JPS59219265A - 合成ポリマー用安定剤として有用なジピペリジン―ジ―カーバメート - Google Patents

合成ポリマー用安定剤として有用なジピペリジン―ジ―カーバメート

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JPS59219265A
JPS59219265A JP59089158A JP8915884A JPS59219265A JP S59219265 A JPS59219265 A JP S59219265A JP 59089158 A JP59089158 A JP 59089158A JP 8915884 A JP8915884 A JP 8915884A JP S59219265 A JPS59219265 A JP S59219265A
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    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
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    • C08K5/34Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
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    • C08K5/3432Six-membered rings
    • C08K5/3435Piperidines
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
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    • C07D211/04Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
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    • C07D211/36Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は合成ポリマー用安定剤としてのジベリジンージ
ーカーバメートの使用方法に関するものである。
本発明は合成ポリマー用の光安定剤、熱安定剤及び酸化
安定剤としての次式I: 〔式中、R1は炭素原子数1ないし12のアルキル基、
炭素原子数3ないし12のアルケニル基、炭素原子数5
ないし12のシクロアルキル基または未置換のフェニル
基もしくはヒドロキシフェニル基または1ないし3個の
炭素原子数1ないし4のアルキル基;または未置換のま
たは1ないし3個の炭素原子数1ないし4のアルキル基
により置換されたベンジル基もしくはヒドロキシベンジ
ル基によって置換されたフェニル基もしくはヒドロキシ
フェニル基を表わし、R2は炭素原子数1ないし18の
アルキレン基、炭素原子数5ないし18のシクロアルキ
レン基、炭素原子数6ないし18のアリーレン基、炭素
原子数7ないし18のアルアルキレンitたは次式Uニ ー R3−←X  R4+−[111 (式中、R3及びR4は炭素原子数2ないし6のアルキ
レン基金表わして同一のものでも、異なるものでもよく
、nは1または2を表わし、そ。
してXは一〇−またけ−N−ffi表わし、そしてR5
5 は炭素原子数1ないし12のアルキル基、炭素原子数5
ないし12のシクロアルキル基、炭素原子数6ないし1
2のアリール基、炭素原子数7ないし12のアルアルキ
ル基、2.2.6,6−チトラメチルービペ11ジンー
4−イル基またはR1が上記で定義したものと同じ意味
を表わす−COOR,基を表わす。)で表わされる基を
表わす。〕で表わされるジペリジン化合物の使用方法に
関するものである。
式■の中の各種の基の意味の実例は下記の通りである: R,トシて:メチル、エチル、プロピル、イソプロピル
、ブチル、第三ブチル、第ニブチル、ヘキシル、2−エ
チルヘキシル、オクチル、1,1゜6.3−テトラメチ
ルブチル、デシル、ドデシル、アリル、メタアリル、ブ
チ−2−エニル、ウンデセ−10−エニル、シクロヘキ
シル、2−4たけ4−メチルシクロヘキシル、3,3.
57トリメチルシクロヘキシル、シクロオクチル、シク
ロドテシル、フェニル、o −、m −、及ヒp −メ
チルフェニル、2,6−シメチルフエニル、2゜4.6
4リメチルフエニル、4−第三メチルフェニル、4−第
三オクチルフェニル、4−メトキシフェニル、4−エト
キシフェニル、3.5−シー第三ブチル−4−ヒドロキ
シフェニル、ベンジル、4−メチルベンジル、4−ヒド
ロキシベンジル及び6.5−ジー第三ブチル−4−・ヒ
ドロキシベンジル; R2として:メチレン、エチレン、1,2−及び1.3
−プロピレン、2−ヒドロキシ−1,3−プロピレン、
テトラメチレン、ペンタメチレン、2.2−yメチル−
1,3−プロピレン、ヘキサメチレン、デカメチレン、
ドデカメチレン、シクロヘキシレン、シクロヘキシレン
ジメチレン、フェニレン及びキシレン: 拠及びR4として:エチレン、1.2−4たは1,6−
プロピレン、テトラメチレン及びヘキサメチレン:そし
て R5トしてメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
ブチル、第三ブチル、第ニブチル、ヘキシル、2−エチ
ルヘキシル、オクチル、1.1゜6.3−テトラメチル
ブチル、テシル、ドデシル、シクロヘキシル、2−また
は4−メチルシクロヘキシル、3,3.5−トリメチル
シクロヘキシル、シクロオクチル、シクロドデシル、フ
ェニル、o−、m−及びp−メチルフェニル、2,6−
シメチルフエニル、2,4.6−)リメチルフェニル、
4−第三メチルフェニル、4−(1,1゜3.3−テト
ラメチルブチル)−フェニル、4−メトキシフェニル、
4−エトキシフェニル、3゜5−ジー第E7”チル−4
−ヒドロキシフェニル、ベンジル、4−メチルベンジル
、4−ヒドロキシベンジル、6,5−ジーff、 E−
ブチル−4−ヒドロキシベンジル及ヒ2.2.6.6−
チトラメチルービペリジンー4−イル。
式Iで表わされる化合物で好ましいものは式中、R1が
炭素原子数1ないし8のアルキル基、炭素原子数3ない
し8のアルケニル基、シクロアキル基、フェニル基また
はベンジル基を表わし、R2が炭素原子数1ないし乙の
アルキレン基、シクロヘキシレン基、フェニレン基t 
;7vfdキシレン基を表わし、R3及びR4が炭素原
子数2ないし4のアルキレン基全表わし、そしてR5が
−COOR+基を表わし、R1が上記で定義したものと
同じ意味を表わすものである。
式lで表わされる化合物で特に好ましいものは式中、R
1が炭素原子数1ないし4のアルキル基金表わし、そし
てR2が炭素原子数2ないし6のアルキレン基を表わす
ものである。
式■においてR5がメチルでもエチルでもない、すなわ
ち、R1が炭素原子数3ないし12のアルキル基、炭素
原子数6ないし12のアルクニル基、炭素原子数5々い
し12のシクロアルキル基または未置換のフェニル基も
しくはヒドロキシフェニル基または1カいし5個の炭素
原子数1ないし4のアルキル基または未置換の、捷たは
1ないし6個の炭素原子数1ないし4のアルキル基によ
り置換されたベンジル基もしくはヒドロキシベンジル基
によって置換されたフェニル基もしくはヒドロキシフェ
ニル基を表わすものは新規であり、かくてさらに本発明
を具体的に構成するものである。
式■で表わされる化合物は公知の方法により次式■: (式中、R2は上記で定義したものと同じ意味を表わす
、)で表わされる化合物を次式■:C1−C0OR+ 
      (IV)(式中、R1は上記で定義したも
のと同じ意味を表わす。)で表わされるクロロカーボネ
ートと有機溶媒中、有機または無機塩基例えばビリジン
、トリエチルアミン、トリブチルアミン、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウムまたは炭酸カリ
ウムの存在下で一30℃と60℃との間の温度、好まし
くは一20℃と20℃の間の温度で反応させることによ
り製造することができる。
本発明をさらに明らかに説明するために式■で表わされ
る化合物の製造例のいくつかを記す:これらの例は説明
のために与えられるもので本発明をなんら制約するもの
ではない。
実施例1 : N、 N’−ビス−(エトキシカルボニ
ル) −N、 N’−ビス−(2,2,6,6−チトラ
メチルービベリジンー4−イル)−へキサメチレンジア
ミンの製造。
エチルクロロカーボネート22.8y(0,21モル)
を、0℃を越えない温度で、1.2−ジクロロエタン2
00−中、N、 N’−ビス−(2,2,6゜6−テト
ラメチルビペリジン−4−イル)−へキサメチレンジア
ミン39.4F 40.1モル)の−10℃に冷却した
溶液に加える。次に50−の水に溶解した水酸化ナトリ
ウム&4ノを、温度全0℃に保ってゆっくり加える。次
に温度を20℃まで昇るに捷かぜ、水相を分離して有機
相を水で洗浄する。無水芒硝上で乾燥し、溶媒金除いた
後残留物全オクタンから結晶させる。
得られた生成物は125℃で溶融する。
C3oHs9N404としての分析値:計算値%:  
C66、B7:  HIQ、85;  N10.40実
測値%:  C6/s、02:  Hlo、73:  
NIQj5実施例2−12:下記の式Iで表わされる化
合物音製造するために実施例10手順を繰返す。
実施例A    RI       R2融点(ト)2
   メチル    −(CH2>2−    200
3   エチル    −(CB2)2−    16
14   インプロピル −(CH2)、−1565n
−ブチル(CH,! )2−    1246  アリ
ル   −(CH2h−1417メチル    −(C
H213−13Q8   エチル    −(CH2L
+       849   メチル    −(C)
1.>6     j2510  インプロピル −(
CH2)6−      11611  エチル   
 −(CH2)11 N  (CH2)2 103C0
0C2H5 12アリル    −(CH2)6−5N初めに述べた
ように式Iで表わされる化合物は合成ポリマー、例えば
高密度及び低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、エチ
レン/フロピレン コポリマー、エチレン/酢酸ビニル
 コポリマー、ポリブタジェン、ポリイソプレン、ポリ
スチレン、ブタジェン/スチレン コポリマー、塩化ビ
ニル/塩化ビニリデン ポリマー及びコポリマー、ポリ
オキシメチレン、ポリウレタン、飽和及び不飽和ポリエ
ステル、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリアクリレ
ート、アルキッド樹脂及びエポキシ樹脂ならびにラッカ
ーの光安定性、熱安定性及び酸化安定性を改善するのに
非常に有効である。
式lで表わされる化合物はポリマーの性質、最終用途そ
して他の添加剤の存在如何によって冬着1の比率で合成
ポリマーと混合することかできる。一般に式lで表わさ
れる化合物をポリマーに対して0.01ないし5重量%
好ましくは0.05ないし1重@チ用いると有利である
式■で表わされる化合物はポリマー物質中に各種の方法
、例えば粉体での乾式混合または溶液または懸?liの
形での湿式混合、またはマスターバッチの形での混合に
より配合することができる;これらの操作においては合
成ポリマーを粉末、顆粒、溶液、懸濁液またはラテック
スの形で使用することができる。式lで表わされる製品
により安定化されたポリマーは成形品、フィルム、テー
プ、繊維、モノフィラメント、塗膜及び同類のものに用
いることができる。
所望ならば他の添加剤、例えば酸化防止剤、紫外線吸収
剤、ニッケル安定剤、顔料、光填剤、可塑剤、帯電防止
剤、難燃剤、潤滑油、腐蝕防止剤及び金属不活性化剤を
式■で表わされる化合物と合成ポリマーとの混合物中に
添加するこ    :とができる。
式Iで表わされる化合物と混合することのできる添加剤
の例は、特に: 2,6−ンー第三ブチル−4−メチルフェノール 2 
 g三ブチル−4,6−シメチルフエノール、2,6−
ジー第三ブチル−4−エチルフェノール、2,6−ジー
第三ブチル−4−H−ブチルフェノール、2,6−ジー
第三ブチル−4−1−ブチルフェノール、2.6−ジ−
シクロベンチルー4−メチルフェノール、2−(a−メ
チルシクロヘキシル)−4,6−シメチルフエノール、
2,6−ジ−オクタデシル−4−メチルフェノール、2
.4.6− トリーシクロヘキシルフェノールおよヒ2
,6−ジー第三ブチルー4−メトキシメチルフェノール
1.2.アルキル化ヒドロキノン、例エバ2.6−ジー
第三ブチル−4−メトキシフェ/−/I/、2.5−ジ
ー第三ブチルヒドロキノン、2.5−ジー第三アミルヒ
ドロキノンおよび2.6−ジフェニル−4−オクタデシ
ルオキシフェノール。
1.3.ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル、例え
ば 2.2′−チオ−ビス−(6−第三ブチル−4−メチル
フェノ−# ) 、’−2,2’−チオ−ビス−(4−
オクチルフェノール)、4.4′−チオ−ビス−(6−
第三ブチル−6−メチルフェノール)および4,4′−
チオ−ビス−(6−第三ブチル−2−メチルフェノール
)。
1.4.アルキリデン−ビスフェノール、例えば2や2
′−メチレン−ビス−(6−第三ブチル−4−メチルフ
ェノール)、2,2′−メチレン−ビス−(6−第三ブ
チル−4−エチルフェノール)、2.27−メチレン−
ビス−〔4−メチル−6−(a−メチルシクロヘキシル
)−フェノール〕、2,2′−メチレン−ビス−(4−
メチル−6−シクロヘキジルフエノール)、2.2′−
メチレン−ビス(6−ノニル−4−メチルフェノール)
、2.2’−メチレン−ビス−(6−(a−メチルベン
ジル)−4−ノニルフェノール」、7.2′−メチレン
−ビス−〔6−(a、 a−ジメチルベンジル)−4−
ノニルフェノール〕、2,2′−メチレン−ビス−(4
゜6−ジー第三ブチルフェノール)、2,2′−エチリ
デン−ビス−(4,6−ジー第三ブチルフェノール)、
2,27−ニチリデンービスー(6−第三ブチル−4−
イソブチルフェノール)、4.47−メチレン−ビス−
(2,6−ジー第三ブチルフェノール)、4.4’−メ
チレン−ビス−(6−第三ブチル−2−メチルフェノー
ル)、1.1−ビス−(5−第三ブチル−4−ヒドロキ
シ−2−メチルフェニル)−ブタン、2,6−ジー(3
−第三ブチル−5−メチル−2−ヒドロキシベンジル)
 −4,、−メチルフェノール、1,1.3−)リス−
(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニ
ル)−ブタン、1,1−ビス−(5−第三プチル−4−
ヒドロキシ−2−メチルフェニル)−3−n−ドデシル
メルカプトブタン、エチレングリコールビス−〔6,6
−ビス−(3′−第三ブチル−4′−ヒドロキシフェニ
ル)−ブチレート]、ジー(3−g三ブチル−4−ヒド
ロキシ−5−メチルフェニル)−ジシクロペンタジェン
およびジー[2−(3’−第三ブチル−2′−ヒドロキ
シ−5′−メチルベンジルl−6−i三ブチル−4−メ
チルフェニル〕テレフタレート。
15、ベンジル化合物、例えば 1.5.5−トリ=(6,5−ジー第三ブチル−4−ヒ
ドロキシベンジル)−2,4,6−トリメチルベンゼン
ージー(ろ、5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシベン
ジル)スルフィド、インオクチル3,5−ジー第三ブチ
ル−4−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテート、ビ
ス=(4−第三プチル−3−ヒドロキシ−2゜6−ジメ
チルベンジル)−ジチオールテレフタレート、1. 3
. 5−)リス−(3,5−ジー第三ブチル−4−ヒド
ロキシベンジル)インシアヌレート、1.3.5− ト
リス−(4−第三ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジ
メチルベンジル)イソシアヌレート、ジオクタデシル6
.5−ジー第三フチルー4−ヒドロキシベンジルホスホ
ネート、およびモノエチル6.5−ジー第三ブチル−4
−ヒドロキシベンジル−ホスホネートのカルシウム塩。
1.6  アシルアミノフェノール、例えば4−ヒドロ
キシラウリン酸アニリド、4−ヒドロキシステアリン酸
アニリドおよび2゜4−ビス−オクチルメルカプ)−6
−(3,5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシアニυ)
)−8−トリアジン。オクチル−N−13,5−シー第
三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−カルバミネート
アルコールの例:メタノール、オクタデカノール、1.
6−へキサンジオール、ネオペンチルクリコール、チオ
ジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエ
チレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス−ヒ
ドロキシエチルイソシアヌレート卦よびジ−ヒドロキシ
エチルオキサルアミド。
ル アルコールの例:メタノール、オクタデカソール、1,
6−ヘキサンジオール、ネオペンチルクリコール、チオ
ジエチレンクリコール、ジエチレンクリコール、トリエ
チレンクリコール、ペンタエリトリトール、トリス−ヒ
ドロキシエチルイノシアヌレートおよびジ−ヒドロキシ
エチルオキサルジアミド。
えは 例えばN、 N’−ジー(3,5−ジー第三ブチル−4
−ヒドロキシフェニルプロピオニル)−へキサメチレン
ジアミン、N、N’−ジー(5,5−ジー第三フチルー
4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)−トリメチレン
ジアミンおよびN、N’−ジー(3,5−ジー第三ブチ
ル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)−ヒドラジ
ン。
トリアゾール 例えば5′−メチル 3? 5r−ジー第三ブチル、5
′−第三ブチル、5’−(1,1,3,5−テトラメチ
ルブチル)、5−クロロ−37,5′−ジー第三ブチル
、5−クロロ−31−第三プチル−5′−メチル、3′
−第二ブチル−5′−第三ブチル、4′−オクトキシ、
3z5′ −ジー第三アミル、および3′、5′−ビス
−(α、α−ジメチルベンジル)誘導体。
2.2. 2−ヒドロキシベンゾフェノン例えば4−ヒ
ドロキシ、4−メトキシ、4−オクトキシ、4−デシル
オキシ、4−ドデシルオキシ、4−ベンジルオキシ、4
,2′、4′−トリヒドロキンおよび2′−ヒドロキシ
−4゜4′−ジメトキシ誘導体。
2.3.場合により置換さtした安息香酸のエステル 例えばフェニルサリチレ−1,4−第三ブチルフェニル
サリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベン
ゾイルレゾルシノール、ビス−(4−第三ブチルベンソ
イル)−レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、
2.4−/−第Eブチルフェニル3.5−シーg三ツチ
ル−4−ヒドロキシベンゾエート、及びヘキサデシル3
.5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート。
2.4.アクリレート 例えばエチルまたはインオクチルa−シアノ−β、β−
ジフェニル−アクリレート、メチルa−カルボメトキシ
シンナメート、メチルマタはブチルa−シアノ−β−メ
チル−p−メトキシシンナメート、メチルa−カルボメ
トキシ−p−メトキシシンナメートおよびN−(β−カ
ルボメトキシ−β−シアンビニル)−2−メチルインド
リン。
2.5.ニツクル化会物 例えば2,2′−チオ−ビス−[4−(1,1,3゜3
−テトラメチルブチル)−フェノール〕のニッケル錯体
、例として1;1または1:2錯体(所望により付加配
位子例えばn−ブチルアミン、トリエタノールアミンま
たはN−シクロへキシルジェタノールアミンを有してよ
い)、4−ヒドロキシ−3,5−ジー第三ブチルベンジ
ルホスホン酸モノアルキルエステル例えばメチルまたは
エチルエステルのニッケル塩、ケトオキシム例えば2−
ヒドロキシ−4−メチルフエニルウンデシルゲトンオキ
シムのニッケル錯体および所望により付加配位子を含ん
でよい1−フェニル−4−ラウロイル−5−ヒドロキシ
ピラゾールのニッケル錯体。
2.6  立体障害アミン 例えばビス−(礼2.6.6−チトラメチルビベリジル
)セバケート、ビス−(i、 2.2゜6.6−チトラ
メチルビペリジル(セバケート、ビス−(1,2,2,
6,6−ペンタメチルピペリジル)n−ブチル−6,5
−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル−マロネー
ト、1−ヒドロキシエチル−2,2,6゜6−テトラメ
チル−4−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合生
成物卦よびN、  N’−(2,2,6,6−チトラメ
チルビペリジル)−へキサメチレンジアミンおよび4−
第三オクチルアミノ−2,6−ジクロロ−1゜3.5−
s−トリアジンとの縮合生成物、トリス−(2,2,6
,6−チトラメチルピベリジル)ニトリロトリアセテー
ト、テトラキス−(2,2,6,6−チトラメチルビベ
リジル)−1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸、
1.1’−(1,2−エタンジイル)−ビスー(3,3
,5,5−テトラメチル−ピペラジノン)。
2、Z  シュウ酸ジアミド 例ztは4.4’−ジ−オクチルオキシオキサニリド、
2,2′−ジ−オクチルオキシ−5,5′−ジー第三ブ
チルオキサニリド、2.2’−ジ−ドデシルオキシ−5
,5′−ジー第三ブチルオキサニリド、2−エトキシ−
27−エチルオキサニリド、N、N’−ビス−(5−ジ
メチルアミンプロピル)−オキサミド、2−エトキシ−
5−第三ブチル−2′−エチルオキサニリドおよびこれ
と2−エトキシ−27−エチル−5,4′−ジー第三ブ
チル−オキサニリドとの混合物、ならびにオルト−メト
キシおよびバラ−メトキシ二置換オキサニリドの混合物
および0−エトキシおよびp−エトキシニ置換オキサニ
リドの混合物。
3、 金属不活性化剤 例えばN、 N’−ジフェニルオキサミド、N−サリチ
ラールーN′−サリチロイルヒドラジン、N、 N’−
ビスサリチロイルヒドラジン、N、N’−ビス(3,5
−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニ
ル)−ヒドラジン、3−サリチロイルアミノ−1,2,
4−トリアゾールおよびビスーベンジリデンシュウ酸ジ
ヒドラジド。
例えばトリフェニルホスフィツト、ジフェニルアルキル
ホスフィツト、フェニルジアルキルホスフィツト、トリ
ー(ノニルフェニル)ホスフィツト、トリラウリルホス
フィツト、トリオクタデシルホスフィツト、ジステアリ
ルーペンタエリトリトールジホスフィット、トリス−(
2,4−ジー第三ブチルフェニル)ホスフィツト、ジイ
ソデシルーペンタエリトリトールジホスフィット、ジー
(2,4−ジー第三ブチルフェニル)−ペンタエリトリ
トールジホスフィット、トリステアリル−ソルビトール
トリホスフィツトおよびテトラキス−(2,4−ジー第
三ブチルフェニル)4.4′−ビフエニレンージホスホ
ニット。
戸ニー場!化物傘−盆濃J々−倶介−惣−例えばβ−チ
オ−ジプロピオン酸のエステル、例としてラウリルエス
テル、ステアリルエステル、ミリスチルエステルまたは
トリデシルエステル、メルカプトベンゾイミダゾール、
2−メルカプトベンゾイミダゾールの亜鉛塩、ジブチル
ジチオカルバミン酸亜鉛、ジオクタテシルジスルフィド
およびペンタエリトリトールテトラキス−(β−ドデシ
ルメルカプト)−プロピオネート。
(すl−ミド安定剤 例えばヨウ化物および/またはリン化合物と結合値した
銅塩および二価のマンガンの塩。
Z 塩基性補助安定剤 例えdメ2ミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジア
ミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジ
ン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタンならびに
高級脂肪酸のアルカリ金属およびアルカリ土類金属塩例
えばCaステアレート、Znステアレート、Mgステア
レート、Naリシル−ト、Kパルミテート、アンチモン
ビロヵテコレートまたハ亜鉛ビロカテコレート。
a 造核剤 例えば4−第三ブチル安息香酸、アジピン酸またはジフ
ェニル酢酸。
9 充填剤および補強剤、例えば炭酸カルシウム、珪酸
塩、ガラス繊維、石綿、タルク、カオリン、雲母、硫酸
バリウム、金属酸化物および金属水酸化物、カーボンブ
ラックおよび黒鉛。
10、  他の添加剤、例えば可塑剤、潤滑剤、乳化剤
、顔料、螢光増白剤、鮨燃剤、静電防止剤および発泡剤
本発明により製造された製品の安定剤としての効果を下
記の実施例により説明する。例中、製造例で得られた製
品のいくつかをテープとシートの安定化に使用する。
式Iで表わされる化合物の中のいくつかは米国特許第4
36シ321号の主題であるポリマーのための安定剤の
一種の製造中間体として既に同じ明細書中で出願人によ
り公知にされている。
驚くべきことに本発明者はこれらの化合物自体を合成ポ
リマーのための安定剤として使用することができ、しか
もいくつかの応用面では前記特許出願の安定剤よりも−
そう有効でNえあることを見出した。
但し式1で表わされる化合物の大部分は新規である。
実施例13 各々の場合、表1に示される製品o、 s y 、ペン
タエリトリトール テトラキス−3−(3,5−シー第
三フチルー4−ヒドロキシフェニル)−プロピオネート
1j!、ステアリン酸カルシウム1ノ、マスターバッチ
顔料〔フィロフィンブルー(Filofin Blue
 P600 ) 1y及び/シトインデックス3のポリ
プロピレン粉末〔プロパーb y  エッチエフ (P
ropathene HF )■18゜インペリアル 
ケミカル インダストリーズ(Imperial Ch
emical Industries lの製品〕10
00jFを低速混合機中で緊密に混合する。得られた混
合物を200ないし220℃の温度で押出してポリマー
粒を得、次に250℃における圧縮−射出によって厚さ
2喘のシートに変える。
4え7−4、い63’C0や。74え7.□オ   :
るウエザオメータ(Weather−軸eter ) 
65WR型(ASTM G 27−70 )の中に、7
0スト(白亜    :化)が始まるまで曝す。
比較のため、本発明による化合物を添加しない点を除い
ては上記と同一条件で製造したポリ    1プロピレ
ンシートを曝す。70ストが始まるのに要する曝露時間
[hr)t−表1に示す。
表  1 安定剤         70スト時間(hrlなし 
       500 実施例1の化合物   1,810 実施例4の化合物   1,600 実施例14 各々の場合、表2に示される化合物17、ぺ     
□ンタエリトリト〜ル テトラキス−3−(3,5−シ
ー第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−プロピオネ
ート1ノ、ステアリン酸カルシウ     。
ム1 、F−N マスター ハッーFA料[フィロフィ
ン      □■ ブルー (Filofin Blue )  600 
1 y及びメ/l/トインデックス3のポリプロピレン
粉末〔プロパーt’/  xッチ:r−7(Propa
then。HF )■、8 。
インペリアル ケミカル インダストリーズ(Impe
rial Chemical Industries 
)の製品〕10007を低速混合機中で緊密に混合する
。得られた混合物1200ないし220℃の温度で押出
してボυマー粒を得、次に250℃における圧縮−射出
によって厚さ2rn!nの平板に変える。
得た平板を白色カードに載せ温度63℃の黒色パネルを
有するウエザオメータ(−Weather −Omet
er ) 65 WR型(ASTM G27−70)の
中に、フロスト(白亜化)が始まるまで曝す。
比較のため、本発明による化合物を添加しない点を除い
ては上記と同一条件で製造したポリプロピレン平板を曝
す。
このようなフロストが始まるに要する曝露時間Chr3
を表2に示す。
表  2 安 定 剤      フロスト時間(hr)な   
し                      50
0実施例1の化合物     2,850実施例2の化
合物     2,690実施例3の化合物     
2,850実施例5の化合物     2,505実施
例7の化合物     2,940実施例8の化合物 
    2,690実施例9の化合物     2,8
50実施例10の化合物     2,690実施例1
1の化合物     2,510特許出願人 チバーガ
イギー ゝルー1−z rrv アq−rKy(ほか1
名)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (11次式I: 〔式中、R1は炭素原子数1ないし12のアルキル基、
    炭素原子数3ないし12のアルケニル基、炭素原子数5
    ない1712のシクロアルキル基または未置換のフェニ
    ル基もしくはヒドロキシフェニル基または1ないし3個
    の炭素原子数1ないし4のアルキル基;または未置換の
    または1ないし3個の炭素原子数1ないし4のアルキル
    基により置換されたベンジル基もしくはヒドロキシ、ベ
    ンジル基によって置換されたフェニル基も己<はヒドロ
    キシフェニル基を表わし、R2は炭素原子数1ないし1
    8のアルキレン基、炭素原子数5ないし18のシクロア
    ルキレン基、炭素原子数6ないし18のアリーレン基、
    炭素原子数7ないし18のアルアルキレン基または次式
    Ilニー R3−←X  R4+「(■) (式中、R3及びR4は炭素原子数2ないし6のアルキ
    レン基を表わして同一のものでも、異なるものでもよく
    、nは1または2を表わし、そしてXは一〇−または−
    N−i表わし、5 そしてR5は炭素原子数1ないし12のアルキル基、炭
    素原子数5ないし12のシクロアルキル基、炭素原子数
    6ないし12のアリール基、炭素原子数7ないし12の
    アルアルキル基、2.2.6.6−チトラメチルービペ
    リジンー4−イル基または−COOR+基を表わしR1
    が上記で定義したものと同じ意味を表わす。)で表わさ
    れる基を表わす。〕で表わされる化合物の合成ポリマー
    のための光安定剤、熱安定剤及び酸化安定剤としての使
    用方法。 (2)  式1において、RIが炭素原子数1ないし8
    のアルキル基、炭素原子数6ないし8のアルケニル基、
    シクロヘキシル基、フェニル基マ/Cはベンジル基を表
    わし、R2が炭素原子数1−qいl、6のアルキレン基
    、シクロへギシレン基、フェニレン基またはキシリレン
    基を表わし、R3及びR4が炭素原子数2ないし4のア
    ルキレン基金表わし、そしてR5が−COOR,基を表
    わし、該基中のR1が上記で定義したのと同じ意味を表
    わす化合物を合成ポリマーのための光安定剤、熱安定剤
    及び酸化安定剤として使用する特許請求の範囲第1項記
    載の方法。 (3)式IにおいてR,が炭素原子数1ないし4のアル
    キル基を表わしそ]〜てR2が炭素原子数2ないし6の
    アルキレン基を表わす化合物を合成ポリマーのための光
    安定剤、熱安定剤及び酸化安定剤として使用する特許請
    求の範囲第1項記載の方法。 (41N、N’−ビス−(メトキシカルボニル)−N、
     N’ −ビス−(2,2,6,6−チトラメチルービ
    ペリジンー4−イル)−へキサメチレンジアミンを合成
    ポリマーのための光安定剤、熱安定剤及び酸化安定剤と
    して使用する特許請求の範囲第1項記載の方法。 (5)N、N’−ビス−(エトキシカルボニル)−N。 N’−ビス−(2,2,6,6−チトラメチルービベリ
    ジンー4−イル)−へキサメチレンジアミンを合成ポリ
    マーのだめの光安定剤、熱安定剤及び酸化安定剤として
    使用する特許請求の範囲第1項記載の方法。 (6)  次式■: 〔式中、R,は炭素原子数1ないし12のアルキル基、
    炭素原子数3ないし12のアルケニル基、炭素原子数5
    ないし12のシクロアルキル基または未置換のフェニル
    基もしくはヒドロキシフェニル基または1ないし3個の
    炭素原子数1ないし4のアルキル基;または未置換のま
    たは1ないし3個の炭素原子数1ないし4のアルキル基
    により置換されたベンジル基もしくはヒドロキシベンジ
    ル基にょって置換されたフェニル基もしくはヒドロキシ
    フェニル基金表わし、R2は炭素原子数1ないし18の
    アルキレン基、炭素原子数5ないし18のシクロアルキ
    レン基、炭素原子数6ないし18のアリーレン基、炭素
    原子数7ないし18のアルアルキレン基または次式■ニ
    ーR3−←X −R4刊−fill) (式中、R3及びR4は炭素原子数2ないしろのアルキ
    レン基を表わして同一のものでも、異なるものでもよく
    、nは1または2を表ゎし、そしてXは一〇−または−
    N−を表わし、5 ぞしてR5は炭素原子数1ないし12のアルキル基、炭
    素原子数5ないし12のシクロアルキル基、炭素原子数
    6ないし12のアリール基、炭素原子数7ないし12の
    アルアルキル基、2.2.6.6−チトラメチルービベ
    リジンー4−イル基または−C00R+基を表わし、R
    1が上記で定義したものと同じ意味を表わす。)で表わ
    される基を表わす。〕で表わされる一種または複数種の
    安定剤を合成ポリマーの重量に対して001ないし5重
    量%の量で含有する光安定、熱安定及び酸化安定化され
    たボIJマー組成物。 (7)式■で表わされる安定剤に加えて他の合成ポリマ
    ー用の慣用添加剤全含有する特許請求の範囲第6項記載
    の組成物。 (8)  合成ポリマーがポリエチレン捷たはポリプロ
    ピレンである特許請求の範囲第6項記載の組成物。 (9)  次式I: 〔式中、R1は炭素原子数3ないし12のアルキル基、
    炭素原子数6ないし12のアルケニル基、炭素原子数3
    ないし12のシクロアルキル基または未置換のフェニル
    基もしくはヒドロキシフェニル基または1ないし6個の
    炭素原子数1ないし4のアルキル基:または未置換の、
    または1ないし3個の炭素原子数1ないし4のアルキル
    基により置換されたベンジル基もしくはヒドロキシベン
    ジル基によって置換されたフェニル基もしくはヒドロキ
    シフェニル基金表わし、R2は炭素原子数1ないし18
    のアルキレン基、炭素原子数5ないし18のシクロアル
    キレン基、炭素原子数6ないし18のアリーレン基、炭
    素原子数7ないし18のアルアルキレン基または次式I
    I:Rs→XR4→−(II) (式中、R3及びR4は同一でも異なっていてもよくて
    炭素原子数2ないし6のアルキレン基を表わし、nは1
    または2を表わし、そしてXは一〇−または−N−を表
    わし、そしてR55 は炭素原子数1ないし12のアルキル基、炭素原子数5
    ないし12のシクロアルキル基、炭素原子数6ないし1
    2のアリール基、炭素原子数7ないし12のアルアルキ
    ル基、2.2゜6.6−チトラメチルービペリジンー4
    −イル基または−C00R,基を表わし、R,が上記で
    定義したものと同じ意味を表わす。)で表わされる基を
    表わす。〕で表わされる化合物。
JP59089158A 1983-05-03 1984-05-02 合成ポリマー用安定剤として有用なジピペリジン―ジ―カーバメート Expired - Lifetime JPH0643396B2 (ja)

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