JPS59200428A - 電子ビ−ムテスタ - Google Patents

電子ビ−ムテスタ

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Publication number
JPS59200428A
JPS59200428A JP58073806A JP7380683A JPS59200428A JP S59200428 A JPS59200428 A JP S59200428A JP 58073806 A JP58073806 A JP 58073806A JP 7380683 A JP7380683 A JP 7380683A JP S59200428 A JPS59200428 A JP S59200428A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
signal generator
signals
frequency
point
electron beam
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP58073806A
Other languages
English (en)
Inventor
Toru Tojo
東条 徹
Kiyomi Koyama
清美 小山
Kazuyoshi Sugihara
和佳 杉原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP58073806A priority Critical patent/JPS59200428A/ja
Publication of JPS59200428A publication Critical patent/JPS59200428A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10PGENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10P74/00Testing or measuring during manufacture or treatment of wafers, substrates or devices

Landscapes

  • Tests Of Electronic Circuits (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の属する技術分、野〕 本発明は、半導体集積回路等に信号を入力した際の該集
積回路上の任意の点の電位波形を測定・表示するだめの
電子ビームテスタに関する。
〔従来技術とその問題点〕
半導体集積回路の故障診断と不良解析には、これまで細
い探針全想定個所に立てそれにオシロスコープを接続し
て波形を観測する方法が用いられている。しかしこの方
法では集積度が高まり動作速度が速くなると、技術的困
難さが増大する。
これは探針の大きさ以下に空間分解能を高めることがで
きず、その設定が困難なためである。ざらに探針の持つ
静電容量やインダクタンス等のために時間レスポンスが
制約されることになる。
このような問題を解決するものとして、最近電子ビーム
を用いたICテスタ(以下]EiBテスタと略記する)
が注目されている。このg Bテスタは電子ビームの持
つ空間分解能に加えて新たに時間分解能が追加されたも
ので、サブミクロンの空間分解能と、ピコ秒の時間分解
能を同時に得ることができる。その結果、配線の切断箇
所の確認のほかに、動作状態の観察により故障診断、お
よび不良解析を行なうことができる。このような装置に
おいては、第1図に示すように、測定する場所に電子ビ
ームを照射すると同時にICの駆動周波器に同期した周
波数で電子ビーム照射ヲON/シ駆動周波数との位相を
変えることによって一周期内の動作状態ヲ見ることがで
きる。次に測定ケ所を変えて同様の測定を行なう。これ
らの測定方法の一参考例としては特開昭54−1345
71.  「電子部品内の電位分布の電子的描写方法お
よび装置」などに詳しく述べられている。
しかしながら、このような装置において、複数の測定ケ
所の動作状態を同時に観察することができなく、そのた
めには測定点の動作信号全メモリ。
あるいはブラウン管上に記憶し、その後読み出して比較
し観察する方法しかなかった。
〔発明の目的〕     ′ したがって本発明は、駆動状態にあるICの電位分布を
測定するにあたって、複数の測定ケ所をリアルタイムで
同時に測定することができる電子ビームテスタを提供す
ることにある。
〔発明の概要〕
本発明の骨子は、電子ビーム全試料測定点上にストロボ
的に照射するとともに、ある時間内隅で複数の試料測定
点を照射するようにしたものである。すなわちICの駆
動周波数、あるいはそれの整数倍の周期で電子ビームを
ストロボ的に試料面上に照射すると同時に、試料面上に
照射する測定座標を任意の周波数で変えることによす、
リアルタイムで同時に複数個の測定点における動作状態
を観察できるようにしたものである。
〔発明の効果〕
本発明によれば、ICの駆動状態で任意の位置における
信号のレベル、歪、入力信号に対する時間遅延などの評
価が複数個同時にリアルタイムで測定することができる
。また、これらの相関関係も同時に調べることができる
などICの評価、不良解析には効果大である。
〔発明の実施例〕
第2図は本発明の一実施例に係わるgBテスタの概略構
成図を示すものである。1次電子1を発する電子銃2と
、断続装置3と電子線偏向装置4とを含んでいる。1次
電子1は試料5上の測定点Mにおける電位に関係する個
数の二次電子6t−放出させ、二次電子検出器7にてそ
の量を検出する。
試料5はその供給電圧ならびにタイミング信号などを制
御論理回路8から受ける。この制御論理回路は同時にパ
ルス整形器としての役割をする繰返し信号発生器9を介
してパルス発生器1oとともに断続装置3に対する制御
装置を形成する遅延信号発生器11ヲ制御する。遅延信
号発生器11のパルスの遅延は例えば、計算機(図示せ
ず)よりらるいはブラウン管上に記録する場合は、ブラ
ウン管の走査電圧(のこぎり状の電圧)などの同期化装
置14により定められる。−次電子線は繰返し信号発生
器12ヲ用い゛C適当な周波数で座標点Mから、あらか
じめ指定された座標S点に移動する。またこの繰返し信
号発生器12からの信号は二次電子検出器からの信号(
i−、M点の信号とS点の信号とに別けるための変換器
13に送られデータの分離を行なう。
第3図に同期化装置14ののこぎり波電圧Vnが時間t
に関係して記入されている。この電圧Vnの大きさに従
って、上記遅延信号発生器11の出力パルスの位相に従
って1次電子線のパルスPの位相位置は第2図(a)に
示されるように変化していく。制御論理回路から適当な
周波数で駆動している試料の測定点Mの信号t (b)
 S点の信号k (c)に示す。実際にパルス状の電子
ビームが測定ゲ所に照射され二次電子検出器にて測定さ
れるタイミングは図に示したような位相遅れから黒丸で
示したようなものとなる。
測定点Mと8との選択は信号発生器12によって(r)
に示すような信号を、走査信号発生器15に送り正確な
座標にビームを位置ずけする。
このようにすることによってM点とS点の信号を、他の
メモリーに入れて記憶しその後データ解析を行なうとい
うような手順が除かれ同時に、例えばブラウン管上に表
示でき、個々の点でのそれぞれの相関関係、遅延時間の
測定、波形の歪の程度、などを同時に比べることができ
る。特に多数点の測定全行なうときは測定時間が早いな
どの利点もある。また位置座標を含んだ各点での電位分
布を簡単に手早く求めることができる。
リアルタイムで複数点を測定できることは各種の測定・
解析に十分な威力を発揮する。
〔発明の他の実施例〕
なお本発明は上述した実施例に限定されるものではない
。要は、従来性なっていたストロボ8EMの測定方法に
加えてさらに複数点での測定が可能なように時間割し、
適当なタイミングで電子ビームを目標とする座標に走査
することによって、リアルタイムで複数点の信号を測定
解析できるようにしたもので、この要旨を逸脱しない範
囲で種々変形して実施することができる。
すなわち、各器機の信号発生器、相互のタイミング、周
波数、途中に分周益金おくなど、各種考えられる。また
位相遅延の方法なども各種考えられる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例の装置構成を示す概略図、 第2図は本発明の信号の処理方法を説明する波形図であ
る。 1・・・1次電子、2・・・電子銃、3・・・断続装置
。 4・・・電子線偏向装置、5・・・試料、6・・・二次
電子。 7・・・二次電子検出器、8・・・制御論理回路。 9・・・信号発生器、10・・・パルス発生器。 11・・・遅延信号発生器、 12・・・信号発生器。 13′・・・変換器、14・・・同期化装置。 15・・・走査信号発生器、16・・・分周器。 (7317)弁理士 則 近 憲 佑 (ほか1名)−

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 一次電子線が断続され、かつ偏向により電子部品上の走
    査線内で動かされる走査電子顕微鏡を用いて電位を無接
    触測定し、かつスクリーン上に電位コントラストとして
    表示することにより電子部品内の電位分布を電子的に測
    定する方法において、前記−次′醒子線の照射パルスが
    前記電子部品の駆動にたいして時間遅延により位相がず
    らされ、該電子部品の駆動周波数と時間遅延の周波−数
    とが任意の倍数で選定され、かつ前記−次電子線が照射
    パルスの周波数の任意の分周率で複数のあらかじめ指定
    された座標へ照射するようにしたことを特徴とする電子
    ビームテスタ。
JP58073806A 1983-04-28 1983-04-28 電子ビ−ムテスタ Pending JPS59200428A (ja)

Priority Applications (1)

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JP58073806A JPS59200428A (ja) 1983-04-28 1983-04-28 電子ビ−ムテスタ

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58073806A JPS59200428A (ja) 1983-04-28 1983-04-28 電子ビ−ムテスタ

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS59200428A true JPS59200428A (ja) 1984-11-13

Family

ID=13528774

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP58073806A Pending JPS59200428A (ja) 1983-04-28 1983-04-28 電子ビ−ムテスタ

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