JPS5919360A - 電界効果トランジスタ - Google Patents

電界効果トランジスタ

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JPS5919360A
JPS5919360A JP57128463A JP12846382A JPS5919360A JP S5919360 A JPS5919360 A JP S5919360A JP 57128463 A JP57128463 A JP 57128463A JP 12846382 A JP12846382 A JP 12846382A JP S5919360 A JPS5919360 A JP S5919360A
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JP
Japan
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lead
source electrode
electrode
chip
field effect
Prior art date
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Application number
JP57128463A
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English (en)
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JPS6325711B2 (ja
Inventor
Naofumi Tsuzuki
都築 直文
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NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Nippon Electric Co Ltd
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Publication date
Application filed by NEC Corp, Nippon Electric Co Ltd filed Critical NEC Corp
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Publication of JPS5919360A publication Critical patent/JPS5919360A/ja
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    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
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    • H10W44/501Inductive arrangements
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
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    • H10W72/07551Controlling the environment, e.g. atmosphere composition or temperature characterised by changes in properties of the bond wires during the connecting
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  • Junction Field-Effect Transistors (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は超高周波用電界効果トランジスタに関する。
現在、GaAsなどの化合物半導体を素材とした電界効
果トランジスタ(以下GaAs  FhiTまたは単に
FFtTと称する)が準ミリ波帯およびミリ波帯までの
実用化を目的として研究されている。このような高周波
帯ではチップの容器への実装が特性に大きな影響を与え
るから、チップの性能改善と並行してチップの高周波特
性を低下させない実装およびそれに適したチップの形状
が重要な設計因子となる。
第1図は準ミリ波帯より低い周波数帯、C帝からX帯、
に用いる従来のGaAs  PETの構造を示す。セラ
ミックなどの絶縁基板9の上表面(こメタライズ層10
,11.12を設ける。そしてゲート電極1.ソース電
極2.およびドレイン電極3を有するPETチップ4を
メタライズ部分11上に鑞で溶着して搭載し、次にワイ
ヤボンディング法を用いて金属細線(ボンディングワイ
ヤ)5゜6.7.8により各電極のボンディングバット
とメタライズ部分とを接続する。メタライズ部分10゜
11.12はそれぞれ入力リード、接地リード。
出力リードになるが、この部分は面積が広くしかも充分
の厚さのメタライズがされているから高周波特性に影響
しない。しかしボンディングワイヤは細い線であるから
、電気的に抵抗およびインダクタンスをもち、特にソー
ス電極2から接地り−ド11へのボンディング線6,7
は増幅回路の接地インピーダンスを示し、利得1雑音指
数などの高周波特性を低下させる。このため極力ワイヤ
の長さを短くしなければならないが、この実装ではソー
スを極2と接地リード11とに高さの段階差があシ、ワ
イヤの長さを短くすることができない。
従ってミリ波帯、準ミリ波帯ではこの実装は不適当であ
る。
上記の改良方法として容器を工夫した公知例を第2図、
第3図に示す。第2図は平面図、第3図(a) 、 (
b)は第2図の線A−A’ 、 B−B’により接断し
た断面図である。金属台座13はA−A’方向に一定幅
の帯状の突出部14を有し、その中央位置KFP3TF
ETチップする。さらに突出部140FgTチップ搭載
位置の両側にFETチップ4の上面と同一面になるよう
に突出部15が形成されている。この金属台座13の前
記突出部14.15をのぞく部分には、表面にメタライ
ズ部分16゜17を設けたセラミック等の絶縁基板18
.19が接着されている。そしてボンディングワイヤ5
゜8および6,7によシメメ2イズ部分16.17およ
び突出部15とF’ETチップ4の各電極との接続がさ
れている。この改良構造により、ソース電極2と接地リ
ードである金属台座突出部15とを結ぶワイヤ6.7は
長さが従来よシ格段と短くなシ接地インダクタンスは1
/3程度にまで減少する。しかし複雑な素子容器となる
から高価となるはか)でな(、FETチップを搭載する
部分は面積を極力小さくする必要があるから、非常に開
口面の狭い凹窩部にチップをマウントすることになハ組
立歩留を低下させる。さらにチップサイズによシ容器内
部寸法が決定されるから、汎用性のある容器が用いられ
ないという欠点を有する。
本発明の目的は接地インダクタンスの少ない超高周波用
電界トランジスタを提供することにある。
以下本発明について図面を参照して詳細に説明する。第
4図は本発明の一笑施例の平面図である。
第5図(a) 、 +b)は第4図の線C−C’、D−
D’K よりm断した側部断面図である。13.14は
一体となっているが、14は金属台座13の帯状突起部
であり、電気的には接地リードになる。この帯状の突起
部14の存在しない部分に、表面にメタライズ部分16
.17を設けたセラミック等の絶縁基板18.19が接
着されていることは第2図と同じである。しかし突起部
14だけで突起部15はないから、第5図(a)は第3
図(a)と異っている。
P h3 ’I’チップ20の構造はゲート電極1.ド
レイン電極2とがボンディングパットを有することは通
常のとおりである。しかしソース電極リード21はゲー
ト電極1およびドレイン電極2とを結ぶ方向に、両側面
にビームリード形として形成されている。このソース電
極リード21の一端は機械的にまた電気的にソース電極
に接続され、他端は第5図(atに示すようにFPJT
チップ2oに沿って垂直におシまげ、さらに再び外方に
水平になるようにおりまける。前記F B ’l’チッ
プ2oをゲート電極1.ドレイン電極2がDD’線上に
くるように、金職台座13の突出部14に配重し、ソー
ス電極=5− リード21の他端水平部を熱圧着により機械的に接着す
る。とれによってFE’I’チップ2oが固定された後
に、ゲート電極1.ドレイン1!極2がメタライズ部分
16.17にワイヤボンディング法によ多接続される。
本発明によれは、ソース電極はFETチップの両側に幅
の広いビーム・リード形として容器の金属台座に接続さ
れるから極めて接地インピーダンスが低い。
従ってミリ波itで良好な低雑音・高利得を有する電界
効果トランジスタを得ることができる。
さらに信頼性の点においても、FETチップを固定する
手段として鑞で400℃程度の高温度でマウントする工
程がなく、ビーム・リードを300℃で加熱圧着するだ
けであるから、チップの劣化がない、また上記作業は開
口面の狭い凹窩部でなされるものでないから組立歩留は
高い。容器もチ。
プの形状に左右されない汎用性のものでよいからコスト
的にも有利である。
なお、GaAs  PETを例として説明したが、半6
− 導体の材質としてそれに限るものではない。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来のGaAs PETの平面図、第2図は改
良された公知例の平面図、第3図は第2図の断面図、第
4図は本発明による1実施例の平面図、第5図は第4図
の断面図である。 1・・・・・・ゲート電極、2・・・・・・ソース電極
、3・・・・・・ドレイン電極、4・・・・・・FE’
l”チップ、5,6,7゜8・・・・・・ボンディング
ワイヤ、10,12,16゜17・・・・・・メタライ
ズ部分、13・・・・・・金属台座、14゜15・・・
・・・突出部、18.19・・・・・・セラミック基板
、20・・・・・・FgTチップ、21・・・・・・ソ
ース電極り−ド〇 7− 篤 f 口 ¥ ? 回 f−7,3霞 筒 4 圓 篤 S 図 ?り 74   7.3

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 半導体チップの上面にソース、ドレインおよびゲートの
    各電極を有し、ビーム・リード形のソース電極リードが
    ゲート電極とドレイン電極とを結ぶ軸線の両側にソース
    電極と一体となって漣成さC1該ソース電極リードを容
    器の金属台座に接続することによって半導体チップが容
    器に固定され41ことfe特徴とする電界効果トランジ
    スタ。
JP57128463A 1982-07-23 1982-07-23 電界効果トランジスタ Granted JPS5919360A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57128463A JPS5919360A (ja) 1982-07-23 1982-07-23 電界効果トランジスタ

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57128463A JPS5919360A (ja) 1982-07-23 1982-07-23 電界効果トランジスタ

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5919360A true JPS5919360A (ja) 1984-01-31
JPS6325711B2 JPS6325711B2 (ja) 1988-05-26

Family

ID=14985333

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP57128463A Granted JPS5919360A (ja) 1982-07-23 1982-07-23 電界効果トランジスタ

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Country Link
JP (1) JPS5919360A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7757605B2 (en) 2004-04-28 2010-07-20 Brother Kogyo Kabushiki Kaisha Stamp

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US7757605B2 (en) 2004-04-28 2010-07-20 Brother Kogyo Kabushiki Kaisha Stamp

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JPS6325711B2 (ja) 1988-05-26

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