料(非揮発性
固形分に基づいて70%の顔料)〔パーキュレス社から
供給されているH R350磁化性顔料〕で顔料化して
製造した磁気コーティングを非磁化性基材に適用する。
うなポリアクリレートを混合し、磁化性顔料(非揮発性
固形分に基づいて70%の顔料)〔パーキュレス社から
供給されているH R350磁化性顔料〕で顔料化して
製造した磁気コーティングを非磁化性基材に適用する。
選んだ基材は、マイラー(Mylar )フィルムであ
り、湿ったコーティングな先づ塗布した基材を炉を通す
ことにより乾燥させる。この目的は、揮発性溶剤を実質
的に完全に除去することである。これが終ったとき、乾
燥ソリッドフィルムコーティングが形成されこのソリッ
ドフィルムはカレンダーかけのような加工ができる。次
いで、このコーティングを電子ビーム硬化に曝すと迅速
かつ容易に硬化して強靭な、耐久性のある熱硬化樹脂コ
ーティングが形成される。
り、湿ったコーティングな先づ塗布した基材を炉を通す
ことにより乾燥させる。この目的は、揮発性溶剤を実質
的に完全に除去することである。これが終ったとき、乾
燥ソリッドフィルムコーティングが形成されこのソリッ
ドフィルムはカレンダーかけのような加工ができる。次
いで、このコーティングを電子ビーム硬化に曝すと迅速
かつ容易に硬化して強靭な、耐久性のある熱硬化樹脂コ
ーティングが形成される。
反応性物質の溶液中への顔料の分散を容易にするため顔
料分散体を使用することも適切である。これら分散体自
体は周知であり、顔料入りコーティングのM量の2%の
、OAFの製品であるガファック(Gafac ) R
E −610の存在がこの例である。
料分散体を使用することも適切である。これら分散体自
体は周知であり、顔料入りコーティングのM量の2%の
、OAFの製品であるガファック(Gafac ) R
E −610の存在がこの例である。
メルカプタン官能基物質の使用の例は、実施例1で使用
されている0、915モルのシェフアミンD 23Q
17)%を相当するモル比の1.6−ヘキサンジメルカ
プタンに置換えて実施例1を繰返すことによって得られ
る。相当する結果が得られる。
されている0、915モルのシェフアミンD 23Q
17)%を相当するモル比の1.6−ヘキサンジメルカ
プタンに置換えて実施例1を繰返すことによって得られ
る。相当する結果が得られる。
代理人 浅 村 皓
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1) ウレタン結合によって結合されている少なく
とも2.5個の反復嘔位を有し、粘稠な非注加性の液体
ないし常態で固体のエチレン状不飽和を複数有する化合
物(前記の反復単位は、500〜2.500の範囲内の
分子量を有する。J? IJエーテルジオール基によっ
て供給され、前記のエチレン状不飽和を複数有する化合
物は、1分子当り平均少なくとも2個のエチレン状不飽
和基を有し、750〜10,000単位の分子量当り平
均1個のエチレン状不飽和基を有する)少なくとも1種
が含まれている液体ビヒクル中に磁化性粒子が分散され
ていることを特徴とする電子ビーム硬化性のコーティン
グ組成物。 (2) 前記の反復単位が、600〜1,500の範
囲内の分子量を有する特許請求の範囲第1項に記載のコ
ーティング組成物。 (3)前記のエチレン状不飽和を複数有する化合物が、
1,500〜20,000の範囲内の分子量を有する特
許請求の範囲第1項に記載のコーティング組成物。 (4)前記のエチレン状不飽和を複数有する化合物が、
少なくとも1個が三官能基の反応体である反応体の反応
から誘導される特許請求の範囲第6項に記載のコーティ
ング組成物。 (5)前記のエチレン状不飽和を複数有する化合物が、
複数の三官能基化合物の反応によって形成された本質的
に線状の、エチレン状不飽和を複数有する化合物である
特許請求の範囲第6項に記載のコーティング組成物。 (6) 前記のエチレン状不飽和を複数有する化合物
が、600〜1.5[]000分子を有する平均少なく
とも4個の反復単位およびアクリレート末端基を有する
特許請求の範囲第5項に記載のコーティング組成物。 (7) 前記のエチレン状不飽和を複数有する化合物
が、尿素基を含む特許請求の範囲第6項に記載のコーテ
ィング組成物。 (8)前記のポリエーテルジオールが、アルキレン基が
3または4個の炭素原子を有するオキシアルキレン基に
基づく特許請求の範囲第1項に記載のコーティング組成
物。 1″(9) 前記の& IJエ
ーテルジオールが、ポリテトラメチレングリコールであ
り、前記のエチレン状の基が、アクリレート基である特
許請求の範囲第8項に記載のコーティング組成物。 (10)前記のエチレン状不飽和を複数有する化合物の
割合が、前記コーティング組成物中の全重合性物質の少
なくとも約30%を構成する特許請求の範囲第1項に記
載のコーティング組成物。 ■ 前記のエチレン状不飽和を複数有する化合物が、前
記のコーティング組成物中の全重合性物質の少なくとも
約50係を構成する特許請求の範囲第6項に記載のコー
ティング組成物。 (12前記の組成物が、1分子当り少なくとも2個のア
クリレート基を有し、アクリレート基1個当り500牟
位以下の分子量を有する低分子量ポリアクリレートを、
全重合性物質の5〜70係を含む特許請求の範囲第1項
に記載のコーティング組成物。 (131前記の組成物が、少なくとも10%の前記のポ
リアクリレートを含む特許請求の範囲第12項に記載の
コーティング組成物。 (14)前記の2リアクリレートが、2−ヒVロキシエ
チルアクリレートと反応させである3個のインシアネー
ト基を有するインホロンジイソシアネートトリマーであ
る特許請求の範囲第16項に記載のコーティング組成物
。 (15)前記の組成物が、該コーティング組成物の全固
形分に基づいて50〜85%の量の磁化性粒子を含む特
許請求の範囲第1項に記載のコーティング組成物。 (16) 前記の組成物が、全非揮発性固形分の25
〜50%になる量で揮発性有機溶剤を含有する特許請求
の範囲第15項に記載のコーティング組成物。 α力 磁化性の粒子が分散されており、ウレタン結合に
よって結合されている少なくとも2.5個の反復単位を
有する、粘稠な非注加性液体ないし常態で固体のエチレ
ン状不飽和を複数有する化合物少なくとも1種が溶解さ
れている非反応性揮発性有機溶剤(前記の反復単位は5
00〜2.50’Oの範囲内の分子量を有する?リテト
ラメチレングリコール基から供給され、そして、前記の
エチレン状不飽和を複数有する化合物は、1分子当り平
均少なくとも2個のエチレン状不飽和基を有し、750
〜10.0001位の分子量当り平均1個のエチレン状
不飽和基を有する)、および1分子当り少なくとも2個
のアクリレート基を有し、1個のアクリレート基当り5
00琳位以下の分子量を有する低分子量ポリアクリ1/
−トを含み、前記のエチレン状不飽和を複数有する化合
物が、全重合性物質の少なくとも50%を構成し、前記
のポリアクリレートが、全重合性物質の少なくとも10
チを構成し、前記の磁化性粒子組成物の全固形分に基づ
いて50〜859I+の量で存在し、そして、前記の溶
剤が全非揮発性固形分を25〜50%にする量で存在す
ることを特徴とする、非磁化性基材上に磁気記録コーテ
ィングを付着させるための電子ビーム硬化性コーティン
グ組成物。 餞 特許請求の範囲第1項に記載のコーティング組成物
を非磁化性基材上に付着させ、存在する揮発性の非反応
性溶剤をすべて除去してソリッドフィルムを形成し、該
ソリッドフィルムを電子ビーム照射に曝して該ソリッド
フィルムを硬化させることを特徴とする磁気記録構造の
製造方法。 H前記のソリッドフィルムを、電子ビームに曝露する前
に機械的に加工する特許請求の範囲第18項に記載の方
法。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US47354483A | 1983-03-09 | 1983-03-09 | |
| US473544 | 1983-03-09 | ||
| US528044 | 1983-08-31 | ||
| US578018 | 1984-02-13 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59193531A true JPS59193531A (ja) | 1984-11-02 |
Family
ID=23879977
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4480584A Pending JPS59193531A (ja) | 1983-03-09 | 1984-03-08 | 磁気記録用コ−テイング組成物および磁気記録構造の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59193531A (ja) |
-
1984
- 1984-03-08 JP JP4480584A patent/JPS59193531A/ja active Pending
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