JPS59201420A - キヤリア回転形流水槽 - Google Patents
キヤリア回転形流水槽Info
- Publication number
- JPS59201420A JPS59201420A JP58076412A JP7641283A JPS59201420A JP S59201420 A JPS59201420 A JP S59201420A JP 58076412 A JP58076412 A JP 58076412A JP 7641283 A JP7641283 A JP 7641283A JP S59201420 A JPS59201420 A JP S59201420A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- carrier
- water
- water tank
- water flow
- pure water
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P72/00—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
- H10P72/04—Apparatus for manufacture or treatment
- H10P72/0402—Apparatus for fluid treatment
- H10P72/0406—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
- H10P72/0411—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
- H10P72/0414—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing using mainly spraying means, e.g. nozzles
Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
この発明は半導体製造１穆において、半導体ウェハの水
洗いに使用されるキャリア回転形光水槽に関する。
洗いに使用されるキャリア回転形光水槽に関する。
従来、半導体ウェハの水洗いは第１図に示すような流水
槽１により行われていた。この流水槽１は、底部に設け
られた純水供給口２，２・・・から純水を噴出し、第２
図乃至第４図に示すようにキャリア３に収納された複数
の半導体ウェハ４，４・・・の水洗いを行うものである
。
槽１により行われていた。この流水槽１は、底部に設け
られた純水供給口２，２・・・から純水を噴出し、第２
図乃至第４図に示すようにキャリア３に収納された複数
の半導体ウェハ４，４・・・の水洗いを行うものである
。
しかしながら、この従来の流水槽ｌＫあっては、純水供
給口２，２・・・から噴出した純水は決まった半導体ウ
ェハ４，４・・・間を通るため、キャリア３の溝部３ａ
、３ａ・・・の水洗効率が悪く、また各半導体ウェハ４
の全面を均一に水洗いすることができず、流水時間が長
くなり、純水供給流量が増大するという欠点があった。
給口２，２・・・から噴出した純水は決まった半導体ウ
ェハ４，４・・・間を通るため、キャリア３の溝部３ａ
、３ａ・・・の水洗効率が悪く、また各半導体ウェハ４
の全面を均一に水洗いすることができず、流水時間が長
くなり、純水供給流量が増大するという欠点があった。
この発明は上記冥情に禿みてなされたもので、その目面
（ｒ−１，手尋体ウェハの水洗効率を向上させることの
できるキャリア回転形光水槽を提供することにちる。
（ｒ−１，手尋体ウェハの水洗効率を向上させることの
できるキャリア回転形光水槽を提供することにちる。
この発明は、内部に向けて純水を噴出する流水槽と、複
数の半導体ウェハを収納したキャリアを前記流水槽内に
おいて回転させるキャリア回転機構とを具備し、半導体
ウーエハを回転ｔながら水洗いを行うものである。
数の半導体ウェハを収納したキャリアを前記流水槽内に
おいて回転させるキャリア回転機構とを具備し、半導体
ウーエハを回転ｔながら水洗いを行うものである。
以下、図面を参照してこの発明の一実施例を説明する。
第５図は有底円筒状の流水槽１１を示すものである。こ
の流水槽１１の底部には第６図に平面状態で示すように
複数の純水供給口１２．１２・・・が設けられており、
純水管１３により送られてきた純水がこれら純水供給口
１２゜１２・・・から第７図に示すように垂直方向及び
斜め方向に噴出するようになっている。
の流水槽１１の底部には第６図に平面状態で示すように
複数の純水供給口１２．１２・・・が設けられており、
純水管１３により送られてきた純水がこれら純水供給口
１２゜１２・・・から第７図に示すように垂直方向及び
斜め方向に噴出するようになっている。
第８図は上記流水槽１１にキャリア回転機構１−４と共
に、複数の半導体ウェハ１５，１．５・・・を収納した
キャリア１６を入れ、半導体ウェハ１５．１５・・・の
水洗いをしている状態を示すものである。
に、複数の半導体ウェハ１５，１．５・・・を収納した
キャリア１６を入れ、半導体ウェハ１５．１５・・・の
水洗いをしている状態を示すものである。
キャリア回転機構１４は、キャリア１６が載置されるキ
ャリア載置台ノアとこのキャリア載置台１７を水平に回
転させる水平駆動部１８により構成されている。キャリ
ア載置台１７は、懸吊板１９の四隅にそれぞれ固定され
た細長い支持棒２０・・・により載置部材２１を支持し
てなる。また、水平駆動部１８は、基端部において上記
懸吊板１９に固定されると共に頭部に拡幅部２２を有し
、吊し台２３に設けられた孔２４から吊り下げられた軸
２５と、この軸２５の外周部に設けられたギヤ２６と、
駆動モータ（図示せず。）と、この駆動モータとギヤ２
６との間を連結するベルト２７により構成されている。
ャリア載置台ノアとこのキャリア載置台１７を水平に回
転させる水平駆動部１８により構成されている。キャリ
ア載置台１７は、懸吊板１９の四隅にそれぞれ固定され
た細長い支持棒２０・・・により載置部材２１を支持し
てなる。また、水平駆動部１８は、基端部において上記
懸吊板１９に固定されると共に頭部に拡幅部２２を有し
、吊し台２３に設けられた孔２４から吊り下げられた軸
２５と、この軸２５の外周部に設けられたギヤ２６と、
駆動モータ（図示せず。）と、この駆動モータとギヤ２
６との間を連結するベルト２７により構成されている。
なお、２８は軸２５と吊し台２３との間を封止するシー
ルでおる。
ルでおる。
すなわち、この流水槽１ノにおいては、図示しない駆動
モータを駆動させると、その回転力がベルト２７により
ギヤ２６に伝達され、キャリア載置台１７と共にキャリ
ア１６が所定の速度で回転する。しかして、純水供給口
１２．１２・・・から純水カ噴出され、回転中の半導体
ウェハ１−５．１５・・・の水洗いを行うものである。
モータを駆動させると、その回転力がベルト２７により
ギヤ２６に伝達され、キャリア載置台１７と共にキャリ
ア１６が所定の速度で回転する。しかして、純水供給口
１２．１２・・・から純水カ噴出され、回転中の半導体
ウェハ１−５．１５・・・の水洗いを行うものである。
このようにこの流水槽１１においては、半導体ウェハ１
５，１５・・・を回転させながら水洗いを行うものであ
り、キャリア１６の溝部も充分に水洗いすることができ
、また各半導体ウェハ１５の全面を均一に水洗いするこ
とができる。
５，１５・・・を回転させながら水洗いを行うものであ
り、キャリア１６の溝部も充分に水洗いすることができ
、また各半導体ウェハ１５の全面を均一に水洗いするこ
とができる。
従って、水洗効率が向上し、その結果流水時間が短かく
て済み、純水供給流量をも減少させることができる。
て済み、純水供給流量をも減少させることができる。
尚、上記実施例においては、キャリア回転機構１４の水
平駆動部１８を流水槽１１の上方部に設けるようにした
が、流水槽１１の底部に軸挿通用の孔を設け、水平駆動
部１８を流水槽１１の下部に設けるようにしてもよい。
平駆動部１８を流水槽１１の上方部に設けるようにした
が、流水槽１１の底部に軸挿通用の孔を設け、水平駆動
部１８を流水槽１１の下部に設けるようにしてもよい。
以上のようにこの発明によれば、キャリア内の半導体ウ
ェハを回転させながら水洗いを行うようにしたので、水
洗効率が向上する。′
ェハを回転させながら水洗いを行うようにしたので、水
洗効率が向上する。′
第１図は従来の流水槽の構成を示′を斜視図、第２図は
第１図の流水槽にキャリアを収容し、た状態を示す平面
図、第３図は同じく側面図、第４図は同じく正面図、第
５図はこの兄明の一実施例に係る流水槽の構成を示す斜
視図、第６図は第５図の流水槽における純水供給口の配
置を示す図、第７図は同じく純水の噴出状態を示す図、
第８図は第５図の流水槽にキャリア回転機構を収容した
状態を示す斜視図である。 １１・・・流水槽、１２・・・純水供給口、１３・・・
純水管、１−４・・・キャリア回転機構、１５・・・半
導体ウェハ、１６・・・キャリア。 出願人代即人 弁理９士 鈴 江 武 彦第５図
第６図
第１図の流水槽にキャリアを収容し、た状態を示す平面
図、第３図は同じく側面図、第４図は同じく正面図、第
５図はこの兄明の一実施例に係る流水槽の構成を示す斜
視図、第６図は第５図の流水槽における純水供給口の配
置を示す図、第７図は同じく純水の噴出状態を示す図、
第８図は第５図の流水槽にキャリア回転機構を収容した
状態を示す斜視図である。 １１・・・流水槽、１２・・・純水供給口、１３・・・
純水管、１−４・・・キャリア回転機構、１５・・・半
導体ウェハ、１６・・・キャリア。 出願人代即人 弁理９士 鈴 江 武 彦第５図
第６図
Claims (1)
- 内部に向けて純水を噴出する流水槽と、複数の半導体ウ
ェハを収納したキャリアを前記流水槽内において回転さ
せるキャリア回転機構とを具備したことを特徴とするキ
ャリア回転形光水槽。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58076412A JPS59201420A (ja) | 1983-04-30 | 1983-04-30 | キヤリア回転形流水槽 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58076412A JPS59201420A (ja) | 1983-04-30 | 1983-04-30 | キヤリア回転形流水槽 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59201420A true JPS59201420A (ja) | 1984-11-15 |
Family
ID=13604514
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58076412A Pending JPS59201420A (ja) | 1983-04-30 | 1983-04-30 | キヤリア回転形流水槽 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59201420A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0325936A (ja) * | 1989-06-16 | 1991-02-04 | American Teleph & Telegr Co <Att> | 半導体ウェハの洗浄装置 |
-
1983
- 1983-04-30 JP JP58076412A patent/JPS59201420A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0325936A (ja) * | 1989-06-16 | 1991-02-04 | American Teleph & Telegr Co <Att> | 半導体ウェハの洗浄装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| AU2019379474B2 (en) | Laundry processing machine | |
| JPH1057656A (ja) | 洗濯機のパルセーター装置 | |
| JP3326656B2 (ja) | 回転式半導体基板処理装置及び回転式半導体基板処理方法 | |
| JPS59201420A (ja) | キヤリア回転形流水槽 | |
| JPS6111097A (ja) | 洗濯機 | |
| CN217191166U (zh) | 一种硅片加工清洗设备 | |
| JPS62283632A (ja) | ウエハ処理装置 | |
| JPH11160666A (ja) | 基板処理装置 | |
| JP3326777B2 (ja) | 洗浄装置 | |
| JP3020910B2 (ja) | シリコン半導体ウエハの回転エッチング方法 | |
| JPH01137636A (ja) | 半導体ウェハー洗浄装置 | |
| JPH11176786A5 (ja) | ||
| JPH01255684A (ja) | 半導体ウェハーの製造装置 | |
| JPS6111092A (ja) | 洗濯機 | |
| JPS6111096A (ja) | 洗濯機 | |
| JPH11176786A (ja) | 半導体基板洗浄装置 | |
| CN212542375U (zh) | 一种电子芯片酸腐蚀出硅装置 | |
| JPH0471594A (ja) | 洗濯機 | |
| JPS60130832A (ja) | 半導体ウエハの水洗装置 | |
| JPS6111093A (ja) | 洗濯機 | |
| JP3983355B2 (ja) | 半導体ウエハの洗浄装置及び洗浄方法 | |
| JPH10144643A (ja) | ウェハー洗浄装置及び方法 | |
| SU1323146A1 (ru) | Устройство дл очистки секционного радиатора | |
| JP2593465B2 (ja) | 半導体ウエーハの液処理装置 | |
| JPH0453684A (ja) | ウエハ支持装置 |