JPS59198427A - 液晶表示体 - Google Patents
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- JPS59198427A JPS59198427A JP7332983A JP7332983A JPS59198427A JP S59198427 A JPS59198427 A JP S59198427A JP 7332983 A JP7332983 A JP 7332983A JP 7332983 A JP7332983 A JP 7332983A JP S59198427 A JPS59198427 A JP S59198427A
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Classifications
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
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- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
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- G—PHYSICS
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明はプラスチック樹脂よりなる基板を用いた液晶−
表示体に関する。
表示体に関する。
近年、プラスチック樹脂よりなる基板を用いた液晶表示
体が提案されている。しかし、一般にプラスチック樹脂
は通気性や透湿性が大きいためにこのような液晶表示体
は信頼性の点で問題があった。
体が提案されている。しかし、一般にプラスチック樹脂
は通気性や透湿性が大きいためにこのような液晶表示体
は信頼性の点で問題があった。
本発明はかかる欠点を除去し、プラスチック樹脂の基板
を用いた信頼性の高い液晶表示体を提供することを目的
とする。
を用いた信頼性の高い液晶表示体を提供することを目的
とする。
本発明の液晶表示体は、液晶を挾む一方の基板をフェノ
キシ樹脂よりなるプラスチック基板を用い、他方の基板
をガラス板により構成した。そして、プラスチック基板
の液晶層側の基板面には透明電極を形成し、液晶層と反
対側の而にはポリ塩化ビニリデンの樹脂層を形成した。
キシ樹脂よりなるプラスチック基板を用い、他方の基板
をガラス板により構成した。そして、プラスチック基板
の液晶層側の基板面には透明電極を形成し、液晶層と反
対側の而にはポリ塩化ビニリデンの樹脂層を形成した。
以下、図面を用いて説明する。
第1図は、本発明の液晶表示体の第1の実施例である。
ガラス板よりなる基板1とフェノキシ樹脂よりなる基板
2が、液晶層3を挾んでいる。基板1,2の液晶層3[
+11の面上にはS u O2,工n。
2が、液晶層3を挾んでいる。基板1,2の液晶層3[
+11の面上にはS u O2,工n。
03 、工T○等よりなる透明導電膜4が形成されてお
り、液晶層6と反対側の面上にはポリ塩化ピニリデ・ン
の樹脂層5が形成されてい乙。透明導電膜4の上には配
向膜6が形成されている。
り、液晶層6と反対側の面上にはポリ塩化ピニリデ・ン
の樹脂層5が形成されてい乙。透明導電膜4の上には配
向膜6が形成されている。
ガラス板よりなる上基板1の厚さは0.1〜1.5mm
であり、0.2〜0.7mがより好ましい。
であり、0.2〜0.7mがより好ましい。
フェノキシ樹脂よりなる下基板2の厚さは0.025〜
1.5 Bである。厚さが0.025−1 ’mm、
0.05−0.5 rnrn、 0.03−0.2 w
nになるに従って1液晶表示体の薄型化が指部され、曲
げに対しても強くなる。樹脂層がフィルムであると製造
が容易である。
1.5 Bである。厚さが0.025−1 ’mm、
0.05−0.5 rnrn、 0.03−0.2 w
nになるに従って1液晶表示体の薄型化が指部され、曲
げに対しても強くなる。樹脂層がフィルムであると製造
が容易である。
透明導電膜4の厚さは100〜2000^であり、10
0〜700人の方がより好ましい。透明導電膜4を工T
oで構成する場合は、酸化インジウム系と酸化スズ系の
混合比は0.05〜200が適当である。透明導電膜4
は、フェノキシ樹脂のJ[112上に、スパッタリング
法、蒸着法、イオンブレーティング法等で形成される。
0〜700人の方がより好ましい。透明導電膜4を工T
oで構成する場合は、酸化インジウム系と酸化スズ系の
混合比は0.05〜200が適当である。透明導電膜4
は、フェノキシ樹脂のJ[112上に、スパッタリング
法、蒸着法、イオンブレーティング法等で形成される。
これらの導電膜は化学エツチング、イオンビームエツチ
ング、プラズマエツチング、フォトリソグラフィー等の
方法により、所定の電極形状に加工される。
ング、プラズマエツチング、フォトリソグラフィー等の
方法により、所定の電極形状に加工される。
透明導電膜4上の配向膜6は、ポリイミド系樹脂、ポリ
アミド系樹脂、ポリイミド−アミド系樹脂等であり、厚
さは5〜1000^で、ラビングにより配向処理される
。例えば、配向膜6がポリイミド系樹脂の場合には、1
00〜200℃で1〜6時間焼成する。これらの配向膜
はディッピング、印刷等によって基板上に形成される。
アミド系樹脂、ポリイミド−アミド系樹脂等であり、厚
さは5〜1000^で、ラビングにより配向処理される
。例えば、配向膜6がポリイミド系樹脂の場合には、1
00〜200℃で1〜6時間焼成する。これらの配向膜
はディッピング、印刷等によって基板上に形成される。
基板1.2間には、グラスファイツタ−、ガラス等の球
形や円柱形をしたスペーサ7が配されている。シール8
は、エポキシ系やシリコン系、ウレタン系、アクリル系
等の接着剤をスクリーン印刷、オフセット印刷9手塗り
等で形成する。
形や円柱形をしたスペーサ7が配されている。シール8
は、エポキシ系やシリコン系、ウレタン系、アクリル系
等の接着剤をスクリーン印刷、オフセット印刷9手塗り
等で形成する。
液晶層乙の厚さは1〜12μ惧が適当である。
上下基板1,2の液晶層6と反対側面にはポリ塩化ビニ
リデンの樹脂層5が形成されている。ポリ塩化セニリデ
ンの樹脂層5は、厚さが3〜100μm 、 5〜50
μ毒、5〜20μ仇の順に好ましくなる。ポリ塩化ビニ
リデンの樹脂層5は、フェノキシ樹脂よりなる基板1,
2上に適当な溶剤に溶かしたポリ塩化ビニリデン樹脂を
ハケ塗り、ディラビング、スクリーン印刷、オフセット
印刷、グラビア印刷等でコーティングしたり、ポリ塩化
ビニリデンのフィルムを貼り合わせて形成する。ポリー
塩化ビニリデン樹脂の厚さが3μ情以上であると充分な
防湿作用を有する。
リデンの樹脂層5が形成されている。ポリ塩化セニリデ
ンの樹脂層5は、厚さが3〜100μm 、 5〜50
μ毒、5〜20μ仇の順に好ましくなる。ポリ塩化ビニ
リデンの樹脂層5は、フェノキシ樹脂よりなる基板1,
2上に適当な溶剤に溶かしたポリ塩化ビニリデン樹脂を
ハケ塗り、ディラビング、スクリーン印刷、オフセット
印刷、グラビア印刷等でコーティングしたり、ポリ塩化
ビニリデンのフィルムを貼り合わせて形成する。ポリー
塩化ビニリデン樹脂の厚さが3μ情以上であると充分な
防湿作用を有する。
第2図は本発明の液晶表示体の第2の実施例であり、第
1図の本発明の液晶表示体の第1の゛実施例との相違は
、上基板11に、ポリ塩化ビニリデンの樹脂層5を形成
したフェノキシ樹脂の基板を用い、下基板21に%ガラ
ス基板を用いた点である。これらの構成は、第1図で示
した本発明の液晶表示体の第1ゐ゛実施例と同様である
。
1図の本発明の液晶表示体の第1の゛実施例との相違は
、上基板11に、ポリ塩化ビニリデンの樹脂層5を形成
したフェノキシ樹脂の基板を用い、下基板21に%ガラ
ス基板を用いた点である。これらの構成は、第1図で示
した本発明の液晶表示体の第1ゐ゛実施例と同様である
。
〔実施例1〕
ポリ塩化ビニリデン樹脂1001をテトラヒドロシラン
600S’、)ルエン3001の混合isに溶解させ、
この液をり、1#厚みのフェノキシ−ウレタン樹脂にグ
ラビアコーターで塗付し、乾燥させて基板を作製した。
600S’、)ルエン3001の混合isに溶解させ、
この液をり、1#厚みのフェノキシ−ウレタン樹脂にグ
ラビアコーターで塗付し、乾燥させて基板を作製した。
ポリ塩化ビニリデンの膜厚ハ0.01閣であった。この
基板の、ポリ塩化ヒ二′リデン膜を形成していない側に
、低温スノぐツタリング法で酸化インジウム−酸化スズ
系導電膜(組成比95:5)を500X厚みに形成し、
フォトリソグラフィー法で所定の電極形状に加工した。
基板の、ポリ塩化ヒ二′リデン膜を形成していない側に
、低温スノぐツタリング法で酸化インジウム−酸化スズ
系導電膜(組成比95:5)を500X厚みに形成し、
フォトリソグラフィー法で所定の電極形状に加工した。
次に、電極面にポリイミド樹脂を500に厚みに塗付し
、150℃1時間乾燥して配向膜を形成゛した。これを
ガーゼで一定方向にこす2て配向処理を行な、った。他
方の基板は0.7Mのガラス基板を用い同様に導電膜を
付は配向処理を行なった。
、150℃1時間乾燥して配向膜を形成゛した。これを
ガーゼで一定方向にこす2て配向処理を行な、った。他
方の基板は0.7Mのガラス基板を用い同様に導電膜を
付は配向処理を行なった。
かかる基板にエポキシ系接着剤をシール形状にスクリー
ン印刷し、銀糸導電接着剤を上下導通箇所につケ、直径
10ミクロンのグラス、ファイバー細片を散布したのち
、上下基板を組立て、100℃で1時間加熱硬化させた
。これに真空注入法で液晶物質を充填し、注入口をエポ
キシ系接着剤で封止して液晶セルを形成した。
ン印刷し、銀糸導電接着剤を上下導通箇所につケ、直径
10ミクロンのグラス、ファイバー細片を散布したのち
、上下基板を組立て、100℃で1時間加熱硬化させた
。これに真空注入法で液晶物質を充填し、注入口をエポ
キシ系接着剤で封止して液晶セルを形成した。
〔実施例2〕
0、1 rrrm厚のフェノキシ樹脂のプラスチック基
板の片面に0.01 rrrmの厚さにポリ塩化ビニリ
デン樹脂をコーティングし妃ところ、透湿性が2080
へ、24Hから2.980.イン、24■ に、酸素ガ
ス透過性が41°0/、? 、 24 ’Hatm か
ら55°0//rr?+ 24 H* atm へ改善
された。この基板のポリ塩化ビニリデン樹脂をコーティ
ングしていない側の面にITO膜を200人の厚さに、
スパッタに゛より形成し、フォトリソログラフイーで所
定の電極形状に加工した。電極上にはポリイミド系樹脂
を500Xの厚みに塗布し、150°Cで1時間焼成し
た。これをガーゼでラビングにより配向処理を行なった
。次に、グラスファイバーを基板上に散布し、エポキシ
接着剤をスクリーン印刷によりシール形状に印刷し、銀
糸導電接着剤で上下導通処理をおこない、0.5wm厚
のガラス板を用い電極、配向膜を形成した他方の基板の
2枚の基板を組み立て、接着剤を加熱硬化した。これに
真空注入法により液晶物質を充填し、注入口をエポキシ
系接着剤で封止して液晶セルを形成した。
板の片面に0.01 rrrmの厚さにポリ塩化ビニリ
デン樹脂をコーティングし妃ところ、透湿性が2080
へ、24Hから2.980.イン、24■ に、酸素ガ
ス透過性が41°0/、? 、 24 ’Hatm か
ら55°0//rr?+ 24 H* atm へ改善
された。この基板のポリ塩化ビニリデン樹脂をコーティ
ングしていない側の面にITO膜を200人の厚さに、
スパッタに゛より形成し、フォトリソログラフイーで所
定の電極形状に加工した。電極上にはポリイミド系樹脂
を500Xの厚みに塗布し、150°Cで1時間焼成し
た。これをガーゼでラビングにより配向処理を行なった
。次に、グラスファイバーを基板上に散布し、エポキシ
接着剤をスクリーン印刷によりシール形状に印刷し、銀
糸導電接着剤で上下導通処理をおこない、0.5wm厚
のガラス板を用い電極、配向膜を形成した他方の基板の
2枚の基板を組み立て、接着剤を加熱硬化した。これに
真空注入法により液晶物質を充填し、注入口をエポキシ
系接着剤で封止して液晶セルを形成した。
この液晶セルの上下に偏光板を添付して液晶表示体を作
成した。
成した。
〔実施例3〕
第3図に示す様に実施例1,2の液晶表示体を、液晶層
側のシール18がシリコン系接着剤、外側のシール28
がエポキシ系接着剤の2層のシールで形成した。
側のシール18がシリコン系接着剤、外側のシール28
がエポキシ系接着剤の2層のシールで形成した。
〔実施例4〕
実施例1,2の液晶表示体を、液晶注入口をエポキシ系
接着剤で封止した。
接着剤で封止した。
〔実施例5〕
実施例1,2の液晶表示体を、液晶注入口をシリコン系
接着剤で封止した上にエポキシ系接着剤で封止した。
接着剤で封止した上にエポキシ系接着剤で封止した。
このようにして構成した液晶セルは、上下に偏光板を配
してツイストネマチック型の表示体や、上に1枚だけ偏
光板を配して1枚偏光板型のツイストネマチック表示体
や、中に染料を入れてゲストホストのホワイトテーラ−
型の表示体や、上に1枚偏光板を配したゲストホスト型
の表示体や、DSM型、EC]3型、スメクチック型の
表示体とすることができる。
してツイストネマチック型の表示体や、上に1枚だけ偏
光板を配して1枚偏光板型のツイストネマチック表示体
や、中に染料を入れてゲストホストのホワイトテーラ−
型の表示体や、上に1枚偏光板を配したゲストホスト型
の表示体や、DSM型、EC]3型、スメクチック型の
表示体とすることができる。
なお、フェノキシ樹脂の基材をフィルムで構成すること
もできる。・フェノキシ樹脂の基材をフィルムで構成す
るとロール状に巻いておいて連続加工することも可能で
ある。
もできる。・フェノキシ樹脂の基材をフィルムで構成す
るとロール状に巻いておいて連続加工することも可能で
ある。
このように構成された本発明の液晶表示体は、液晶層を
挾む一方の基板がガラス板により構成され、他方の基板
がプラスチック基板により構成されているが、プラスチ
ック基板の材料がフェノキシ樹脂のため、飾光性が生ぜ
ず、液晶表示体の基板として使用できる。また、フェノ
キシ樹脂は透uA導電膜との密着性が良く、導電膜が剥
離しにくく信頼性にすぐれる。さらにフェノキシ樹脂の
基板上にポリ塩化ビニリデンの樹脂層が形成されている
ため透湿率が小さく、液晶層内に水分が侵入しに<<、
液晶が水によって加水分解し劣化することがなく、信頼
性にすぐれる。また、ポリ塩化ビニリデン樹脂層により
通気性も低く改善穿れ、液晶層内に気泡を生ずることが
ない。また、液晶層を挾む基板の一方がプラスチック樹
脂を主体として構成されているため、液晶表示体が軽く
、本表示体を使用した表示装置の重さの軽減に役立つ。
挾む一方の基板がガラス板により構成され、他方の基板
がプラスチック基板により構成されているが、プラスチ
ック基板の材料がフェノキシ樹脂のため、飾光性が生ぜ
ず、液晶表示体の基板として使用できる。また、フェノ
キシ樹脂は透uA導電膜との密着性が良く、導電膜が剥
離しにくく信頼性にすぐれる。さらにフェノキシ樹脂の
基板上にポリ塩化ビニリデンの樹脂層が形成されている
ため透湿率が小さく、液晶層内に水分が侵入しに<<、
液晶が水によって加水分解し劣化することがなく、信頼
性にすぐれる。また、ポリ塩化ビニリデン樹脂層により
通気性も低く改善穿れ、液晶層内に気泡を生ずることが
ない。また、液晶層を挾む基板の一方がプラスチック樹
脂を主体として構成されているため、液晶表示体が軽く
、本表示体を使用した表示装置の重さの軽減に役立つ。
また、プラスチック樹脂を基板材料としているため、基
板の厚さを薄くシ、表示体全体、及び本表示体を使用し
た表示装置の厚さを薄くすることも可能である。このよ
うに本表示体はプラスチックを基板材料としているにも
ががゎらず、信頼性が高く、長寿命の表示体を構成でき
る。
板の厚さを薄くシ、表示体全体、及び本表示体を使用し
た表示装置の厚さを薄くすることも可能である。このよ
うに本表示体はプラスチックを基板材料としているにも
ががゎらず、信頼性が高く、長寿命の表示体を構成でき
る。
第1図は本発明の液晶表示体の第1の実施例。
第2図は本発明の液晶表示体の第2の実施例。
第3図は本発明の液晶表示体の第3の実施例の部分断面
図。 1.11・・・・・・上基板 2.21・・・・・・下基板 3・・・・・・・・・・・・・・・液晶層4・・・・・
・・・・・・・・・・透明導電膜5・・・・・・・・・
・・・・・・ポリ塩化ビニリデン樹脂層6・・・・・・
・・・・・・・・・配向層7・・・・・・・・・・・・
・・・スペーサ8.18.28・・・・・・シール 第1図 第2図 第3図
図。 1.11・・・・・・上基板 2.21・・・・・・下基板 3・・・・・・・・・・・・・・・液晶層4・・・・・
・・・・・・・・・・透明導電膜5・・・・・・・・・
・・・・・・ポリ塩化ビニリデン樹脂層6・・・・・・
・・・・・・・・・配向層7・・・・・・・・・・・・
・・・スペーサ8.18.28・・・・・・シール 第1図 第2図 第3図
Claims (1)
- 液晶層を挾んだ一方の基板が7エノキシ樹脂よりなるプ
ラスチック基板により、他方の基板がガラス基板より構
成され、前記フェノキシ樹脂の前記液晶層側の而には透
明電極力(形成され、反対側の而にはポリ塩化ビニIJ
デンの樹脂層が形成されていることを特徴とする液晶表
示体。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7332983A JPS59198427A (ja) | 1983-04-26 | 1983-04-26 | 液晶表示体 |
| US06/875,519 US4709991A (en) | 1983-04-26 | 1986-06-19 | Liquid crystal display with barrier layer to reduce permeability |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7332983A JPS59198427A (ja) | 1983-04-26 | 1983-04-26 | 液晶表示体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59198427A true JPS59198427A (ja) | 1984-11-10 |
Family
ID=13515014
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7332983A Pending JPS59198427A (ja) | 1983-04-26 | 1983-04-26 | 液晶表示体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59198427A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07120741A (ja) * | 1993-10-20 | 1995-05-12 | Nitto Denko Corp | 液晶セル用基板 |
-
1983
- 1983-04-26 JP JP7332983A patent/JPS59198427A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07120741A (ja) * | 1993-10-20 | 1995-05-12 | Nitto Denko Corp | 液晶セル用基板 |
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