JPH0644473B2 - 試料電位コントラスト像観察装置 - Google Patents
試料電位コントラスト像観察装置Info
- Publication number
- JPH0644473B2 JPH0644473B2 JP61065707A JP6570786A JPH0644473B2 JP H0644473 B2 JPH0644473 B2 JP H0644473B2 JP 61065707 A JP61065707 A JP 61065707A JP 6570786 A JP6570786 A JP 6570786A JP H0644473 B2 JPH0644473 B2 JP H0644473B2
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- JP
- Japan
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- sample
- potential
- pattern
- contrast image
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、走査形電子顕微鏡などの荷電ビームを用い
て、試料上の電位の二次元分布像の観察を行う。ストロ
ボ方式の電位コントラスト像装置に関する。
て、試料上の電位の二次元分布像の観察を行う。ストロ
ボ方式の電位コントラスト像装置に関する。
第２図は、電子ビームをパルス化し、電圧波形の測定
と、電圧波形の特定の位相点における二次元の電位分布
像の観察を行うストロボ走査形電子顕微鏡の基本構成図
である。電子銃１から射出された電子ビーム２を電子レ
ンズ６を用いて試料１０上に集束し、かつ走査コイル８
を用いて試料１０を電子ビーム２で二次元走査する。電
子ビーム２の照射により試料１０から放出される二次電
子を検出器９で検出し、デスプレイ装置７上に試料像を
表示するのが、走査形電子顕微鏡の原理である。ところ
が、この方法で高速に変化する試料を観察すると、走査
コイル８による電子ビームの走査速度が試料の変化速度
に追従できず、全変化が重複して表示されてしまう。そ
こで試料変化を与えている駆動電源１１と同期したパル
スゲート（偏向板３とアパーチヤ４との組合せ）を付加
する。このような構成にすると、試料上を走査する電子
ビームを、試料変化のある一定の位相のときにのみ照射
するように制御でき、その照射の瞬間の試料状態のみを
検出できる。第３図でこれを説明する。同図（Ａ）のＩ
Ｃ（集積回路）の入力に第３図（Ｂ）に示す周期Ｔの入
力電圧波形をくり返し与えたとき、集積回路中のパター
ンＡ，Ｂの電圧が第３図（Ｂ）に示すように変化するも
のとする。前述のパルスゲートを、入力電圧の開始点か
ら時間ｔ1だけ遅れて瞬間的に開くようにしてこれをく
り返せば、同図ａ点の位相での情報のみを検出すること
ができる。電子ビームの照射により試料から放出される
二次電子の有するエネルギー分布は、試料の電位によつ
て変化するので、第２図の検出器９と試料１０の間に、
エネルギーアナライザ１３をおくことにより、検出され
る二次電子の量と、試料電位を対応づけることができる
（特公昭47−51024号参照）。このストロボ走査電子顕
微鏡の主な使い方のひとつは、第３図（Ｂ）において、
時間ｔ1を固定しておいて、電子ビームを試料上で二次
元走査して試料像を観察する方法で、像のコントラスト
は像中の各部分の電圧に依存するので、第３図（Ｂ）の
ａ点の位相における電位分布像となる。この例では、パ
ターンＡの電位は−５Ｖ、パターンＢの電位は＋５Ｖな
ので、得られる画像は同図（Ｃ）のようにパターンＡが
明るく、パターンＢが暗く観察される。また、入力電圧
の開始点からパルスゲートまでの遅延時間を同図（Ｂ）
のｔ2とすれば、このときの電位分布像は同図のｂ点の
位相に対応するので、同図（ｃ）とは逆にパターンＢが
明るく観察される。この方法は一般にストロボ像モード
と呼ばれ、試料電位の測定精度は低いが、広い領域にわ
たる回路パターンの概略電位を知ることができるので、
回路断線などの不良の解析に特に有効である。他の方法
は、電子ビームは例えば第３図（Ａ）のパターンＡ上の
一点に固定しておいて、同図（Ｂ）の時間ｔ1を０から
Ｔまで変化させるもので、パターンＡの電位波形を測定
することができる。（日経エレクトロニクス，1982年３
月１５日号，ｐｐ１７２〜２０１参照）この方法は一般
に波形測定モードと呼ばれる。
と、電圧波形の特定の位相点における二次元の電位分布
像の観察を行うストロボ走査形電子顕微鏡の基本構成図
である。電子銃１から射出された電子ビーム２を電子レ
ンズ６を用いて試料１０上に集束し、かつ走査コイル８
を用いて試料１０を電子ビーム２で二次元走査する。電
子ビーム２の照射により試料１０から放出される二次電
子を検出器９で検出し、デスプレイ装置７上に試料像を
表示するのが、走査形電子顕微鏡の原理である。ところ
が、この方法で高速に変化する試料を観察すると、走査
コイル８による電子ビームの走査速度が試料の変化速度
に追従できず、全変化が重複して表示されてしまう。そ
こで試料変化を与えている駆動電源１１と同期したパル
スゲート（偏向板３とアパーチヤ４との組合せ）を付加
する。このような構成にすると、試料上を走査する電子
ビームを、試料変化のある一定の位相のときにのみ照射
するように制御でき、その照射の瞬間の試料状態のみを
検出できる。第３図でこれを説明する。同図（Ａ）のＩ
Ｃ（集積回路）の入力に第３図（Ｂ）に示す周期Ｔの入
力電圧波形をくり返し与えたとき、集積回路中のパター
ンＡ，Ｂの電圧が第３図（Ｂ）に示すように変化するも
のとする。前述のパルスゲートを、入力電圧の開始点か
ら時間ｔ1だけ遅れて瞬間的に開くようにしてこれをく
り返せば、同図ａ点の位相での情報のみを検出すること
ができる。電子ビームの照射により試料から放出される
二次電子の有するエネルギー分布は、試料の電位によつ
て変化するので、第２図の検出器９と試料１０の間に、
エネルギーアナライザ１３をおくことにより、検出され
る二次電子の量と、試料電位を対応づけることができる
（特公昭47−51024号参照）。このストロボ走査電子顕
微鏡の主な使い方のひとつは、第３図（Ｂ）において、
時間ｔ1を固定しておいて、電子ビームを試料上で二次
元走査して試料像を観察する方法で、像のコントラスト
は像中の各部分の電圧に依存するので、第３図（Ｂ）の
ａ点の位相における電位分布像となる。この例では、パ
ターンＡの電位は−５Ｖ、パターンＢの電位は＋５Ｖな
ので、得られる画像は同図（Ｃ）のようにパターンＡが
明るく、パターンＢが暗く観察される。また、入力電圧
の開始点からパルスゲートまでの遅延時間を同図（Ｂ）
のｔ2とすれば、このときの電位分布像は同図のｂ点の
位相に対応するので、同図（ｃ）とは逆にパターンＢが
明るく観察される。この方法は一般にストロボ像モード
と呼ばれ、試料電位の測定精度は低いが、広い領域にわ
たる回路パターンの概略電位を知ることができるので、
回路断線などの不良の解析に特に有効である。他の方法
は、電子ビームは例えば第３図（Ａ）のパターンＡ上の
一点に固定しておいて、同図（Ｂ）の時間ｔ1を０から
Ｔまで変化させるもので、パターンＡの電位波形を測定
することができる。（日経エレクトロニクス，1982年３
月１５日号，ｐｐ１７２〜２０１参照）この方法は一般
に波形測定モードと呼ばれる。
ところで、このストロボ走査電子顕微鏡の測定対象は主
にＩＣ（半導体集積回路）であるが、ＩＣは多くの場
合、汚れや湿気を防ぐために、パツシベーシヨンと呼ば
れる絶縁膜が被覆されている。この場合、パツシベーシ
ヨン膜は電子ビームとＩＣ内の金属電極との間に介在す
るので、等価的にコンデンサとして作用する。このコン
デンサの介在により、前述の波形測定モードでは、測定
結果が、等価静電容量と、入射電子ビームと放出される
二次電子との差の電流（リーク電流）とで決まる時定数
をもつ微分波形となることが知られており〔スキヤンニ
ング エレクトロン マイクロスコピ，1983，Ｖｏｌ．
２ ５６１頁から５６８頁（Scanning Electron Micros
copy，1983，Ｖｏｌ．２，ｐｐ５６１〜５６８）参
照〕、またストロボ像モードでは、時間と共に電位コン
トラストが消滅していくことが知られている。この現像
は、次のように説明される。第４図は、第３図（Ａ）の
２本のパターンの実際の電圧波形Ａ，Ｂと、パツシベー
シヨン膜を介して検出される電圧波形Ａ′，Ｂ′とを示
すものである。この例では、同図中のａ点のタイミング
で電子ビームを照射しており、電子ビームの照射により
リーク電流が生じて振巾が減少し、電子ビーム照射時点
でのＡ′とＢ′の電位差は次第に減少して、パターンＡ
とＢのコントラスト差が無くなつてしまう。この問題に
対処し得る方法のひとつとして、電子ビームの走査と同
期して、入力電圧波形に対する、電子ビーム照射点の位
相を、第１と第２の２つの値に交互に切換え、第１の位
相で電子ビームを照射しているときのみ像を表示できる
ようにし、かつ、第２の位相としては、第１の位相に対
して、試料内の観察しようとする部分の電位が反転して
いる位相を選ぶ方法が報告されている。〔日本学術振興
会第１３２委員会第８２回研究会資料，５７．１０．２
５．１４頁から１９頁〕これは、電圧の急峻な変化は、
静電容量を介して減衰しないで電子ビーム側に伝達され
るためである。第４図Ａ″，Ｂ″の波形はこれを示すも
ので、電子ビームはａ点とｂ点とに交互に位相をかえて
照射されるために、全体として電位コントラストは減衰
しないで保存される。
にＩＣ（半導体集積回路）であるが、ＩＣは多くの場
合、汚れや湿気を防ぐために、パツシベーシヨンと呼ば
れる絶縁膜が被覆されている。この場合、パツシベーシ
ヨン膜は電子ビームとＩＣ内の金属電極との間に介在す
るので、等価的にコンデンサとして作用する。このコン
デンサの介在により、前述の波形測定モードでは、測定
結果が、等価静電容量と、入射電子ビームと放出される
二次電子との差の電流（リーク電流）とで決まる時定数
をもつ微分波形となることが知られており〔スキヤンニ
ング エレクトロン マイクロスコピ，1983，Ｖｏｌ．
２ ５６１頁から５６８頁（Scanning Electron Micros
copy，1983，Ｖｏｌ．２，ｐｐ５６１〜５６８）参
照〕、またストロボ像モードでは、時間と共に電位コン
トラストが消滅していくことが知られている。この現像
は、次のように説明される。第４図は、第３図（Ａ）の
２本のパターンの実際の電圧波形Ａ，Ｂと、パツシベー
シヨン膜を介して検出される電圧波形Ａ′，Ｂ′とを示
すものである。この例では、同図中のａ点のタイミング
で電子ビームを照射しており、電子ビームの照射により
リーク電流が生じて振巾が減少し、電子ビーム照射時点
でのＡ′とＢ′の電位差は次第に減少して、パターンＡ
とＢのコントラスト差が無くなつてしまう。この問題に
対処し得る方法のひとつとして、電子ビームの走査と同
期して、入力電圧波形に対する、電子ビーム照射点の位
相を、第１と第２の２つの値に交互に切換え、第１の位
相で電子ビームを照射しているときのみ像を表示できる
ようにし、かつ、第２の位相としては、第１の位相に対
して、試料内の観察しようとする部分の電位が反転して
いる位相を選ぶ方法が報告されている。〔日本学術振興
会第１３２委員会第８２回研究会資料，５７．１０．２
５．１４頁から１９頁〕これは、電圧の急峻な変化は、
静電容量を介して減衰しないで電子ビーム側に伝達され
るためである。第４図Ａ″，Ｂ″の波形はこれを示すも
ので、電子ビームはａ点とｂ点とに交互に位相をかえて
照射されるために、全体として電位コントラストは減衰
しないで保存される。
しかし、かかる手法によれば、観察しようとする位相点
を変えるごとに、これと電位が反転している位相点をそ
の都合さがして設定しなければならず、大規模なＩＣ
で、十数本の入力電圧パターンを与えて駆動するような
場合にはいつそう難しくなる。
を変えるごとに、これと電位が反転している位相点をそ
の都合さがして設定しなければならず、大規模なＩＣ
で、十数本の入力電圧パターンを与えて駆動するような
場合にはいつそう難しくなる。
本発明の目的は前述の問題を解決し、コントラストの消
滅なしに、ストロボ像観察を継続して行うことのできる
ストロボ方式の電位コントラスト像装置を提供すること
にある。
滅なしに、ストロボ像観察を継続して行うことのできる
ストロボ方式の電位コントラスト像装置を提供すること
にある。
前述したように、試料内で電位の反転している時に交互
に電子ビームを照射することによりコントラスト消滅を
防ぐことができるので、これを、電子ビームの照射位相
を変えるのでなく、ひとつの位相において、試料内電位
が反転するように、入力電圧波形を交互に組み変えるこ
とで、さらに容易かつ、適用範囲を広げて実現すること
ができる。
に電子ビームを照射することによりコントラスト消滅を
防ぐことができるので、これを、電子ビームの照射位相
を変えるのでなく、ひとつの位相において、試料内電位
が反転するように、入力電圧波形を交互に組み変えるこ
とで、さらに容易かつ、適用範囲を広げて実現すること
ができる。
そこで、試料を駆動する入力電圧パターンを、２通り用
意し、電子ビームの走査と同期してこの２つのパターン
を交互に切換え、かつ２つの入力電圧パターンの一方に
対応する画像のみを選択的に表示できるようにする。
意し、電子ビームの走査と同期してこの２つのパターン
を交互に切換え、かつ２つの入力電圧パターンの一方に
対応する画像のみを選択的に表示できるようにする。
第５図は本発明の一実施例である。試料１０はＩＣで、
駆動電源１１で駆動される。駆動電源１１から駆動パル
スパターンの１周期毎に発生するトリガ出力信号は、制
御計算機１８で制御される位相調整器５で遅延（位相設
定）を受け、電子ビームをパルス化するパルス発振器１
２に入力される。電子ビームはまた、走査電源１４で駆
動される走査コイル８により二次元的に走査される。試
料から発生した二次元電子は、エネルギーアナライザ１
３を通して検出器９で検出され、増巾器１７を介して画
像メモリ１５に記憶され、該画像メモリの内容は読み出
されてＤ／Ａ変換器を介してＣＲＴ１６上に表示され
る。制御計算器１８は走査電源１４から、垂直同期信号
を受けとつて、駆動電源１１の出力駆動パルスパターン
を、第２のパターンに組みかえ、さらに次の垂直同期信
号で元のパターンに戻す。これをくり返せば、１フレー
ム走査ごとに、試料１０は、異なる駆動パルスパターン
で駆動され、得られる像信号は、異なる駆動パルスパタ
ーンの、同一位相（遅延時間）での電位コントラスト像
となる。このままでは異なる２つの像が交互に表示され
てしまうので、制御計算器１８は駆動パルスパターンの
組みかえと同時に画像メモリ１５を、１フレームごとに
交互に書き込み禁止の状態にし、電位コントラスト回復
を目的とする前記第２のパターンのときには、電子ビー
ムは照射されるけれども表示画像は前記の元のパターン
のときの像が保たれるように制御する。２つの駆動パル
スパターンは、次のように決める。第１のパターンは、
本来試料とするＩＣを駆動するパターンとし、第２のパ
ターンは、できるだけ広い位相範囲において、試料内電
位が、第１のパターンで駆動したときと反転するように
決める。試料とするＩＣ内部の各ノードの、入力パルス
パターンに対応した電位変化はそのＩＣの設計シミユレ
ーシヨンで予測されているので、この作業は可能であ
る。駆動電源１１としては、数チヤンネル〜数十チヤン
ネルの出力数に、数百から数千ステツプのパターンを発
生する装置が市販されており、これを用いることができ
る。この種の装置は、コンピユータプログラムで自由に
パターンを組むことができるようになつており、これを
前記の制御計算器１８で制御する。また、１フレーム走
査ごとにパターンを組みかえるかわりに、あらかじめ第
１と第２の駆動パターンを続けて組み込んでおき、トリ
ガ出力信号の発生点を交互に第１のパターンの開始点
と、第２のパターンの開始点とに設定するようにすれ
ば、一層容易に制御することができる。
駆動電源１１で駆動される。駆動電源１１から駆動パル
スパターンの１周期毎に発生するトリガ出力信号は、制
御計算機１８で制御される位相調整器５で遅延（位相設
定）を受け、電子ビームをパルス化するパルス発振器１
２に入力される。電子ビームはまた、走査電源１４で駆
動される走査コイル８により二次元的に走査される。試
料から発生した二次元電子は、エネルギーアナライザ１
３を通して検出器９で検出され、増巾器１７を介して画
像メモリ１５に記憶され、該画像メモリの内容は読み出
されてＤ／Ａ変換器を介してＣＲＴ１６上に表示され
る。制御計算器１８は走査電源１４から、垂直同期信号
を受けとつて、駆動電源１１の出力駆動パルスパターン
を、第２のパターンに組みかえ、さらに次の垂直同期信
号で元のパターンに戻す。これをくり返せば、１フレー
ム走査ごとに、試料１０は、異なる駆動パルスパターン
で駆動され、得られる像信号は、異なる駆動パルスパタ
ーンの、同一位相（遅延時間）での電位コントラスト像
となる。このままでは異なる２つの像が交互に表示され
てしまうので、制御計算器１８は駆動パルスパターンの
組みかえと同時に画像メモリ１５を、１フレームごとに
交互に書き込み禁止の状態にし、電位コントラスト回復
を目的とする前記第２のパターンのときには、電子ビー
ムは照射されるけれども表示画像は前記の元のパターン
のときの像が保たれるように制御する。２つの駆動パル
スパターンは、次のように決める。第１のパターンは、
本来試料とするＩＣを駆動するパターンとし、第２のパ
ターンは、できるだけ広い位相範囲において、試料内電
位が、第１のパターンで駆動したときと反転するように
決める。試料とするＩＣ内部の各ノードの、入力パルス
パターンに対応した電位変化はそのＩＣの設計シミユレ
ーシヨンで予測されているので、この作業は可能であ
る。駆動電源１１としては、数チヤンネル〜数十チヤン
ネルの出力数に、数百から数千ステツプのパターンを発
生する装置が市販されており、これを用いることができ
る。この種の装置は、コンピユータプログラムで自由に
パターンを組むことができるようになつており、これを
前記の制御計算器１８で制御する。また、１フレーム走
査ごとにパターンを組みかえるかわりに、あらかじめ第
１と第２の駆動パターンを続けて組み込んでおき、トリ
ガ出力信号の発生点を交互に第１のパターンの開始点
と、第２のパターンの開始点とに設定するようにすれ
ば、一層容易に制御することができる。
第１図にその一例を示す。これは、同図（Ｃ）に示すよ
うに簡単なＤタイプフリツプフロツプＩＣを駆動してい
る例で、同図（Ａ），（Ｂ）とも最上段の波形が、駆動
電源の内部クロツクで、その出力を１クロツクごとにプ
ログラムできる。クロツク入力とデータ入力波形が、駆
動電源の出力で、フリツプフロツプＩＣは、クロツク入
力の立上がりエツヂで、データ入力に従つて２つのコン
プリメンタリー出力Ｑ，出力が変化する。同図（Ａ）
の駆動パルスパターンを第１の、同図（Ｂ）のこれを第
２のパターンとして、交互に駆動させた場合、ＩＣ内部
では、データ入力線と、Ｑ，出力線はすべての位相に
おいて、又クロツク入力線は内部クロツク４，５，１
２，１３を除いて、互いに電位が反転するので、前述の
コントラスト消滅防止効果をあげることができる。
うに簡単なＤタイプフリツプフロツプＩＣを駆動してい
る例で、同図（Ａ），（Ｂ）とも最上段の波形が、駆動
電源の内部クロツクで、その出力を１クロツクごとにプ
ログラムできる。クロツク入力とデータ入力波形が、駆
動電源の出力で、フリツプフロツプＩＣは、クロツク入
力の立上がりエツヂで、データ入力に従つて２つのコン
プリメンタリー出力Ｑ，出力が変化する。同図（Ａ）
の駆動パルスパターンを第１の、同図（Ｂ）のこれを第
２のパターンとして、交互に駆動させた場合、ＩＣ内部
では、データ入力線と、Ｑ，出力線はすべての位相に
おいて、又クロツク入力線は内部クロツク４，５，１
２，１３を除いて、互いに電位が反転するので、前述の
コントラスト消滅防止効果をあげることができる。
以上述べたように、本発明の実施例によれば、パツシヨ
ベーシヨン膜を被つたＩＣの電位コントラスト像観察で
問題になつていたコントラスト消失の問題を解決でき
る。この種の装置を用いてＩＣの動作解析あるいは不良
解析を行うにあたつて、パツシベーシヨン膜を除去しな
ければならないということは、単に手間がかかるだけで
なく、ＩＣそのものを破損してしまう危険がつきまとう
ために、非常に大きな制約になつている。本発明の実施
例はこれを解決することで、ＩＣの解析に大きく役立つ
ものである。
ベーシヨン膜を被つたＩＣの電位コントラスト像観察で
問題になつていたコントラスト消失の問題を解決でき
る。この種の装置を用いてＩＣの動作解析あるいは不良
解析を行うにあたつて、パツシベーシヨン膜を除去しな
ければならないということは、単に手間がかかるだけで
なく、ＩＣそのものを破損してしまう危険がつきまとう
ために、非常に大きな制約になつている。本発明の実施
例はこれを解決することで、ＩＣの解析に大きく役立つ
ものである。
尚、本発明の実施例では、１フレーム走査ごとに切換え
を行つているが、水平走査線の１本ごとにこれを行つて
もよい。また、画像メモリを用いないで、直接第５図の
増巾器１７の出力をＣＲＴ１６の輝度変調信号として用
い、第２のパターンで駆動しているフレームは、ＣＲＴ
１６をブランキングするようにしても、同様に目的を達
することができる。
を行つているが、水平走査線の１本ごとにこれを行つて
もよい。また、画像メモリを用いないで、直接第５図の
増巾器１７の出力をＣＲＴ１６の輝度変調信号として用
い、第２のパターンで駆動しているフレームは、ＣＲＴ
１６をブランキングするようにしても、同様に目的を達
することができる。
本発明によれば、前述した従来の問題を解決し、コント
ラストの消滅なしに、ストロボ像観察を継続して行うこ
とができる。
ラストの消滅なしに、ストロボ像観察を継続して行うこ
とができる。
第１図は本発明の一実施例の、パルスパターンの例、第
２図はストロボ走査形電子顕微鏡の基本構成図、第３図
配ストロボ方式の電位コントラスト像を説明する図、第
４図は従来例の原理を示す図、第５図は本発明の一実施
例を示す構成図である。 １…電子銃、２…電子ビーム、３…偏向板、４…アパー
チヤ、５…位相調整器、６…電子レンズ、７…デイスプ
レイ装置、８…走査コイル、９…検出器、１０…試料、
１１…駆動電源、１２…パルス発振器、１３…エネルギ
ーアナライザ、１４…走査電源、１５…画像メモリ、１
６…ＣＲＴ、１７…増巾器、１８…制御計算器。
２図はストロボ走査形電子顕微鏡の基本構成図、第３図
配ストロボ方式の電位コントラスト像を説明する図、第
４図は従来例の原理を示す図、第５図は本発明の一実施
例を示す構成図である。 １…電子銃、２…電子ビーム、３…偏向板、４…アパー
チヤ、５…位相調整器、６…電子レンズ、７…デイスプ
レイ装置、８…走査コイル、９…検出器、１０…試料、
１１…駆動電源、１２…パルス発振器、１３…エネルギ
ーアナライザ、１４…走査電源、１５…画像メモリ、１
６…ＣＲＴ、１７…増巾器、１８…制御計算器。
Claims (1)
- 【請求項１】試料を所定の周期を有するパルス状電圧パ
ターンで駆動し、該パルス状電圧パターンと任意の位相
差を有する荷電ビームにより前記試料表面上を二次元走
査して前記試料表面の電位コントラスト像を得る試料電
位コントラスト像観察装置において、前記パルス状電圧
パターンを前記荷電ビームの走査と同期して、２つの異
なるパルス状電圧パターンの間で交互に切換え、該２つ
のパルス状電圧パターンの第一の電圧パターンでの前記
荷電ビーム照射時の前記試料表面電位と、第二の電圧パ
ターンでの前記荷電ビーム照射時の前記試料表面電位と
が相互に反転するようにし、前記２つのパルス状電圧パ
ターンの一方で試料が駆動されている時の前記試料表面
の電位コントラスト像のみを選択して表示することを特
徴とする試料電位コントラスト像観察装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61065707A JPH0644473B2 (ja) | 1986-03-26 | 1986-03-26 | 試料電位コントラスト像観察装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61065707A JPH0644473B2 (ja) | 1986-03-26 | 1986-03-26 | 試料電位コントラスト像観察装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62223960A JPS62223960A (ja) | 1987-10-01 |
| JPH0644473B2 true JPH0644473B2 (ja) | 1994-06-08 |
Family
ID=13294760
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61065707A Expired - Lifetime JPH0644473B2 (ja) | 1986-03-26 | 1986-03-26 | 試料電位コントラスト像観察装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0644473B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6736498B2 (ja) * | 2017-02-23 | 2020-08-05 | 株式会社日立ハイテク | 計測装置及び観測条件の設定方法 |
-
1986
- 1986-03-26 JP JP61065707A patent/JPH0644473B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62223960A (ja) | 1987-10-01 |
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