JPS59200908A - ウエハの照明方法およびその装置 - Google Patents
ウエハの照明方法およびその装置Info
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- JPS59200908A JPS59200908A JP7372783A JP7372783A JPS59200908A JP S59200908 A JPS59200908 A JP S59200908A JP 7372783 A JP7372783 A JP 7372783A JP 7372783 A JP7372783 A JP 7372783A JP S59200908 A JPS59200908 A JP S59200908A
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- G06T7/0004—Industrial image inspection
- G06T7/001—Industrial image inspection using an image reference approach
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- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
- G01N21/956—Inspecting patterns on the surface of objects
- G01N21/95607—Inspecting patterns on the surface of objects using a comparative method
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- G06T2207/10—Image acquisition modality
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- G06T2207/00—Indexing scheme for image analysis or image enhancement
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- G06T2207/30148—Semiconductor; IC; Wafer
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、例えば多層ＬＳＩウェハの表面に形成された
アルミ配線パターンなどのように、ウェハ表面に形成さ
れた特定の配線パターンを観察するための照明方法、及
び照明装置に係り、特に、特定の配線パターンの反射像
を他の構成部分の反射像と明瞭に識別し易いように改良
した照明方法、及び照明装置に関するものである。
アルミ配線パターンなどのように、ウェハ表面に形成さ
れた特定の配線パターンを観察するための照明方法、及
び照明装置に係り、特に、特定の配線パターンの反射像
を他の構成部分の反射像と明瞭に識別し易いように改良
した照明方法、及び照明装置に関するものである。
例えばアルミ配線パターンのショート、断線。
凹凸などの欠陥を検出するためには、アルミパターンを
他のパターンと区別して検出しなければならない。この
ため、従来一般に、第１図（Ａ）に示すような落射照明
、若しくは同図［Ｆ］〕に示すような暗視野照明が用い
られている。
他のパターンと区別して検出しなければならない。この
ため、従来一般に、第１図（Ａ）に示すような落射照明
、若しくは同図［Ｆ］〕に示すような暗視野照明が用い
られている。
観察対象物であるパターンを形成したウェハ１に対物レ
ンズ２が対向せしめられる。落射照明（第１図）におい
ては、半透鏡３で反射させた照明光４を対物レンズ２を
介してウェハ１の表面にほぼ垂直に投射し、その反射光
を対物レンズ２によシ検出器５の受光面に結像させる。
ンズ２が対向せしめられる。落射照明（第１図）におい
ては、半透鏡３で反射させた照明光４を対物レンズ２を
介してウェハ１の表面にほぼ垂直に投射し、その反射光
を対物レンズ２によシ検出器５の受光面に結像させる。
また、暗視野照明（第２図）においては、ウェハ１の表
面に照明光４′を斜に投射し、その反射光を対物レンズ
２によシ検出器５の受光面に結像させる。
面に照明光４′を斜に投射し、その反射光を対物レンズ
２によシ検出器５の受光面に結像させる。
観察の対象物であるウェハパターンは、第２図に示すよ
うな断面形状をなしている。８は検出１酷のアルミ部、
６はその段差部、７は同平坦部である。このような形状
のアルミパターンに、矢印４のごとく落射照明光を投射
すると平坦部７が明るく、段差部６が暗く見える。また
、矢印４′のごとく暗視野照明光を投射すると段差部６
が明るく、平坦部７が暗く見える。
うな断面形状をなしている。８は検出１酷のアルミ部、
６はその段差部、７は同平坦部である。このような形状
のアルミパターンに、矢印４のごとく落射照明光を投射
すると平坦部７が明るく、段差部６が暗く見える。また
、矢印４′のごとく暗視野照明光を投射すると段差部６
が明るく、平坦部７が暗く見える。
第３図は、このアルミパターンを図の左右方向に走査し
たときの検出信号の説明図である。
たときの検出信号の説明図である。
第３図（Ｃ）は第２図と同様のアルミパターンを対比の
ために示したもので、同図（至）は落射照明を用いたと
きの検出信号を上記の（Ｃ）に対応せしめて描いた図表
、同図（Ｂ）は同様に暗視野照明を用いたときの検出信
号を描いた図表である。
ために示したもので、同図（至）は落射照明を用いたと
きの検出信号を上記の（Ｃ）に対応せしめて描いた図表
、同図（Ｂ）は同様に暗視野照明を用いたときの検出信
号を描いた図表である。
暗視野照明と落下照明とを併用すると同図［Ｆ］）のよ
うな検出信号が得られる。第５図はパターン形状と検出
信号との関係を更に詳しく解析して示した説明図である
。
うな検出信号が得られる。第５図はパターン形状と検出
信号との関係を更に詳しく解析して示した説明図である
。
アルミパターンには、第２図について説明したように段
差部６と平坦部７とを有するアルミ部８もあシ、また、
平坦部の無い強いカマボッ形の断面を有する微細アルミ
パターンｓａ′４１．ｓる（第４図（Ｂ）参照）。この
ようなウェハ面に落射照明光４と暗視野照明光４′とを
投射すると、微細アルミパターン８ａは落射照明光４に
対しては低い反射率を示す。また一方、アルミ以外の平
坦な構成部分１１（例えばＳｉＯ□など）は落射照明光
４に対して比較的高い反射率を示す。この結果、同図（
至）に示すような検出信号が得られ、これによってはア
ルミパターンを識別することが困難である。従って当然
に、アルミパターンの欠陥の検出ができない。
差部６と平坦部７とを有するアルミ部８もあシ、また、
平坦部の無い強いカマボッ形の断面を有する微細アルミ
パターンｓａ′４１．ｓる（第４図（Ｂ）参照）。この
ようなウェハ面に落射照明光４と暗視野照明光４′とを
投射すると、微細アルミパターン８ａは落射照明光４に
対しては低い反射率を示す。また一方、アルミ以外の平
坦な構成部分１１（例えばＳｉＯ□など）は落射照明光
４に対して比較的高い反射率を示す。この結果、同図（
至）に示すような検出信号が得られ、これによってはア
ルミパターンを識別することが困難である。従って当然
に、アルミパターンの欠陥の検出ができない。
第５図は、ウェハパターンの反射画像の説明図である。
同図（至）はパターンの一部の平面図で、７はアルミパ
ターンの平坦部、鎖線で示したＦは平坦な区域である。
ターンの平坦部、鎖線で示したＦは平坦な区域である。
１０は微細パターンの頂部、１１は非アルミ平坦部であ
る。
る。
通常用いられる暗視野照明よりも格段に強い暗視野照明
を用いると、第５図（Ｂ）の如く平坦区域Ｆに相当する
区域の一部も若干間るく映る。これはアルミの表面にヒ
ロックと呼ばれる細かい結晶が析出しているため、斜方
向に投射された暗視野照明光を乱反射させ、その一部が
対物レンズに入射するからである。しかし、平坦な区域
Ｆの中央に当たる箇所は反射光量が小さいので、検出し
た反射光を２値化してテレビ画像にすると同図０３）の
ように、平坦区域Ｆの中央に暗い部分９を生じる。
を用いると、第５図（Ｂ）の如く平坦区域Ｆに相当する
区域の一部も若干間るく映る。これはアルミの表面にヒ
ロックと呼ばれる細かい結晶が析出しているため、斜方
向に投射された暗視野照明光を乱反射させ、その一部が
対物レンズに入射するからである。しかし、平坦な区域
Ｆの中央に当たる箇所は反射光量が小さいので、検出し
た反射光を２値化してテレビ画像にすると同図０３）の
ように、平坦区域Ｆの中央に暗い部分９を生じる。
また、第５図（Ａ）のパターンに強い落射照明を施して
、その反射光を検出して２値化すると、同図Ｃ）のよう
な映像が得られる。１１′は非アルミ平坦面１１の映像
、７′はアルミ平坦部７の映像ｌσは微細パターン頂点
部１ｏの映像である。
、その反射光を検出して２値化すると、同図Ｃ）のよう
な映像が得られる。１１′は非アルミ平坦面１１の映像
、７′はアルミ平坦部７の映像ｌσは微細パターン頂点
部１ｏの映像である。
上述の第５図（Ｆ３）、第５図（Ｃ）、いずれの映像も
アルミパターンを認識してその欠陥を検出するには不適
である。最も望ましいのは第５図Ｄ）のようにアルミパ
ターンのみを顕在化させて他との識別を可能ならしめる
映像である。
アルミパターンを認識してその欠陥を検出するには不適
である。最も望ましいのは第５図Ｄ）のようにアルミパ
ターンのみを顕在化させて他との識別を可能ならしめる
映像である。
本発明の目的は、特定のパターン（前例においてはアル
ミパターン）を、他の構成部分から識別できるような反
射像が得られる照明方法、および照明装置を提供するこ
とを目的とする。
ミパターン）を、他の構成部分から識別できるような反
射像が得られる照明方法、および照明装置を提供するこ
とを目的とする。
次に、本発明の基本的な原理について略述する。
本発明者らは、前記の目的を達成するため、暗視野照明
の光量と落射照明の光量とを種々に変化させて実験２．
研究を行った。
の光量と落射照明の光量とを種々に変化させて実験２．
研究を行った。
第６図（至）は、暗視野照明の光量を一定に保った状態
で落射照明の強度を変化させた場合、前述の平坦部や微
細パターンが良好に検出できるエリアを表わした図表で
ある。
で落射照明の強度を変化させた場合、前述の平坦部や微
細パターンが良好に検出できるエリアを表わした図表で
ある。
横軸は落射照明の強度を、縦軸は２値化レベルをそれぞ
れ表わしている。この座標面上において、アルミの平坦
部を良好に検出できるエリアはＡの区域となる。また、
微細アルミパターンを良好に検出できるエリアはＢの区
域となる。従って、上記のＡ、Ｂ両区域の重なる部分Ｃ
においては、平坦なアルミ部と微細なアルミパターンと
の両方を良好に検出できることになる。
れ表わしている。この座標面上において、アルミの平坦
部を良好に検出できるエリアはＡの区域となる。また、
微細アルミパターンを良好に検出できるエリアはＢの区
域となる。従って、上記のＡ、Ｂ両区域の重なる部分Ｃ
においては、平坦なアルミ部と微細なアルミパターンと
の両方を良好に検出できることになる。
第６図（ｆ３）は、同図ｔＡ）における横軸と、アルミ
ノくターン部のビデオ信号間るさとの比率を示す図表で
、カーブＥは暗視野照明による微細アルミノくターンの
明部信号レベル、カーブＤは落射照明による微細アルミ
パターンの明部信号レベルである。
ノくターン部のビデオ信号間るさとの比率を示す図表で
、カーブＥは暗視野照明による微細アルミノくターンの
明部信号レベル、カーブＤは落射照明による微細アルミ
パターンの明部信号レベルである。
本図表に表われているように、暗視野照明によるアルミ
部の明部信号レベルが大きいときに良好な検出２値化画
像が得られることが判明した。
部の明部信号レベルが大きいときに良好な検出２値化画
像が得られることが判明した。
上述の原理に基づいて、特定のパターン（例えば前例に
おけるアルミパターン）を他の構成部分から区別して検
出するため、本発明のウエノ・照明方法は、ウエノ・表
面に形成された特定の配線ノくターンの像を検出するた
め該ウニ／・表面を照射する照明方法において、特定の
配線ノくターンの表面平坦部からの反射光を検出し得る
程度の光量で暗視野照明を施し、かつ、落射照明を併用
して上記平坦部からの光反射レベルを増加せしめること
を特徴とする。そして、本発明方法における実施の態様
としては、暗視野照明の光量を、落射照明の光量よりも
大きくして、その検出レベルを高くすることが、映像の
質を良くするために望ましい。
おけるアルミパターン）を他の構成部分から区別して検
出するため、本発明のウエノ・照明方法は、ウエノ・表
面に形成された特定の配線ノくターンの像を検出するた
め該ウニ／・表面を照射する照明方法において、特定の
配線ノくターンの表面平坦部からの反射光を検出し得る
程度の光量で暗視野照明を施し、かつ、落射照明を併用
して上記平坦部からの光反射レベルを増加せしめること
を特徴とする。そして、本発明方法における実施の態様
としては、暗視野照明の光量を、落射照明の光量よりも
大きくして、その検出レベルを高くすることが、映像の
質を良くするために望ましい。
また、本発明のウエノ・照明装置は上記の方法を容易に
実施してその効果を充分に発揮せしめるため、落射照明
用ランプと暗視野照明用ランプとを別個に設けるととも
に、上記の落射照明ランプによる落射照明光量を調節す
る手段を設けて、落射照明光量と暗視野照明光量との比
を調整し得るように構成し、かつ上記の暗視野照明用ラ
ンプの光を対物レンズの光軸と平行に反射する放物面鏡
を設けると共に、上記対物レンズの先端付近の周囲に上
記と別体の放物面鏡を設け、対物レンズの光軸と平行に
入射した暗視野照明光を被照明部に向けて反射し得べく
なしたることを特徴とする。
実施してその効果を充分に発揮せしめるため、落射照明
用ランプと暗視野照明用ランプとを別個に設けるととも
に、上記の落射照明ランプによる落射照明光量を調節す
る手段を設けて、落射照明光量と暗視野照明光量との比
を調整し得るように構成し、かつ上記の暗視野照明用ラ
ンプの光を対物レンズの光軸と平行に反射する放物面鏡
を設けると共に、上記対物レンズの先端付近の周囲に上
記と別体の放物面鏡を設け、対物レンズの光軸と平行に
入射した暗視野照明光を被照明部に向けて反射し得べく
なしたることを特徴とする。
〔発明の実施例〕
次に、本発明の実施例を第７図乃至第９図について説明
する。
する。
第７図は本発明方法を実施するために構成した本発明装
置の１例の斜視図である。
置の１例の斜視図である。
１はウェハ、２は対物レンズである。
暗視野照明用のランプ１３Ａを対物レンズ２の光軸上に
設置し、上記のランプ１３Ａと別個に落射照明用のラン
プ１３ Ｂを設ける。
設置し、上記のランプ１３Ａと別個に落射照明用のラン
プ１３ Ｂを設ける。
３は、落射照明用ランプ１３Ｂの光束４を、反射鏡２０
に向けて反射させるように設けた半透鏡である。
に向けて反射させるように設けた半透鏡である。
１４は落射照明用の集光レンズ、１５は同フィールドレ
ンズである。この落射照明系の光路中に、落射照明の光
量を調節するための絞シ１６を設ける。
ンズである。この落射照明系の光路中に、落射照明の光
量を調節するための絞シ１６を設ける。
一方、暗視野照明用のランプ１３Ａの光を対物レンズ２
の光軸と平行に矢印４′のごとく反射させる放物凹面鏡
１９を設けるとともに、対物レンズ２の先端付近に放物
凹面鏡１８を設け、上記の矢印４′方向の光をウェハ１
の表面に向けて斜に入射するように反射させる。
の光軸と平行に矢印４′のごとく反射させる放物凹面鏡
１９を設けるとともに、対物レンズ２の先端付近に放物
凹面鏡１８を設け、上記の矢印４′方向の光をウェハ１
の表面に向けて斜に入射するように反射させる。
５は反射光を検出するための検出器である。
第８図は、上に述べた第７図の実施例の構成部材の中か
ら、暗視野照明系を抽出して模式的に描いた説明図、第
９図は対比のために掲げた従来の照明装置の１例である
。
ら、暗視野照明系を抽出して模式的に描いた説明図、第
９図は対比のために掲げた従来の照明装置の１例である
。
従来装置（第９図）においては、落射照明、暗視野照明
に兼用するランプ１３Ｃを設け、半透鏡３の周囲に鏡１
７を配設すると共に、対物レンズ２の先端付近に放物凹
面鏡１８を設けているのに比して、本例（第８図）にお
いては暗視野照明専用のランプ１３Ａを設け、このラン
プ１３Ａの光を放物凹面鏡１９．１８によシウエハ１の
表面に斜に投射する構成である。このように構成すると
、本発明方法を実施するために必要な強い暗視野照明光
を得やすい。
に兼用するランプ１３Ｃを設け、半透鏡３の周囲に鏡１
７を配設すると共に、対物レンズ２の先端付近に放物凹
面鏡１８を設けているのに比して、本例（第８図）にお
いては暗視野照明専用のランプ１３Ａを設け、このラン
プ１３Ａの光を放物凹面鏡１９．１８によシウエハ１の
表面に斜に投射する構成である。このように構成すると
、本発明方法を実施するために必要な強い暗視野照明光
を得やすい。
第７図に示したウェハ照明装置を用いて本発明の照明方
法を実施する１例を次に述べる。
法を実施する１例を次に述べる。
この照明装置は、第８図について説明したよりに、強い
暗視野照明を行うことができるので、これを用いて特定
の配線パターン（例えばアルミパターン）の平坦部から
の反射光を検出し得る程度の暗視野照明を施す。
暗視野照明を行うことができるので、これを用いて特定
の配線パターン（例えばアルミパターン）の平坦部から
の反射光を検出し得る程度の暗視野照明を施す。
すなわち、第５図ＣＢ）に示したように、平坦区域Ｆに
相当する部分の中央付近に暗い部分９を残しているが、
その周辺に明るい部分９′もあるという状態にする。こ
れと併行して落射照明用ランプ１３Ｂの光４を、半透鏡
３９反射鏡２０ 、対物レンズ２を介してウェハ１の表
面に投射する。との落射照明光は絞り１６によって光量
を調節し、前記の暗い部分９が明るく見える程度の最少
限に調整する。
相当する部分の中央付近に暗い部分９を残しているが、
その周辺に明るい部分９′もあるという状態にする。こ
れと併行して落射照明用ランプ１３Ｂの光４を、半透鏡
３９反射鏡２０ 、対物レンズ２を介してウェハ１の表
面に投射する。との落射照明光は絞り１６によって光量
を調節し、前記の暗い部分９が明るく見える程度の最少
限に調整する。
これによシ、第５図［Ｆ］）に示した映像から暗い部分
９が消去される。しかも、上述のととく落射照明を必要
最少限に抑制しであるので、第５図（Ｃ）（強い落射照
明の映像）のように非アルミ平坦部の映像１１′が現わ
れる虞れが無い。この場合、第５図（Ｃ）に示したよう
な非アルミ平坦部の明るい像１１′が現われないように
、落射照明による検出レベルを暗視野照明による検出レ
ベルよシも低くする。
９が消去される。しかも、上述のととく落射照明を必要
最少限に抑制しであるので、第５図（Ｃ）（強い落射照
明の映像）のように非アルミ平坦部の映像１１′が現わ
れる虞れが無い。この場合、第５図（Ｃ）に示したよう
な非アルミ平坦部の明るい像１１′が現われないように
、落射照明による検出レベルを暗視野照明による検出レ
ベルよシも低くする。
このようにして、第５図［Ｆ］）の映像から暗い部分９
が消去されると、第５図（Ｄ）のようにアルミパターン
の形状のみを顕在化した映像が得られる。
が消去されると、第５図（Ｄ）のようにアルミパターン
の形状のみを顕在化した映像が得られる。
以上詳述したように、本発明の照明方法によれば、ウェ
ハ面上に形成された特定のパターンを、その他の構成部
分から容易に識別できるような反射像が得られる。また
、本発明の装置によれば、上記の本発明方法を容易に実
施することができる。
ハ面上に形成された特定のパターンを、その他の構成部
分から容易に識別できるような反射像が得られる。また
、本発明の装置によれば、上記の本発明方法を容易に実
施することができる。
第１図（至）は落射照明の説明図、第１図（Ｂ）は暗視
野照明の説明図、第２図はウェハパターンの１例の拡大
断面図である。第３図（至）、［Ｆ］）’、 （Ｃ）、
（ＤＪはウェハパターンと検出信号との関係を示し、
（至）は落射照明による検出信号を示す図表、（Ｂ）は
暗視野照明による検出信号を示す図表、（Ｃ）はウェハ
パターンの断面図、の）は落射照明と暗視野照明とを併
用した場合の検出信号を示す図表である。 第４図（４）、［Ｆ］）はウェハパターンと検出信号と
の関係を示し、（４）は検出信号の図表、（Ｂ）はウェ
ハ表面付近の断面図である。第５図はウエノ・パターン
と検出画像とを対比した説明図で、同図（４）はウェハ
パターンの平面図、同図［Ｆ］）は強い暗視野照明によ
る検出画像、同図（Ｃ１は強い落射照明による検出画像
、同図（Ｄ）は望ましい検出画像である。第６図（イ）
、（Ｂ）はそれぞれ良好な検出画像が得られる照明条件
を説明する図表である。第７図は本発明のウェハの照明
装置の１実施例の斜視図、第８図は同じく暗視野照明系
の光路図、第９図は対比のために掲げた従来の暗視野、
落射照明兼用の照明系の光路図である。 １・・・ウェハ、２・・・対物レンズ、３・・・半透鏡
、４゜４′・・・照明光、５・・・検出器、７・・・ア
ルミ平坦部、７′・・・アルミ平坦部の映像、８．８’
・・アルミ部、８ａ・・・微細アルミパターン、９・・
・暗い部分、１０・・・頂点部分、１０′・・・頂点部
分の映像、１１・・・非アルミ平坦部、１１′・・・非
アルミ平坦部の映像、１３Ａ・・・暗視野照明用ランプ
、１３Ｂ・・・落射照明用ランプ、 １４．１４’・・
・集光レンズ、１６・・・絞り、１７・・・鏡、１８．
１９・・・放物凹面鏡、２０・・・反射鏡代理人 弁理
士 秋 本 正 実 第 １ 口（Ａ） 第１ 図（Ｂ） 第２図 第 ４ 図（Ａ） 第５図（Ａ） Ｄゴτ房力Ｙ７コ 第６図（Ａ） 多１３６図（Ｂ） 第７図 第８図 第９図
野照明の説明図、第２図はウェハパターンの１例の拡大
断面図である。第３図（至）、［Ｆ］）’、 （Ｃ）、
（ＤＪはウェハパターンと検出信号との関係を示し、
（至）は落射照明による検出信号を示す図表、（Ｂ）は
暗視野照明による検出信号を示す図表、（Ｃ）はウェハ
パターンの断面図、の）は落射照明と暗視野照明とを併
用した場合の検出信号を示す図表である。 第４図（４）、［Ｆ］）はウェハパターンと検出信号と
の関係を示し、（４）は検出信号の図表、（Ｂ）はウェ
ハ表面付近の断面図である。第５図はウエノ・パターン
と検出画像とを対比した説明図で、同図（４）はウェハ
パターンの平面図、同図［Ｆ］）は強い暗視野照明によ
る検出画像、同図（Ｃ１は強い落射照明による検出画像
、同図（Ｄ）は望ましい検出画像である。第６図（イ）
、（Ｂ）はそれぞれ良好な検出画像が得られる照明条件
を説明する図表である。第７図は本発明のウェハの照明
装置の１実施例の斜視図、第８図は同じく暗視野照明系
の光路図、第９図は対比のために掲げた従来の暗視野、
落射照明兼用の照明系の光路図である。 １・・・ウェハ、２・・・対物レンズ、３・・・半透鏡
、４゜４′・・・照明光、５・・・検出器、７・・・ア
ルミ平坦部、７′・・・アルミ平坦部の映像、８．８’
・・アルミ部、８ａ・・・微細アルミパターン、９・・
・暗い部分、１０・・・頂点部分、１０′・・・頂点部
分の映像、１１・・・非アルミ平坦部、１１′・・・非
アルミ平坦部の映像、１３Ａ・・・暗視野照明用ランプ
、１３Ｂ・・・落射照明用ランプ、 １４．１４’・・
・集光レンズ、１６・・・絞り、１７・・・鏡、１８．
１９・・・放物凹面鏡、２０・・・反射鏡代理人 弁理
士 秋 本 正 実 第 １ 口（Ａ） 第１ 図（Ｂ） 第２図 第 ４ 図（Ａ） 第５図（Ａ） Ｄゴτ房力Ｙ７コ 第６図（Ａ） 多１３６図（Ｂ） 第７図 第８図 第９図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ ウェハ表面に形成された特定の配線パターンの像を
検出するため該ウェハ表面を照射する照明方法において
、特定の配線パターンの表面平坦部からの反射光を検出
し得る程度の光量で暗視野照明を施し、かつ、落射照明
を併用して上記平坦部からの光反射レベルを増加せしめ
ることを特徴とするウエノ・の照明方法。 ２、 前記の落射照明によるパターン検出レベルを、前
記の暗視野照明によるパターン検出レベル以下にするこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載のウェハの
照明方法。 ３ 落射照明用ランプと暗視野照明用ランプとを別個に
設けるとともに、上記の落射照明ランプによる落射照明
光量を調節する手段を設けて、落射照明光量と暗視野照
明光量との比を調整し得るように構成し、かつ上記の暗
視野照明用ランプの光を対物レンズの光軸と平行に反射
する放物面鏡を設けると共に、上記対物レンズの先端付
近に上記と別個に放物面鏡を設け、対物レンズの光軸と
平行に入射した暗視野照明光を被照明部に向けて斜に反
射し得べくなしたることを特徴とするウェハ照明装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7372783A JPS59200908A (ja) | 1983-04-28 | 1983-04-28 | ウエハの照明方法およびその装置 |
| DE8484104785T DE3476916D1 (en) | 1983-04-28 | 1984-04-27 | Method of detecting pattern defect and its apparatus |
| US06/604,998 US4614430A (en) | 1983-04-28 | 1984-04-27 | Method of detecting pattern defect and its apparatus |
| EP84104785A EP0124113B1 (en) | 1983-04-28 | 1984-04-27 | Method of detecting pattern defect and its apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7372783A JPS59200908A (ja) | 1983-04-28 | 1983-04-28 | ウエハの照明方法およびその装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59200908A true JPS59200908A (ja) | 1984-11-14 |
| JPH0151121B2 JPH0151121B2 (ja) | 1989-11-01 |
Family
ID=13526546
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7372783A Granted JPS59200908A (ja) | 1983-04-28 | 1983-04-28 | ウエハの照明方法およびその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59200908A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61169708A (ja) * | 1985-01-22 | 1986-07-31 | Fujitsu Ltd | パタ−ン検知方法とその装置 |
| JPS6285809A (ja) * | 1985-10-11 | 1987-04-20 | Mitsubishi Electric Corp | パタ−ン認識用照明装置 |
| JPS62156507A (ja) * | 1985-12-04 | 1987-07-11 | ケイエルエイ・インストラメンツ・コ−ポレ−シヨン | 三次元物体の表面を検査する光学的検査装置 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5719647A (en) * | 1980-07-11 | 1982-02-01 | Hitachi Ltd | Inspecting device for sample of face plate |
| JPS5767844A (en) * | 1980-10-15 | 1982-04-24 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | Surface inspecting device |
| JPS57208153A (en) * | 1981-06-17 | 1982-12-21 | Hitachi Ltd | Inspecting method for defective aluminum pattern of semiconductor or the like |
-
1983
- 1983-04-28 JP JP7372783A patent/JPS59200908A/ja active Granted
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5719647A (en) * | 1980-07-11 | 1982-02-01 | Hitachi Ltd | Inspecting device for sample of face plate |
| JPS5767844A (en) * | 1980-10-15 | 1982-04-24 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | Surface inspecting device |
| JPS57208153A (en) * | 1981-06-17 | 1982-12-21 | Hitachi Ltd | Inspecting method for defective aluminum pattern of semiconductor or the like |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPS6285809A (ja) * | 1985-10-11 | 1987-04-20 | Mitsubishi Electric Corp | パタ−ン認識用照明装置 |
| JPS62156507A (ja) * | 1985-12-04 | 1987-07-11 | ケイエルエイ・インストラメンツ・コ−ポレ−シヨン | 三次元物体の表面を検査する光学的検査装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0151121B2 (ja) | 1989-11-01 |
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