JPS5921085B2 - 磁気記録体 - Google Patents
磁気記録体Info
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- JPS5921085B2 JPS5921085B2 JP6313176A JP6313176A JPS5921085B2 JP S5921085 B2 JPS5921085 B2 JP S5921085B2 JP 6313176 A JP6313176 A JP 6313176A JP 6313176 A JP6313176 A JP 6313176A JP S5921085 B2 JPS5921085 B2 JP S5921085B2
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Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は平滑な鏡面加工を行なつた表面に非磁性コバル
ト合金を下地層として用いた磁気記録体に関する。
ト合金を下地層として用いた磁気記録体に関する。
更に詳しくは均一で鏡面光沢を有する磁性膜とそれによ
る良好な記録特性を得ることを目的としたものである。
磁気記録体の高密度化の要望に従つてコバルトあるいは
ニッケル・コバルト・リン合金等の強磁性金属からなる
磁性媒体を金属円盤、円筒等の基体上に均一な薄膜とし
て形成した磁気記録体が開発されている。
る良好な記録特性を得ることを目的としたものである。
磁気記録体の高密度化の要望に従つてコバルトあるいは
ニッケル・コバルト・リン合金等の強磁性金属からなる
磁性媒体を金属円盤、円筒等の基体上に均一な薄膜とし
て形成した磁気記録体が開発されている。
このような磁気記録体の製造方法としては、電気メッキ
や化学メッキ、あるいは蒸着、スパッタリング等の手法
により基体上に金属又は合金を、下地層、磁性媒体、保
護層として析出させた構成が一般的である。この方法に
よつて形成される磁性媒体はその記録特性上できる限り
平滑で均一なことが望ましい。磁気ドラムや磁気ディス
クのような磁気記録装置の場合にはドラムやディスク基
体の製作は鏡面加工に近く、ダイヤカットやラッピング
、研摩等の方法により、平面粗さ０．１ミクロン以下が
要求される例も少なくない。
や化学メッキ、あるいは蒸着、スパッタリング等の手法
により基体上に金属又は合金を、下地層、磁性媒体、保
護層として析出させた構成が一般的である。この方法に
よつて形成される磁性媒体はその記録特性上できる限り
平滑で均一なことが望ましい。磁気ドラムや磁気ディス
クのような磁気記録装置の場合にはドラムやディスク基
体の製作は鏡面加工に近く、ダイヤカットやラッピング
、研摩等の方法により、平面粗さ０．１ミクロン以下が
要求される例も少なくない。
即ち、これらドラムやディスク基体に均一な磁性媒体を
形成するためと磁気ヘッドの浮動特性を安定化すること
を目的としているからである。通常、高精度な鏡面加工
を行なうにはダイヤモンドバイト挽き加工、あるいは微
粒子によるラッピング等の方法をとることが多いが、特
にこのような場合の精密切削によれば、金属又は合金表
面の一般にベイルビー層といわれる変質層が生成せずに
基体の組織構造が表面に露呈することが多い。
形成するためと磁気ヘッドの浮動特性を安定化すること
を目的としているからである。通常、高精度な鏡面加工
を行なうにはダイヤモンドバイト挽き加工、あるいは微
粒子によるラッピング等の方法をとることが多いが、特
にこのような場合の精密切削によれば、金属又は合金表
面の一般にベイルビー層といわれる変質層が生成せずに
基体の組織構造が表面に露呈することが多い。
これらの基体表面に磁性媒体を形成するには電気メッキ
、あるいは化学メッキが最も一般的であり、これにメッ
キ膜を形成すると析出初期の段階においてメッキ液中の
金属イオンは素地に対して構造敏感性を示し、均一な平
滑な膜が得られにくい欠点を有していた。本発明者らは
これらメッキ液の基体素地に対する構造敏感性を解決す
るために種々のメッキ液や条件を選定した結果、コバル
ト系メッキ膜が上記に対して効果があることを見出した
。
、あるいは化学メッキが最も一般的であり、これにメッ
キ膜を形成すると析出初期の段階においてメッキ液中の
金属イオンは素地に対して構造敏感性を示し、均一な平
滑な膜が得られにくい欠点を有していた。本発明者らは
これらメッキ液の基体素地に対する構造敏感性を解決す
るために種々のメッキ液や条件を選定した結果、コバル
ト系メッキ膜が上記に対して効果があることを見出した
。
以下実施例に従つてその結果を説明する。
実施例 １
ＪＩＳＢｓＢＦ−２黄銅棒を鍜造一切削加工して１００
φ×２４を（７ｌＬｌｌＬ）の磁気ドラム用回転体素材
を製作した。
φ×２４を（７ｌＬｌｌＬ）の磁気ドラム用回転体素材
を製作した。
所定の形状と精度を得るため超精密旋盤によりダイヤモ
ンドバイト切削を行ない表面精度０．０８ミクロン以下
のドラム回転体を得た。次に以下の工程で磁性媒体を形
成した。まずドラム回転体をトリクレン洗浄後、アルカ
リ脱脂、酸洗浄し、ＣＯ−Ｓｎ塩化物浴よりＣＯ−Ｓｎ
合金下地膜を０．６ミクロン形成した。次に磁性媒体と
なるＣＯ−Ｎｉ−Ｐ膜を０．５ミクロン、更に保護層と
して無電解Ｎｉ−Ｐ膜を０．８ミクロン形成した。また
通常一般に行なわれる方法としてＣＯ−Ｓｎ下地膜の代
わりに硫酸銅メツキを用いたドラムも同時に作製した。
どちらのドラムも外観上光沢を有していたが磁気ドラム
装置として組込み、記録再生特性を調べた結果、従来の
銅メツキを下地として使用したドラムＡは個々のパルス
変動が大きく、それに対してＣＯ−Ｓｎ下地のドラムＢ
はかなり均一なパルス値が得られた。これらを写真で示
すと、参考写真Ａ，Ｂのように各々横軸全長にわたつて
２００００個のパルスがはいり、縦軸はその波高値を示
す。この結果より本願発明によるコバルト合金下地を使
用したドラム回転体はすぐれた記録特性を有することが
確認された。また、これらＡ，Ｂドラムの表面粗度の変
化を第１図に示す。Ｃはダイヤバイト挽き加工面、Ａは
Ｃｕ下地ドラム、ＢはＣＯ−Ｓｎ合金下地ドラムである
。図より、最終加工面において０．０６μの表面粗度で
あつたドラムＣはＣｕ下地を使用して磁性媒体を形成し
たドラムＡが０．０５μと、ほとんど表面粗度の変化が
ないのに対してＣＯ−Ｓｎ合金下地のドラムＢにおいて
０．０３μとなり、すぐれたレベリング作用により記録
特性を改善することが可能となつた。表面粗度は機械加
工法によつてそれぞれ異なり一般の超硬バイトによる精
密切削では１ミクロン以下に仕上げるのは難しく、これ
らの面には変質層がかなり生じているため下地メツキ膜
を選択する意味はほとんどないが１ミクロン以下、特に
０．５ミクロン〜０．０５ミクロンの表面粗度に仕上げ
た表面にはコバルト合金メツキは有効である。また記録
特性上下地としてのコバルト合金膜は ．′非磁性であ
ることが要求され、メツキ液の成分組成や電解条件の正
確な制御が必要であり、本実施例に使用したＣＯ−Ｓｎ
膜はＣＯを主体としながら各種条件の選択によつて非磁
性化したものである。実施例 ２上記と同様にして仕上
げたドラム回転体に下地メツキとして磁性媒体と同一成
分であるＣＯ−Ｎｉ一Ｐの非磁性膜を使用し、ＣＯ−Ｎ
ｌ−Ｐ磁性媒体とＮｉ−Ｐ保護膜を形成して磁気ドラム
を製作した。
ンドバイト切削を行ない表面精度０．０８ミクロン以下
のドラム回転体を得た。次に以下の工程で磁性媒体を形
成した。まずドラム回転体をトリクレン洗浄後、アルカ
リ脱脂、酸洗浄し、ＣＯ−Ｓｎ塩化物浴よりＣＯ−Ｓｎ
合金下地膜を０．６ミクロン形成した。次に磁性媒体と
なるＣＯ−Ｎｉ−Ｐ膜を０．５ミクロン、更に保護層と
して無電解Ｎｉ−Ｐ膜を０．８ミクロン形成した。また
通常一般に行なわれる方法としてＣＯ−Ｓｎ下地膜の代
わりに硫酸銅メツキを用いたドラムも同時に作製した。
どちらのドラムも外観上光沢を有していたが磁気ドラム
装置として組込み、記録再生特性を調べた結果、従来の
銅メツキを下地として使用したドラムＡは個々のパルス
変動が大きく、それに対してＣＯ−Ｓｎ下地のドラムＢ
はかなり均一なパルス値が得られた。これらを写真で示
すと、参考写真Ａ，Ｂのように各々横軸全長にわたつて
２００００個のパルスがはいり、縦軸はその波高値を示
す。この結果より本願発明によるコバルト合金下地を使
用したドラム回転体はすぐれた記録特性を有することが
確認された。また、これらＡ，Ｂドラムの表面粗度の変
化を第１図に示す。Ｃはダイヤバイト挽き加工面、Ａは
Ｃｕ下地ドラム、ＢはＣＯ−Ｓｎ合金下地ドラムである
。図より、最終加工面において０．０６μの表面粗度で
あつたドラムＣはＣｕ下地を使用して磁性媒体を形成し
たドラムＡが０．０５μと、ほとんど表面粗度の変化が
ないのに対してＣＯ−Ｓｎ合金下地のドラムＢにおいて
０．０３μとなり、すぐれたレベリング作用により記録
特性を改善することが可能となつた。表面粗度は機械加
工法によつてそれぞれ異なり一般の超硬バイトによる精
密切削では１ミクロン以下に仕上げるのは難しく、これ
らの面には変質層がかなり生じているため下地メツキ膜
を選択する意味はほとんどないが１ミクロン以下、特に
０．５ミクロン〜０．０５ミクロンの表面粗度に仕上げ
た表面にはコバルト合金メツキは有効である。また記録
特性上下地としてのコバルト合金膜は ．′非磁性であ
ることが要求され、メツキ液の成分組成や電解条件の正
確な制御が必要であり、本実施例に使用したＣＯ−Ｓｎ
膜はＣＯを主体としながら各種条件の選択によつて非磁
性化したものである。実施例 ２上記と同様にして仕上
げたドラム回転体に下地メツキとして磁性媒体と同一成
分であるＣＯ−Ｎｉ一Ｐの非磁性膜を使用し、ＣＯ−Ｎ
ｌ−Ｐ磁性媒体とＮｉ−Ｐ保護膜を形成して磁気ドラム
を製作した。
下地ＣＯ−Ｎｉ−Ｐ非磁性膜の析出条件を以下に記す。
浴成分組成 １１ｔ−一ＹＪｖｌＦぜｒ１′ＩＪ 析出条件 得られた磁気ドラムの記録特性は参考写真Ｂよりもやや
すぐれており、これは磁性媒体と下地との相関関係のた
めと推定され、どちらもＸ線回折による明瞭な結晶構造
は認められなかつたが数百〜数チオングストロームの原
子集団の析出状態がＣＯ−Ｓｎ−ＣＯ−Ｎｉ−ＰよりＣ
Ｏ−Ｎｉ−Ｐ−ＣＯ一Ｎｉ−Ｐの方がやや良いためと思
われる。
浴成分組成 １１ｔ−一ＹＪｖｌＦぜｒ１′ＩＪ 析出条件 得られた磁気ドラムの記録特性は参考写真Ｂよりもやや
すぐれており、これは磁性媒体と下地との相関関係のた
めと推定され、どちらもＸ線回折による明瞭な結晶構造
は認められなかつたが数百〜数チオングストロームの原
子集団の析出状態がＣＯ−Ｓｎ−ＣＯ−Ｎｉ−ＰよりＣ
Ｏ−Ｎｉ−Ｐ−ＣＯ一Ｎｉ−Ｐの方がやや良いためと思
われる。
その他、下地としてはＣＯを主体とした種々の合金、あ
るいはＣＯを含みＮｉを主体としている合金においても
本効果は認められており、情報機器の高密度化に従つて
、超精密加工によつて仕上げられた基体と高度な薄膜作
製技術による磁性媒体との中間を繋く重要な位置を占め
、情報機器の発展に寄与するものである。さらに本発明
は、非磁性のＣＯ−Ｓｎ合金もしくはＣＯ−Ｎｉ−Ｐ合
金を基体上に形成したから、磁気記録特性の優れたＣＯ
−Ｎｉ−Ｐを形成することができ、結晶構造が類似して
いる為に好しい結晶形成を得ることができ、従つて他の
ＣＯ，Ｎｉ等の下地層に比し、一段と優れた記録再生特
性を有する効果がある。
るいはＣＯを含みＮｉを主体としている合金においても
本効果は認められており、情報機器の高密度化に従つて
、超精密加工によつて仕上げられた基体と高度な薄膜作
製技術による磁性媒体との中間を繋く重要な位置を占め
、情報機器の発展に寄与するものである。さらに本発明
は、非磁性のＣＯ−Ｓｎ合金もしくはＣＯ−Ｎｉ−Ｐ合
金を基体上に形成したから、磁気記録特性の優れたＣＯ
−Ｎｉ−Ｐを形成することができ、結晶構造が類似して
いる為に好しい結晶形成を得ることができ、従つて他の
ＣＯ，Ｎｉ等の下地層に比し、一段と優れた記録再生特
性を有する効果がある。
第１図はドラム回転体の表面粗さである。
Ａ・・・・・・従来型メツキによるドラム、Ｂ・・・・
・・本発明メツキによるドラム、Ｃ・・・・・・ダイア
モンドバィト切削加工ドラム。
・・本発明メツキによるドラム、Ｃ・・・・・・ダイア
モンドバィト切削加工ドラム。
Claims (1)
- １ ０．５ミクロン以下の表面粗さに加工した金属又は
合金基板上に非磁性のＣｏ−Ｓｎ合金もしくはＣｏ−Ｎ
ｉ−Ｐ合金が形成されてなり、該合金上に磁性層と保護
層とが形成されてなることを特徴とする磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6313176A JPS5921085B2 (ja) | 1976-05-31 | 1976-05-31 | 磁気記録体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6313176A JPS5921085B2 (ja) | 1976-05-31 | 1976-05-31 | 磁気記録体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS52146202A JPS52146202A (en) | 1977-12-05 |
| JPS5921085B2 true JPS5921085B2 (ja) | 1984-05-17 |
Family
ID=13220398
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6313176A Expired JPS5921085B2 (ja) | 1976-05-31 | 1976-05-31 | 磁気記録体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5921085B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5963027A (ja) * | 1982-10-04 | 1984-04-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体およびその製造法 |
-
1976
- 1976-05-31 JP JP6313176A patent/JPS5921085B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS52146202A (en) | 1977-12-05 |
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