JPH0218330B2 - - Google Patents
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- JPH0218330B2 JPH0218330B2 JP56184336A JP18433681A JPH0218330B2 JP H0218330 B2 JPH0218330 B2 JP H0218330B2 JP 56184336 A JP56184336 A JP 56184336A JP 18433681 A JP18433681 A JP 18433681A JP H0218330 B2 JPH0218330 B2 JP H0218330B2
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- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
- C08K5/34—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
- C08K5/3412—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having one nitrogen atom in the ring
- C08K5/3432—Six-membered rings
- C08K5/3435—Piperidines
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D211/00—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings
- C07D211/04—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D211/06—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D211/36—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D211/40—Oxygen atoms
- C07D211/44—Oxygen atoms attached in position 4
- C07D211/46—Oxygen atoms attached in position 4 having a hydrogen atom as the second substituent in position 4
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Description
本発明はポリアルキルピペリジン誘導体の新規
エステル混合物、その製造方法およびそれを含有
する高分子物質用安定剤に関する。 ビス−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−
４−ピペリジニル）セバケートのようなポリアル
キルピペリジンエステルは米国特許第4021432号
明細書にプラスチツク用光安定剤として開示され
ている。この種の公知安定剤は実用するには必ら
ずしも満足すべき結果が得られなかつた。特に固
体物質を使用する場合には、必要に応じ溶液の形
で使用する場合にも、例えば光に対して安定なラ
ツカー、例えば自動車用ラツカーを製造する際
に、問題を起す欠点が実際に生ずる。この理由
で、公知の光安定剤は溶媒含有率の低い（固形分
の高い）ラツカー系に使用するには適当でない。 本発明の目的は、これらの欠点を全く有しない
かまたは非常にわずかな程度しか有さず、特に基
質との相溶性に優れ、基質に簡単に混和し、迅速
かつ均一に分散し、これにより光の有害な影響か
ら効果的かつ持続的に基質を保護することのでき
る新規光安定剤を提供することにある。 従つて、本発明は、一般式（） （式中、R1は水素原子を表し；R2は水素原子、
炭素原子数１乃至４のアルキル基またはベンジル
基を表し；R3は炭素原子数２乃至10のアルキレ
ン基を表す）のポリアルキルピペリジン誘導体を
98−60重量％および一般式（） （式中、R1、R2およびR3は式と同じに定義さ
れ；R4は炭素原子数１乃至４のアルキル基を表
す）のポリアルキルピペリジン誘導体を２−40重
量％含有するエステル混合物に関する。 炭素原子数１ないし４のアルキル基としての
R2は、好ましくは直鎖のアルキル基、例えばエ
チル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基及び特に
メチル基である。 炭素原子数２ないし10のアルキレン基としての
R3は、分枝鎖または好ましくは直鎖のアルキレ
ン基、例えばメチレン基、エチレン基、トリメチ
レン基、テトラメチレン基、ヘキサメチレン基、
デカメチレン基、最も特にオクタメチレン基であ
る。 炭素原子数１ないし４のアルキル基としての
R4は、例えばエチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−
プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基または
好ましくはメチル基である。 一般式（）及び（）のエステルの好ましい
混合物は、R2はメチル基またはベンジル基を表
し、R4はメチル基を表すエステルの混合物であ
る。 一般式（）及び（）のエステルの最も好ま
しい混合物は、R2はメチル基を表し、R3はオク
タメチレン基を表し、R4はメチル基を表すエス
テルの混合物である。 一般式（）のエステル90〜70重量％と一般式
（）のエステル10〜30重量％とを含むエステル
混合物が好ましい。 本発明によるエステル混合物は、自体公知の方
法、例えば一般式（） （式中R1及びR2は前記のものを表す）のピペリ
ジンの２モル部を一般式（） （式中、R3及びR4は前記のものを表す）のジエ
ステルの1.01−1.5モル部と反応させることによ
つて製造することができる。反応に使用する操作
は、エステル交換に常用の操作であるのが好まし
い。しかしながら、必要に応じて一般式（）及
び（）の成分を別々に自体公知の方法で製造
し、必要に応じこれらの成分を精製し、次に一般
式（）及び（）の成分を混合することもでき
る。 出発物質は公知である。なお新規である物質
は、公知出発物質を製造するのと同様の方法によ
つて製造することができる。 本発明によれば、一般式（）及び（）のエ
ステルの混合物は、酸素、熱及び特に光の作用に
よつて起る損傷に対して高分子物質を保護するた
め安定剤として使用することができる。このよう
な高分子物質の例を以下に列挙する： １ モノオレフイン及びジオレフインのポリマ
ー、例えばポリエチレン（架橋されていてよ
い）、ポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポ
リブト−１−エン、ポリメチルペント−１−エ
ン、ポリイソプレンまたはポリブタジエン、及
びシクロオレフイン、例えばシクロペンテン若
しくはノルボルネンのポリマー。 ２ 前記１）に挙げたポリマーの混合物、例えば
ポリプロピレンとポリエチレンまたはポリイソ
ブチレンとの混合物。 ３ モノオレフイン及びジオレフインの相互のコ
ポリマーまたは他のビニルモノマーとのコポリ
マー、例えばエチレン／プロピレンコポリマ
ー、プロピレン／ブト−１−エンコポリマー、
プロピレン／イソブチレンコポリマー、エチレ
ン／ブト−１−エンコポリマー、プロピレン／
ブタジエンコポリマー、イソブチレン／イソブ
チレンコポリマー、エチレン／アルキルアクリ
レートコポリマー、エチレン／アルキルメタク
リレートコポリマー、エチレン／酢酸ビニルコ
ポリマー、またはエチレン／アクリル酸コポリ
マー及びその塩（イオノマー）、並びにエチレ
ンとプロピレン及びジエン、例えばヘキサジエ
ン、ジシクロペンタジエンまたはエチリデンノ
ルボルネンとのターポリマー。 ４ ポリスチレン ５ スチレンまたはα−メチルスチレンとジエ
ン、またはアクリル誘導体とのコポリマー、例
えばスチレン／ブタジエン、スチレン／アクリ
ロニトリル、スチレン／アルキルメタクリレー
ト、スチレン／アクリロニトリル／アクリル酸
メチルコポリマー；スチレンコポリマー及び別
のポリマー、例えばポリアクリレート、ジエン
ポリマーまたはエチレン／プロピレン／ジエン
ターポリマーから得られた衝撃強度の高い混合
物：及びスチレンのブロツクコポリマー、例え
ばスチレン／ブタジエン／スチレン、スチレ
ン／イソプレン／スチレン、スチレン／エチレ
ン−ブチレン／スチレン、またはスチレン−エ
チレン／プロピレン−スチレンのブロツクコポ
リマー。 ６ スチレンのグラフトコポリマー、例えばスチ
レンとポリブタジエン、スチレン及びアクリロ
ニトリルとポリブタジエン、スチレン及びマレ
イン酸無水物とポリブタジエン、スチレン及び
アクリル酸アルキルまたはメタクリル酸アルキ
ルとポリブタジエン、スチレン及びアクリロニ
トリルとエチレン−プロピレン−ジエンターポ
リマー、スチレン及びアクリロニトリルとポリ
アルキルアクリレートまたはポリアルキルメタ
クリレート、スチレン及びアクリロニトリルと
アクリレート−ブタジエンコポリマー、及びこ
れらの混合物と５）に列挙した、例えばABS、
MBS、ASAまたはAESポリマーとして知られ
ているコポリマーとのグラフトコポリマー ７ ハロゲン含有ポリマー、例えばポリクロロプ
レン、塩素化ゴム、塩素化若しくはクロロスル
ホン化ポリエチレン、特にハロゲン化ビニル化
合物のポリマー、例えばポリ塩化ビニル、ポリ
塩化ビニリデン、ポリ弗化ビニル、ポリ弗化ビ
ニリデン及びこれらのコポリマー、例えば塩化
ビニリデン、塩化ビニル／酢酸ビニルまたは塩
化ビニリデン／酢酸ビニルコポリマー。 ８ α，β−不飽和酸及びその誘導体から誘導さ
れたポリマー、例えばポリアクリレート及びポ
リメタクリレート、ポリアクリルアミド及びポ
リアクリロニトリル。 ９ 前記８）に挙げたモノマーと別のモノマーま
たは他の不飽和モノマーとのコポリマー、例え
ばアクリロニトリル／ブタジエンコポリマー、
アクリロニトリル／アルキルアクリレートコポ
リマー、アクリロニトリル／塩化ビニルコポリ
マーまたはアクリロニトリル／アルキルメタク
リレート／ブタジエンコポリマー。 10 不飽和アルコール及びアミンまたはそのアシ
ル誘導体またはアセタールから誘導されたポリ
マー、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸
ビニル、ポリビニルステアレート、ポリビニル
ベンゾエート、ポリビニルマレエート、ポリビ
ニルブチラール、ポリアリルフタレート、ポリ
アリルメラミン。 11 環状エーテルのホモポリマー及びコポリマ
ー、例えばポリエチレングリコール、ポリエチ
レンオキシド、ポリプロピレンオキシドまたは
これらとビス−グリシジルエーテルとのコポリ
マー。 12 ポリアセタール、例えばポリオキシメチレ
ン、及びコモノマー、例えばエチレンオキシド
を含むポリオキシメチレン。 13 ポリフエニレンオキシド及びスルフイド。 14 ヒドロキシ末端基を含むポリエーテル、ポリ
エステル及びポリブタジエンと他方の成分であ
る脂肪族または芳香族ポリイソシアネート及び
これらの前駆物質とから誘導されたポリウレタ
ン。 15 ジアミン及びジカルボン酸及び／またはアミ
ノカルボン酸または相応するラクタムから誘導
されたポリアミド及びコポリアミド、例えばポ
リアミド４、ポリアミド６、ポリアミド66、ポ
リアミド610、ポリアミド11、ポリアミド12、
ポリ−２，４，４−トリメチルヘキサメチレン
テレフタルアミド、ポリ−ｍ−フエニレン、イ
ソフタルアミド、及びこれらとポリエーテル、
例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレ
ングリコールまたはポリテトラメチレングリコ
ールとのコポリマー。 16 ポリ尿素、ポリイミド及びポリアミドイミ
ド。 17 ジカルボン酸及びジアルコール及び／または
オキシカルボン酸または相応するラクトンから
誘導されたポリエステル、例えばポリエチレン
テレフタレート、ポリブチレンテレフタレート
及びポリ−１，４−ジメチロールシクロヘキサ
ンテレフタレート、及び更にヒドロキシ未端基
円を有するポリエーテル及びジカルボン酸から
誘導されたブロツクポリエーテルエステル。 18 ポリカーボネート。 19 ポリスルホン及びポリエーテルスルホン。 20 一方の成分としてアルデヒド及び他方の成分
としてフエノール、尿素及びメラミンから誘導
された架橋ポリマー、例えばフエノール−ホル
ムアルデヒド樹脂、尿素・ホルムアルデヒド樹
脂及びメラミン−ホルムアルデヒド樹脂。 21 乾性及び不乾性アルキド樹脂。 22 飽和及び不飽和ジカルボン酸と多価アルコー
ル及び架橋剤としてビニル化合物のコポリエス
テルから誘導された不飽和ポリエステル樹脂並
びに燃焼性の低いハロゲン含有変性物。 23 置換アクリル酸エステル、例えばエポキシア
クリレート、ウレタンアクリレートまたはポリ
エステルアクリレートから誘導された架橋アク
リル樹脂。 24 メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリイソシアネー
トまたはエポキシ樹脂で架橋されたアルキド樹
脂、ポリエステル樹脂及びアクリレート樹脂。 25 ポリエポキシド、例えばビス−グリシジルエ
ーテル、または脂環式ジエポキシドから誘導さ
れた架橋エポキシ樹脂。 26 天然ポリマー、例えばセルロース、ゴム及び
ゼラチン、並びにこれらの化学的に変性された
重合同族体誘導体、例えば酢酸セルロース、プ
ロピオン酸セルロース及び酪酸セルロース、及
びセルロースエーテル、例えばメチルセルロー
ス。 ラツカーの安定化は特に重要である。 安定剤を、安定化すべき材料に対して0.01〜５
重量％の濃度で高分子物質中に配合する。安定化
すべき材料に対して好ましくは0.03〜1.5重量％、
最も好ましくは0.2〜0.6重量％の化合物を配合す
る。 重合後に例えば化合物及び必要に応じ更に添加
剤を融液中にこの分野に常用の方法で、成形前ま
たは成形後に混合するか、また溶解若しくは分散
した化合物ポリマーに施し、その後必要に応じ溶
媒を蒸発することによつて配合を行なうことがで
きる。 新規混合物を、これらの化合物を例えば2.5〜
25重量％の濃度で含むマスターバツチの形で、安
定化すべき高分子物質に添加することもできる。 架橋ポリエチレンを使用する場合には、化合物
を架橋前に添加する。 一般式（）及び（）のエステルの混合物と
共に、なお別の公知安定剤及び共安定剤を高分子
物質中に配合することもできる。これらの安定剤
は例えば下記のものであつてもよい： １ 酸化防止剤 1.1 アルキル化モノフエノール ２，６−ジ−tert−ブチル−４−メチルフ
エノール、２−tert−ブチル−４，６−ジメ
チルフエノール、２，６−ジ−tert−ブチル
−４−エチルフエノール、２，６−ジ−tert
−ブチル−４−ｎ−ブチルフエノール、２，
６−ジ−tert−ブチル−４−ｉ−ブチルフエ
ノール、２，６−ジ−シクロペンチル−４−
メチルフエノール、２−（α−メチルシクロ
ヘキシル）−４，６−ジメチルフエノール、
２，６−ジ−オクタデシル−４−メチルフエ
ノールまたは２，４，６−トリ−シクロヘキ
シルフエノール。 1.2 アルキル化ヒドロキノン ２，６−ジ−tert−ブチル−４−メトキシ
フエノール、２，５−ジ−tert−ブチル−ヒ
ドロキノンまたは２，５−ジ−tert−アミル
−ヒドロキノン。 1.3 ヒドロキシル化チオフエニルエーテル ２，2′−チオ−ビス−（６−tert−ブチル−
４−メチルフエノール）、２，2′−チオ−ビ
ス−（４−オクチルフエノール）、４，4′−チ
オ−ビス−（６−tert−ブチル−３−メチル
フエノール）または４，4′−チオ−ビス−
（６−tert−ブチル−２−メチル−フエノー
ル）。 1.4 アルキリデン−ビスフエノール ２，2′−メチレン−ビス−（６−tert−ブチ
ル−４−メチルフエノール）、２，2′−メチ
レン−ビス−（６−tert−ブチル−４−エチ
ルフエノール）、２，2′−メチレン−ビス−
〔４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシ
ル）−フエノール〕、２，2′−メチレン−ビス
−（４−メチル−６−シクロヘキシルフエノ
ール）、２，2′−メチレン−ビス−（６−ノニ
ル−４−メチルフエノール）、２，2′−メチ
レン−ビス−（４，６−ジ−tert−ブチルフ
エノール）、２，2′−エチリデン−ビス−４，
６−ジ−tert−ブチルフエノール）、２，2′−
エチリデン−ビス−（６−tert−ブチル−４
−イソブチルフエノール）、４，4′−メチレ
ン−ビス−（２，６−ジ−tert−ブチルフエ
ノール）、４，4′−メチレン−ビス−（６−
tert−ブチル−２−メチル−フエノール）、
１，１−ビス−（５−tert−ブチル−４−ヒ
ドロキシ−２−メチルフエニル）−ブタン、
２，６−ジ−（３−tert−ブチル−５−メチ
ル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチル
フエノール、１，１，３−トリス−（５−
tert−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチル
フエニル）−ブタン、１，１−ビス−（５−
tert−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチル
フエニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブ
タン、エチレングリコールビス−〔３，３−
ビス−（3′−tert−ブチル−4′−ヒドロキシフ
エニル）−ブチレート〕、ジ−（３−tert−ブ
チル−４−ヒドロキシ−５−メチルフエニ
ル）−ジシクロペンタジエンまたはジ−〔２−
（3′−tert−ブチル−2′−ヒドロキシ−5′−メ
チル−ベンジル）−６−tert−ブチル−４−
メチル−フエニル〕テレフタレート。 1.5 ベンジル化合物 １，３，５−トリ−（３，５−ジ−tert−
ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，
６−トリメチルベンゼン、ジ−（３，５−ジ
−tert−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンジ
ル）スルフイド、イソオクチル３，５−ジ−
tert−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンジル−
メルカプトアセテート、ビス−（４−tert−
ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチル
ベンジル）−ジチオ−ルテレフタレート、１，
３，５−トリス（３，５−ジ−tert−ブチル
−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレー
ト、１，３，５−トリス−（４−tert−ブチ
ル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベン
ジル）イソシアヌレート、ジオクタデシル
３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒドロキシ
−フエニル−ホスホネートまたはモノエチル
３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジル−ホスホネート。 1.6 アシルアミノフエノール ４−ヒドロキシ−ラウリン酸アニリド、４
−ヒドロキシ−ステアリン酸アニリドまたは
２，４−ビス−オクチルメルカプト−６−
（３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒドロキ
シアニリノ）−ｓ−トリアジン。 1.7 β−（３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒド
ロキシフエニル）−プロピオン酸と１価また
は多価アルコールとのエステル、例えばβ−
（３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒドロキ
シフエニル）−プロピオン酸とメタノール、
オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオー
ル、ネオペンチルグリコール、チオジエチレ
ングリコール、ジエチレングリコール、トリ
エチレングリコール、ペンタエリトリトー
ル、トリス−ヒドロキシエチルイソシアヌレ
ートまたはジ−ヒドロキシエチル−オキサル
アミドとのエステル。 1.8 β−（５−tert−ブチル−４−ヒドロキシ−
３−メチルフエニル）−プロピオン酸と１価
または多価アルコールとのエステル、例えば
β−（５−tert−ブチル−４−ヒドロキシ−
３−メチルフエニル）プロピオン酸とメタノ
ール、オクタデカール、１，６−ヘキサンジ
オール、ネオペンチルグリコール、チオジエ
チレングリコール、ジエチレングリコール、
トリエチレングリコール、ペンタエリトリツ
ト、トリス−ヒドロキシエチルイソシアヌレ
ートまたはジ−ヒドロキシエチル−オキサル
アミドとのエステル。 1.9 β−（３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒド
ロキシフエニル）−プロピオン酸アミド、 例えばＮ，N′−ジ−（３，５−ジ−tert−
ブチル−４−ヒドロキシフエニルプロピオニ
ル）−ヘキサメチレンジアミン、Ｎ，N′−ジ
−（３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒドロ
キシフエニルプロピオニル）−トリメチレン
ジアミンまたはＮ，N′−ジ−（３，５−ジ−
tert−ブチル−４−ヒドロキシフエニルプロ
ピオニル）−ヒドラジン。 ２ 紫外線吸収剤及び光安定剤 2.1 ２−（2′−ヒドロキシフエニル）−ベンゾト
リアゾール、例えば5′−メチル−、3′，5′−
ジ−tert−ブチル−、5′−tert−ブチル、5′−
（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−、
５−クロロ−3′，5′−ジ−tert−ブチル−、
５−クロロ−3′−tert−ブチル−5′−メチル
−、3′−sec−ブチル−5′−tert−ブチル−、
4′−オクトキシ−、3′，５−ジ−tert−アミ
ル−、3′，5′−ジ−（１，１，３，３−テト
ラメチルブチル）−及び3′，5′−ジ−（α，α
−ジメチルベンジル）−２−（2′−ヒドロキシ
フエニル）−ベンゾトリアゾール。 2.2 ２−ヒドロキシベンゾフエノン、例えば４
−ヒドロキシ、４−メトキシ−、４−オクト
キシ−、４−デシルオキシ−、４−ドデシル
オキシ−、４−ベンジルオキシ−、４，2′，
4′−トリヒドロキシ−及び2′−ヒドロキシ−
４，4′−ジメトキシ−誘導体。 2.3 置換及び未置換安息香酸のエステル、例え
ば４−tert−ブチル−フエニルサリチレー
ト、フエニルサリチレート、オクチルフエニ
ルサリチレート、ジベンゾイルレゾルシノー
ル、ビス−（４−tert−ブチルベンゾイル）−
レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール
及び２，４−ジ−tert−ブチル−フエニル
３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒドロキシ
ベンゾエート。 2.4 アクリレート、例えばエチルα−シアノ−
β，β−ジフエニルアクリレート、イソオク
チルα−シアノ−β，β−ジフエニルアクリ
レート、メチルα−カルボメトキシ−シンナ
メート、メチルα−シアノ−β−メチル−Ｐ
−メトキシ−シンナメート、ブチルα−シア
ノ−β−メチル−Ｐ−メトキシ−シンナメー
ト、メチルβ−カルボメトキシ−Ｐ−メトキ
シ−シンナメート及びＮ−（β−カルボメト
キシ−β−シアノビニル）−２−メチル−イ
ンドリン。 2.5 ニツケル化合物、例えば２，2′−チオ−ビ
ス−〔４−（１，１，３，３−テトラメチルブ
チル）−フエノール〕のニツケル錯体、例え
ば必要に応じｎ−ブチルアミン、トリエタノ
ールアミンまたはＮ−シクロヘキシル−ジエ
タノールアミンのような付加的配位子を有す
る１：１錯体または１：２錯体、ニツケルジ
ブチルジチオカルバメート、４−ヒドロキシ
−３，５−ジ−tert−ブチル−ベンジル−ホ
スホン酸モノアルキルエステルのニツケル
塩、例えばメチルまたはエチルエステルのニ
ツケル塩、ケトキシムのニツケル錯体、例え
ば２−ヒドロキシ−４−メチル−フエニルウ
ンデシルケトンオキシムのニツケル錯体及び
１−フエニル−４−ラウロイル−５−ヒドロ
キシ−ピラゾールの、必要に応じ付加的配位
子を有するニツケル錯体。 2.6 立体障害を有するアミン、例えばビス−
（２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）
セバケート、ビス−（１，２，２，６，６−
ペンタメチルピペリジル）セバケート、ビス
−（１，２，２，６，６−ベンタメチルピペ
リジル）ｎ−ブチル−３，５−ジ−tert−ブ
チル−４−ヒドロキシ−ベンジル−マロネー
ト、１−ヒドロキシエチル−２，２，６，６
−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジン
及びコハク酸の縮合生成物、Ｎ，N′−（２，
２，６，６−テトラメチルピペリジル）−ヘ
キサメチレンジアミン及び４−tert−オクチ
ルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−
ｓ−トリアジンの縮合生成物、及びトリス−
（２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）
ニトリロトリアセテート。 2.7 蓚酸ジアミド、例えば４−4′−ジ−オクチ
ルオキシ−オキサアニリド、２，2′−ジ−オ
クチルオキシ−５，5′−ジ−tert−ブチル−
オキサアニリド、２，2′−ジ−ドデシルオキ
シ−５，5′−ジ−tert−ブチル−オキサアニ
リド、２−エトキシ−2′−エチル−オキサア
ニリド、Ｎ，N′−ビス−（３−ジメチルアミ
ノプロピル）−オキサルアミド、２−エトキ
シ−５−tert−ブチル−2′−エチル−オキサ
アニリド、及びその２−エトキシ−2′−エチ
ル−５，4′−ジ−tert−ブチル−オキサアニ
リドとの混合物、オルト−及びパラ−メトキ
シ−ジ置換オキサアニリドの混合物並びにｏ
−及びｐ−エトキシ−ジ置換オキサアニリド
の混合物。 ３ 金属不活性化剤、例えばＮ，N′−ジフエニ
ル蓚酸ジアミド、Ｎ−サリチラール−N′−サ
リチロイルヒドラジン、Ｎ，N′−ビス−サリ
チロイルヒドラジン、Ｎ，N′−ビス−（３，５
−ジ−tert−ブチル−ヒドロキシフエニルプロ
ピオニル）−ヒドラジン、３−サリチロイルア
ミノ−１，２，４−トリアゾール及びビス−ベ
ンジリデン−蓚酸ジヒドラジド。 ４ ホスフアイト及びホスホナイト、例えばトリ
フエニルホスフアイト、ジフエニルアルキルホ
スフアイト、フエニルジアルキルホスフアイ
ト、トリ（ノニルフエニル）ホスフアイト、ト
リラウリルホスフアイト、トリオクタデシルホ
スフアイト、ジステアリル−ペンタエリトリツ
トジホフアイト、トリス−（２，４−ジ−tert
−ブチルフエニル）ホスフアイト、ジイソデシ
ル−ペンタエリトリツトジホスフアイト、ジ−
（２，４−ジ−tert−ブチルフエニル）−ペンタ
エリトリトールジホスフアイト、トリステアリ
ルソルビトールトリホスフアイト及びテトラキ
ス−（２，４−ジ−tert−ブチルフエニル）−
４，4′−ビフエニレンジホスホナイト。 ５ 過酸化物を分解する化合物、例えばβ−チオ
ージプロピオン酸のエステル、例えばラウリル
エステル、ステアリルエステル、ミリスチルエ
ステルまたはトリデシルエステル、メルカプト
ベンゾイミダゾール、２−メルカプトベンゾイ
ミダゾールの亜鉛塩、亜塩ジブチルジチオカル
バメート、ジオクタデシルジスルフイド及びペ
ンタエリトリツトテトラキス−（β−ドデシル
メルカプト）プロピオネート。 ６ ポリアミド安定剤、例えば沃化物と共に銅塩
及び／または燐化合物及び２価マンガンの塩。 ７ 塩基性共安定剤、例えばメラミン、ポリビニ
ルピロリドン、ジシアンジアミド、トリアリル
シアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導
体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級
脂肪酸のアルカリ金属塩及びアルカリ土類金属
塩、例えばステアリン酸カルシウム、ステアリ
ン酸亜鉛、ステアリン酸マグネシウム、リシノ
ール酸ナトリウム及びパルミチン酸カリウム、
ピロカテコール酸アンチモンまたはピロカテコ
ール酸錫。 ８ 核形成剤、例えば４−tert−ブチル安息香
酸、アジピン酸及びジフエニル酢酸。 ９ 充填剤及び補強剤、例えば炭酸カルシウム、
珪酸塩、ガラス繊維、石綿、タルク、カオリ
ン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物及び金属
水酸化物、カーボンブラツク及びグラフアイ
ト。 10 他の添加剤、例えば可塑性、滑沢剤、乳化
剤、顔料、螢光増白剤、防炎剤、帯電防止剤及
び発泡剤。 この種の常用の公知添加剤は、一般式（）及
び（）のエステルの混合物と相溶性であるばか
りでなく、個々の場合に相剰効果を生じうる。 従つて、本発明は一般式（）及び（）のエ
ステルの混合物を0.01〜５重量％添加することに
より安定化された高分子物質に関し、該高分子物
質は必要に応じ更に別の常用の公知添加剤を含ん
でいてもよい。こうして安定化された高分子物質
は極めて多様な形で、例えばフイルム、繊維、リ
ボン、形材またはシートとして、または射出成形
品として使用することができる。これらの高分子
物質はまた、発泡体の形で使用することもでき
る。更に、これらの高分子物質をラツカー用結合
剤、接着剤またはパテとして、更にコーテイング
材料及び写真材料における基材として使用するこ
ともできる。 次に、実施例に基づいて本発明を詳述するが、
本発明はこれに限定されるものではない。 実施例 １ セバシン酸ジメチル230.3ｇ（１モル）及び１，
２，２，６，６−ペンタメチル−４−ヒドロキシ
−ピベリジン308.3ｇ（1.8モル）をキシレン120
mlと共に約135℃に弱い窒素流下に加熱する。混
合物の全体的脱水を行うため、約20mlのキシレン
を留去する。次に反応混合物にテトラブチルオル
トチタネート１ｇを加え、混合物を130〜140℃で
弱い窒素流下に加熱する。メタノール／キシレン
の普通の蒸留が極めてすぐに開始する。内部温度
を３〜４時間にわたつて160℃に上昇させ、フラ
スコ内容物を更にこの温度で、約10時間後に何も
実際に留出しなくなるまで撹拌する。溶媒の最後
の痕跡を高度真空下に約110℃／0.001mmHgで蒸
留することにより除去し、フラスコ中の残分をガ
ラスフリツトにより澄明にする。生ずる淡黄色の
油状液体はビス−（１，２，２，６，６−ペンタ
メチル−４−ピペリジニル）セバケート約85％及
びモノ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−
４−ピペリジニル）モノメチルセバケート約15％
から成る混合物である。 実施例 ２ 本発明のエステル混合物の結晶化傾向 本発明のエステル混合物の結晶化傾向は、一般
式（）の成分及び一般式（）の成分の混合比
に左右される。用途によつては、少量の一般式
（）の成分で充分である。しかしながら安定な
流体エステル混合物が望ましい場合には、一般式
（）の成分の量を少し増加することができる。 ビス−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−
４−ピペリジニル）セバケートを一般式（）の
成分として使用し、モノ−（１，２，２，６，６
−ペンタメチル−４−ピペリジニル）モノメチル
−セバケートを一般式（）の成分として使用す
る。 エステル混合物を０℃及び−20℃で貯蔵し、混
合物が完全に結晶化するまでの時間を測定する。
この時間が長いことは、エステル混合物の流体コ
ンシステンシーの安定性の増加を意味する。
エステル混合物、その製造方法およびそれを含有
する高分子物質用安定剤に関する。 ビス−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−
４−ピペリジニル）セバケートのようなポリアル
キルピペリジンエステルは米国特許第4021432号
明細書にプラスチツク用光安定剤として開示され
ている。この種の公知安定剤は実用するには必ら
ずしも満足すべき結果が得られなかつた。特に固
体物質を使用する場合には、必要に応じ溶液の形
で使用する場合にも、例えば光に対して安定なラ
ツカー、例えば自動車用ラツカーを製造する際
に、問題を起す欠点が実際に生ずる。この理由
で、公知の光安定剤は溶媒含有率の低い（固形分
の高い）ラツカー系に使用するには適当でない。 本発明の目的は、これらの欠点を全く有しない
かまたは非常にわずかな程度しか有さず、特に基
質との相溶性に優れ、基質に簡単に混和し、迅速
かつ均一に分散し、これにより光の有害な影響か
ら効果的かつ持続的に基質を保護することのでき
る新規光安定剤を提供することにある。 従つて、本発明は、一般式（） （式中、R1は水素原子を表し；R2は水素原子、
炭素原子数１乃至４のアルキル基またはベンジル
基を表し；R3は炭素原子数２乃至10のアルキレ
ン基を表す）のポリアルキルピペリジン誘導体を
98−60重量％および一般式（） （式中、R1、R2およびR3は式と同じに定義さ
れ；R4は炭素原子数１乃至４のアルキル基を表
す）のポリアルキルピペリジン誘導体を２−40重
量％含有するエステル混合物に関する。 炭素原子数１ないし４のアルキル基としての
R2は、好ましくは直鎖のアルキル基、例えばエ
チル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基及び特に
メチル基である。 炭素原子数２ないし10のアルキレン基としての
R3は、分枝鎖または好ましくは直鎖のアルキレ
ン基、例えばメチレン基、エチレン基、トリメチ
レン基、テトラメチレン基、ヘキサメチレン基、
デカメチレン基、最も特にオクタメチレン基であ
る。 炭素原子数１ないし４のアルキル基としての
R4は、例えばエチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−
プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基または
好ましくはメチル基である。 一般式（）及び（）のエステルの好ましい
混合物は、R2はメチル基またはベンジル基を表
し、R4はメチル基を表すエステルの混合物であ
る。 一般式（）及び（）のエステルの最も好ま
しい混合物は、R2はメチル基を表し、R3はオク
タメチレン基を表し、R4はメチル基を表すエス
テルの混合物である。 一般式（）のエステル90〜70重量％と一般式
（）のエステル10〜30重量％とを含むエステル
混合物が好ましい。 本発明によるエステル混合物は、自体公知の方
法、例えば一般式（） （式中R1及びR2は前記のものを表す）のピペリ
ジンの２モル部を一般式（） （式中、R3及びR4は前記のものを表す）のジエ
ステルの1.01−1.5モル部と反応させることによ
つて製造することができる。反応に使用する操作
は、エステル交換に常用の操作であるのが好まし
い。しかしながら、必要に応じて一般式（）及
び（）の成分を別々に自体公知の方法で製造
し、必要に応じこれらの成分を精製し、次に一般
式（）及び（）の成分を混合することもでき
る。 出発物質は公知である。なお新規である物質
は、公知出発物質を製造するのと同様の方法によ
つて製造することができる。 本発明によれば、一般式（）及び（）のエ
ステルの混合物は、酸素、熱及び特に光の作用に
よつて起る損傷に対して高分子物質を保護するた
め安定剤として使用することができる。このよう
な高分子物質の例を以下に列挙する： １ モノオレフイン及びジオレフインのポリマ
ー、例えばポリエチレン（架橋されていてよ
い）、ポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポ
リブト−１−エン、ポリメチルペント−１−エ
ン、ポリイソプレンまたはポリブタジエン、及
びシクロオレフイン、例えばシクロペンテン若
しくはノルボルネンのポリマー。 ２ 前記１）に挙げたポリマーの混合物、例えば
ポリプロピレンとポリエチレンまたはポリイソ
ブチレンとの混合物。 ３ モノオレフイン及びジオレフインの相互のコ
ポリマーまたは他のビニルモノマーとのコポリ
マー、例えばエチレン／プロピレンコポリマ
ー、プロピレン／ブト−１−エンコポリマー、
プロピレン／イソブチレンコポリマー、エチレ
ン／ブト−１−エンコポリマー、プロピレン／
ブタジエンコポリマー、イソブチレン／イソブ
チレンコポリマー、エチレン／アルキルアクリ
レートコポリマー、エチレン／アルキルメタク
リレートコポリマー、エチレン／酢酸ビニルコ
ポリマー、またはエチレン／アクリル酸コポリ
マー及びその塩（イオノマー）、並びにエチレ
ンとプロピレン及びジエン、例えばヘキサジエ
ン、ジシクロペンタジエンまたはエチリデンノ
ルボルネンとのターポリマー。 ４ ポリスチレン ５ スチレンまたはα−メチルスチレンとジエ
ン、またはアクリル誘導体とのコポリマー、例
えばスチレン／ブタジエン、スチレン／アクリ
ロニトリル、スチレン／アルキルメタクリレー
ト、スチレン／アクリロニトリル／アクリル酸
メチルコポリマー；スチレンコポリマー及び別
のポリマー、例えばポリアクリレート、ジエン
ポリマーまたはエチレン／プロピレン／ジエン
ターポリマーから得られた衝撃強度の高い混合
物：及びスチレンのブロツクコポリマー、例え
ばスチレン／ブタジエン／スチレン、スチレ
ン／イソプレン／スチレン、スチレン／エチレ
ン−ブチレン／スチレン、またはスチレン−エ
チレン／プロピレン−スチレンのブロツクコポ
リマー。 ６ スチレンのグラフトコポリマー、例えばスチ
レンとポリブタジエン、スチレン及びアクリロ
ニトリルとポリブタジエン、スチレン及びマレ
イン酸無水物とポリブタジエン、スチレン及び
アクリル酸アルキルまたはメタクリル酸アルキ
ルとポリブタジエン、スチレン及びアクリロニ
トリルとエチレン−プロピレン−ジエンターポ
リマー、スチレン及びアクリロニトリルとポリ
アルキルアクリレートまたはポリアルキルメタ
クリレート、スチレン及びアクリロニトリルと
アクリレート−ブタジエンコポリマー、及びこ
れらの混合物と５）に列挙した、例えばABS、
MBS、ASAまたはAESポリマーとして知られ
ているコポリマーとのグラフトコポリマー ７ ハロゲン含有ポリマー、例えばポリクロロプ
レン、塩素化ゴム、塩素化若しくはクロロスル
ホン化ポリエチレン、特にハロゲン化ビニル化
合物のポリマー、例えばポリ塩化ビニル、ポリ
塩化ビニリデン、ポリ弗化ビニル、ポリ弗化ビ
ニリデン及びこれらのコポリマー、例えば塩化
ビニリデン、塩化ビニル／酢酸ビニルまたは塩
化ビニリデン／酢酸ビニルコポリマー。 ８ α，β−不飽和酸及びその誘導体から誘導さ
れたポリマー、例えばポリアクリレート及びポ
リメタクリレート、ポリアクリルアミド及びポ
リアクリロニトリル。 ９ 前記８）に挙げたモノマーと別のモノマーま
たは他の不飽和モノマーとのコポリマー、例え
ばアクリロニトリル／ブタジエンコポリマー、
アクリロニトリル／アルキルアクリレートコポ
リマー、アクリロニトリル／塩化ビニルコポリ
マーまたはアクリロニトリル／アルキルメタク
リレート／ブタジエンコポリマー。 10 不飽和アルコール及びアミンまたはそのアシ
ル誘導体またはアセタールから誘導されたポリ
マー、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸
ビニル、ポリビニルステアレート、ポリビニル
ベンゾエート、ポリビニルマレエート、ポリビ
ニルブチラール、ポリアリルフタレート、ポリ
アリルメラミン。 11 環状エーテルのホモポリマー及びコポリマ
ー、例えばポリエチレングリコール、ポリエチ
レンオキシド、ポリプロピレンオキシドまたは
これらとビス−グリシジルエーテルとのコポリ
マー。 12 ポリアセタール、例えばポリオキシメチレ
ン、及びコモノマー、例えばエチレンオキシド
を含むポリオキシメチレン。 13 ポリフエニレンオキシド及びスルフイド。 14 ヒドロキシ末端基を含むポリエーテル、ポリ
エステル及びポリブタジエンと他方の成分であ
る脂肪族または芳香族ポリイソシアネート及び
これらの前駆物質とから誘導されたポリウレタ
ン。 15 ジアミン及びジカルボン酸及び／またはアミ
ノカルボン酸または相応するラクタムから誘導
されたポリアミド及びコポリアミド、例えばポ
リアミド４、ポリアミド６、ポリアミド66、ポ
リアミド610、ポリアミド11、ポリアミド12、
ポリ−２，４，４−トリメチルヘキサメチレン
テレフタルアミド、ポリ−ｍ−フエニレン、イ
ソフタルアミド、及びこれらとポリエーテル、
例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレ
ングリコールまたはポリテトラメチレングリコ
ールとのコポリマー。 16 ポリ尿素、ポリイミド及びポリアミドイミ
ド。 17 ジカルボン酸及びジアルコール及び／または
オキシカルボン酸または相応するラクトンから
誘導されたポリエステル、例えばポリエチレン
テレフタレート、ポリブチレンテレフタレート
及びポリ−１，４−ジメチロールシクロヘキサ
ンテレフタレート、及び更にヒドロキシ未端基
円を有するポリエーテル及びジカルボン酸から
誘導されたブロツクポリエーテルエステル。 18 ポリカーボネート。 19 ポリスルホン及びポリエーテルスルホン。 20 一方の成分としてアルデヒド及び他方の成分
としてフエノール、尿素及びメラミンから誘導
された架橋ポリマー、例えばフエノール−ホル
ムアルデヒド樹脂、尿素・ホルムアルデヒド樹
脂及びメラミン−ホルムアルデヒド樹脂。 21 乾性及び不乾性アルキド樹脂。 22 飽和及び不飽和ジカルボン酸と多価アルコー
ル及び架橋剤としてビニル化合物のコポリエス
テルから誘導された不飽和ポリエステル樹脂並
びに燃焼性の低いハロゲン含有変性物。 23 置換アクリル酸エステル、例えばエポキシア
クリレート、ウレタンアクリレートまたはポリ
エステルアクリレートから誘導された架橋アク
リル樹脂。 24 メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリイソシアネー
トまたはエポキシ樹脂で架橋されたアルキド樹
脂、ポリエステル樹脂及びアクリレート樹脂。 25 ポリエポキシド、例えばビス−グリシジルエ
ーテル、または脂環式ジエポキシドから誘導さ
れた架橋エポキシ樹脂。 26 天然ポリマー、例えばセルロース、ゴム及び
ゼラチン、並びにこれらの化学的に変性された
重合同族体誘導体、例えば酢酸セルロース、プ
ロピオン酸セルロース及び酪酸セルロース、及
びセルロースエーテル、例えばメチルセルロー
ス。 ラツカーの安定化は特に重要である。 安定剤を、安定化すべき材料に対して0.01〜５
重量％の濃度で高分子物質中に配合する。安定化
すべき材料に対して好ましくは0.03〜1.5重量％、
最も好ましくは0.2〜0.6重量％の化合物を配合す
る。 重合後に例えば化合物及び必要に応じ更に添加
剤を融液中にこの分野に常用の方法で、成形前ま
たは成形後に混合するか、また溶解若しくは分散
した化合物ポリマーに施し、その後必要に応じ溶
媒を蒸発することによつて配合を行なうことがで
きる。 新規混合物を、これらの化合物を例えば2.5〜
25重量％の濃度で含むマスターバツチの形で、安
定化すべき高分子物質に添加することもできる。 架橋ポリエチレンを使用する場合には、化合物
を架橋前に添加する。 一般式（）及び（）のエステルの混合物と
共に、なお別の公知安定剤及び共安定剤を高分子
物質中に配合することもできる。これらの安定剤
は例えば下記のものであつてもよい： １ 酸化防止剤 1.1 アルキル化モノフエノール ２，６−ジ−tert−ブチル−４−メチルフ
エノール、２−tert−ブチル−４，６−ジメ
チルフエノール、２，６−ジ−tert−ブチル
−４−エチルフエノール、２，６−ジ−tert
−ブチル−４−ｎ−ブチルフエノール、２，
６−ジ−tert−ブチル−４−ｉ−ブチルフエ
ノール、２，６−ジ−シクロペンチル−４−
メチルフエノール、２−（α−メチルシクロ
ヘキシル）−４，６−ジメチルフエノール、
２，６−ジ−オクタデシル−４−メチルフエ
ノールまたは２，４，６−トリ−シクロヘキ
シルフエノール。 1.2 アルキル化ヒドロキノン ２，６−ジ−tert−ブチル−４−メトキシ
フエノール、２，５−ジ−tert−ブチル−ヒ
ドロキノンまたは２，５−ジ−tert−アミル
−ヒドロキノン。 1.3 ヒドロキシル化チオフエニルエーテル ２，2′−チオ−ビス−（６−tert−ブチル−
４−メチルフエノール）、２，2′−チオ−ビ
ス−（４−オクチルフエノール）、４，4′−チ
オ−ビス−（６−tert−ブチル−３−メチル
フエノール）または４，4′−チオ−ビス−
（６−tert−ブチル−２−メチル−フエノー
ル）。 1.4 アルキリデン−ビスフエノール ２，2′−メチレン−ビス−（６−tert−ブチ
ル−４−メチルフエノール）、２，2′−メチ
レン−ビス−（６−tert−ブチル−４−エチ
ルフエノール）、２，2′−メチレン−ビス−
〔４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシ
ル）−フエノール〕、２，2′−メチレン−ビス
−（４−メチル−６−シクロヘキシルフエノ
ール）、２，2′−メチレン−ビス−（６−ノニ
ル−４−メチルフエノール）、２，2′−メチ
レン−ビス−（４，６−ジ−tert−ブチルフ
エノール）、２，2′−エチリデン−ビス−４，
６−ジ−tert−ブチルフエノール）、２，2′−
エチリデン−ビス−（６−tert−ブチル−４
−イソブチルフエノール）、４，4′−メチレ
ン−ビス−（２，６−ジ−tert−ブチルフエ
ノール）、４，4′−メチレン−ビス−（６−
tert−ブチル−２−メチル−フエノール）、
１，１−ビス−（５−tert−ブチル−４−ヒ
ドロキシ−２−メチルフエニル）−ブタン、
２，６−ジ−（３−tert−ブチル−５−メチ
ル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチル
フエノール、１，１，３−トリス−（５−
tert−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチル
フエニル）−ブタン、１，１−ビス−（５−
tert−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチル
フエニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブ
タン、エチレングリコールビス−〔３，３−
ビス−（3′−tert−ブチル−4′−ヒドロキシフ
エニル）−ブチレート〕、ジ−（３−tert−ブ
チル−４−ヒドロキシ−５−メチルフエニ
ル）−ジシクロペンタジエンまたはジ−〔２−
（3′−tert−ブチル−2′−ヒドロキシ−5′−メ
チル−ベンジル）−６−tert−ブチル−４−
メチル−フエニル〕テレフタレート。 1.5 ベンジル化合物 １，３，５−トリ−（３，５−ジ−tert−
ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，
６−トリメチルベンゼン、ジ−（３，５−ジ
−tert−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンジ
ル）スルフイド、イソオクチル３，５−ジ−
tert−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンジル−
メルカプトアセテート、ビス−（４−tert−
ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチル
ベンジル）−ジチオ−ルテレフタレート、１，
３，５−トリス（３，５−ジ−tert−ブチル
−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレー
ト、１，３，５−トリス−（４−tert−ブチ
ル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベン
ジル）イソシアヌレート、ジオクタデシル
３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒドロキシ
−フエニル−ホスホネートまたはモノエチル
３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジル−ホスホネート。 1.6 アシルアミノフエノール ４−ヒドロキシ−ラウリン酸アニリド、４
−ヒドロキシ−ステアリン酸アニリドまたは
２，４−ビス−オクチルメルカプト−６−
（３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒドロキ
シアニリノ）−ｓ−トリアジン。 1.7 β−（３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒド
ロキシフエニル）−プロピオン酸と１価また
は多価アルコールとのエステル、例えばβ−
（３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒドロキ
シフエニル）−プロピオン酸とメタノール、
オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオー
ル、ネオペンチルグリコール、チオジエチレ
ングリコール、ジエチレングリコール、トリ
エチレングリコール、ペンタエリトリトー
ル、トリス−ヒドロキシエチルイソシアヌレ
ートまたはジ−ヒドロキシエチル−オキサル
アミドとのエステル。 1.8 β−（５−tert−ブチル−４−ヒドロキシ−
３−メチルフエニル）−プロピオン酸と１価
または多価アルコールとのエステル、例えば
β−（５−tert−ブチル−４−ヒドロキシ−
３−メチルフエニル）プロピオン酸とメタノ
ール、オクタデカール、１，６−ヘキサンジ
オール、ネオペンチルグリコール、チオジエ
チレングリコール、ジエチレングリコール、
トリエチレングリコール、ペンタエリトリツ
ト、トリス−ヒドロキシエチルイソシアヌレ
ートまたはジ−ヒドロキシエチル−オキサル
アミドとのエステル。 1.9 β−（３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒド
ロキシフエニル）−プロピオン酸アミド、 例えばＮ，N′−ジ−（３，５−ジ−tert−
ブチル−４−ヒドロキシフエニルプロピオニ
ル）−ヘキサメチレンジアミン、Ｎ，N′−ジ
−（３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒドロ
キシフエニルプロピオニル）−トリメチレン
ジアミンまたはＮ，N′−ジ−（３，５−ジ−
tert−ブチル−４−ヒドロキシフエニルプロ
ピオニル）−ヒドラジン。 ２ 紫外線吸収剤及び光安定剤 2.1 ２−（2′−ヒドロキシフエニル）−ベンゾト
リアゾール、例えば5′−メチル−、3′，5′−
ジ−tert−ブチル−、5′−tert−ブチル、5′−
（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−、
５−クロロ−3′，5′−ジ−tert−ブチル−、
５−クロロ−3′−tert−ブチル−5′−メチル
−、3′−sec−ブチル−5′−tert−ブチル−、
4′−オクトキシ−、3′，５−ジ−tert−アミ
ル−、3′，5′−ジ−（１，１，３，３−テト
ラメチルブチル）−及び3′，5′−ジ−（α，α
−ジメチルベンジル）−２−（2′−ヒドロキシ
フエニル）−ベンゾトリアゾール。 2.2 ２−ヒドロキシベンゾフエノン、例えば４
−ヒドロキシ、４−メトキシ−、４−オクト
キシ−、４−デシルオキシ−、４−ドデシル
オキシ−、４−ベンジルオキシ−、４，2′，
4′−トリヒドロキシ−及び2′−ヒドロキシ−
４，4′−ジメトキシ−誘導体。 2.3 置換及び未置換安息香酸のエステル、例え
ば４−tert−ブチル−フエニルサリチレー
ト、フエニルサリチレート、オクチルフエニ
ルサリチレート、ジベンゾイルレゾルシノー
ル、ビス−（４−tert−ブチルベンゾイル）−
レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール
及び２，４−ジ−tert−ブチル−フエニル
３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒドロキシ
ベンゾエート。 2.4 アクリレート、例えばエチルα−シアノ−
β，β−ジフエニルアクリレート、イソオク
チルα−シアノ−β，β−ジフエニルアクリ
レート、メチルα−カルボメトキシ−シンナ
メート、メチルα−シアノ−β−メチル−Ｐ
−メトキシ−シンナメート、ブチルα−シア
ノ−β−メチル−Ｐ−メトキシ−シンナメー
ト、メチルβ−カルボメトキシ−Ｐ−メトキ
シ−シンナメート及びＮ−（β−カルボメト
キシ−β−シアノビニル）−２−メチル−イ
ンドリン。 2.5 ニツケル化合物、例えば２，2′−チオ−ビ
ス−〔４−（１，１，３，３−テトラメチルブ
チル）−フエノール〕のニツケル錯体、例え
ば必要に応じｎ−ブチルアミン、トリエタノ
ールアミンまたはＮ−シクロヘキシル−ジエ
タノールアミンのような付加的配位子を有す
る１：１錯体または１：２錯体、ニツケルジ
ブチルジチオカルバメート、４−ヒドロキシ
−３，５−ジ−tert−ブチル−ベンジル−ホ
スホン酸モノアルキルエステルのニツケル
塩、例えばメチルまたはエチルエステルのニ
ツケル塩、ケトキシムのニツケル錯体、例え
ば２−ヒドロキシ−４−メチル−フエニルウ
ンデシルケトンオキシムのニツケル錯体及び
１−フエニル−４−ラウロイル−５−ヒドロ
キシ−ピラゾールの、必要に応じ付加的配位
子を有するニツケル錯体。 2.6 立体障害を有するアミン、例えばビス−
（２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）
セバケート、ビス−（１，２，２，６，６−
ペンタメチルピペリジル）セバケート、ビス
−（１，２，２，６，６−ベンタメチルピペ
リジル）ｎ−ブチル−３，５−ジ−tert−ブ
チル−４−ヒドロキシ−ベンジル−マロネー
ト、１−ヒドロキシエチル−２，２，６，６
−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジン
及びコハク酸の縮合生成物、Ｎ，N′−（２，
２，６，６−テトラメチルピペリジル）−ヘ
キサメチレンジアミン及び４−tert−オクチ
ルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−
ｓ−トリアジンの縮合生成物、及びトリス−
（２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）
ニトリロトリアセテート。 2.7 蓚酸ジアミド、例えば４−4′−ジ−オクチ
ルオキシ−オキサアニリド、２，2′−ジ−オ
クチルオキシ−５，5′−ジ−tert−ブチル−
オキサアニリド、２，2′−ジ−ドデシルオキ
シ−５，5′−ジ−tert−ブチル−オキサアニ
リド、２−エトキシ−2′−エチル−オキサア
ニリド、Ｎ，N′−ビス−（３−ジメチルアミ
ノプロピル）−オキサルアミド、２−エトキ
シ−５−tert−ブチル−2′−エチル−オキサ
アニリド、及びその２−エトキシ−2′−エチ
ル−５，4′−ジ−tert−ブチル−オキサアニ
リドとの混合物、オルト−及びパラ−メトキ
シ−ジ置換オキサアニリドの混合物並びにｏ
−及びｐ−エトキシ−ジ置換オキサアニリド
の混合物。 ３ 金属不活性化剤、例えばＮ，N′−ジフエニ
ル蓚酸ジアミド、Ｎ−サリチラール−N′−サ
リチロイルヒドラジン、Ｎ，N′−ビス−サリ
チロイルヒドラジン、Ｎ，N′−ビス−（３，５
−ジ−tert−ブチル−ヒドロキシフエニルプロ
ピオニル）−ヒドラジン、３−サリチロイルア
ミノ−１，２，４−トリアゾール及びビス−ベ
ンジリデン−蓚酸ジヒドラジド。 ４ ホスフアイト及びホスホナイト、例えばトリ
フエニルホスフアイト、ジフエニルアルキルホ
スフアイト、フエニルジアルキルホスフアイ
ト、トリ（ノニルフエニル）ホスフアイト、ト
リラウリルホスフアイト、トリオクタデシルホ
スフアイト、ジステアリル−ペンタエリトリツ
トジホフアイト、トリス−（２，４−ジ−tert
−ブチルフエニル）ホスフアイト、ジイソデシ
ル−ペンタエリトリツトジホスフアイト、ジ−
（２，４−ジ−tert−ブチルフエニル）−ペンタ
エリトリトールジホスフアイト、トリステアリ
ルソルビトールトリホスフアイト及びテトラキ
ス−（２，４−ジ−tert−ブチルフエニル）−
４，4′−ビフエニレンジホスホナイト。 ５ 過酸化物を分解する化合物、例えばβ−チオ
ージプロピオン酸のエステル、例えばラウリル
エステル、ステアリルエステル、ミリスチルエ
ステルまたはトリデシルエステル、メルカプト
ベンゾイミダゾール、２−メルカプトベンゾイ
ミダゾールの亜鉛塩、亜塩ジブチルジチオカル
バメート、ジオクタデシルジスルフイド及びペ
ンタエリトリツトテトラキス−（β−ドデシル
メルカプト）プロピオネート。 ６ ポリアミド安定剤、例えば沃化物と共に銅塩
及び／または燐化合物及び２価マンガンの塩。 ７ 塩基性共安定剤、例えばメラミン、ポリビニ
ルピロリドン、ジシアンジアミド、トリアリル
シアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導
体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級
脂肪酸のアルカリ金属塩及びアルカリ土類金属
塩、例えばステアリン酸カルシウム、ステアリ
ン酸亜鉛、ステアリン酸マグネシウム、リシノ
ール酸ナトリウム及びパルミチン酸カリウム、
ピロカテコール酸アンチモンまたはピロカテコ
ール酸錫。 ８ 核形成剤、例えば４−tert−ブチル安息香
酸、アジピン酸及びジフエニル酢酸。 ９ 充填剤及び補強剤、例えば炭酸カルシウム、
珪酸塩、ガラス繊維、石綿、タルク、カオリ
ン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物及び金属
水酸化物、カーボンブラツク及びグラフアイ
ト。 10 他の添加剤、例えば可塑性、滑沢剤、乳化
剤、顔料、螢光増白剤、防炎剤、帯電防止剤及
び発泡剤。 この種の常用の公知添加剤は、一般式（）及
び（）のエステルの混合物と相溶性であるばか
りでなく、個々の場合に相剰効果を生じうる。 従つて、本発明は一般式（）及び（）のエ
ステルの混合物を0.01〜５重量％添加することに
より安定化された高分子物質に関し、該高分子物
質は必要に応じ更に別の常用の公知添加剤を含ん
でいてもよい。こうして安定化された高分子物質
は極めて多様な形で、例えばフイルム、繊維、リ
ボン、形材またはシートとして、または射出成形
品として使用することができる。これらの高分子
物質はまた、発泡体の形で使用することもでき
る。更に、これらの高分子物質をラツカー用結合
剤、接着剤またはパテとして、更にコーテイング
材料及び写真材料における基材として使用するこ
ともできる。 次に、実施例に基づいて本発明を詳述するが、
本発明はこれに限定されるものではない。 実施例 １ セバシン酸ジメチル230.3ｇ（１モル）及び１，
２，２，６，６−ペンタメチル−４−ヒドロキシ
−ピベリジン308.3ｇ（1.8モル）をキシレン120
mlと共に約135℃に弱い窒素流下に加熱する。混
合物の全体的脱水を行うため、約20mlのキシレン
を留去する。次に反応混合物にテトラブチルオル
トチタネート１ｇを加え、混合物を130〜140℃で
弱い窒素流下に加熱する。メタノール／キシレン
の普通の蒸留が極めてすぐに開始する。内部温度
を３〜４時間にわたつて160℃に上昇させ、フラ
スコ内容物を更にこの温度で、約10時間後に何も
実際に留出しなくなるまで撹拌する。溶媒の最後
の痕跡を高度真空下に約110℃／0.001mmHgで蒸
留することにより除去し、フラスコ中の残分をガ
ラスフリツトにより澄明にする。生ずる淡黄色の
油状液体はビス−（１，２，２，６，６−ペンタ
メチル−４−ピペリジニル）セバケート約85％及
びモノ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−
４−ピペリジニル）モノメチルセバケート約15％
から成る混合物である。 実施例 ２ 本発明のエステル混合物の結晶化傾向 本発明のエステル混合物の結晶化傾向は、一般
式（）の成分及び一般式（）の成分の混合比
に左右される。用途によつては、少量の一般式
（）の成分で充分である。しかしながら安定な
流体エステル混合物が望ましい場合には、一般式
（）の成分の量を少し増加することができる。 ビス−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−
４−ピペリジニル）セバケートを一般式（）の
成分として使用し、モノ−（１，２，２，６，６
−ペンタメチル−４−ピペリジニル）モノメチル
−セバケートを一般式（）の成分として使用す
る。 エステル混合物を０℃及び−20℃で貯蔵し、混
合物が完全に結晶化するまでの時間を測定する。
この時間が長いことは、エステル混合物の流体コ
ンシステンシーの安定性の増加を意味する。
【表】
意外にも、公知安定剤の場合には、同様に満足
な効果を得るために溶媒を極めて多量に不所望に
添加する必要がある。
な効果を得るために溶媒を極めて多量に不所望に
添加する必要がある。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式（） （式中、R1は水素原子を表し；R2は水素原子、
炭素原子数１乃至４のアルキル基またはベンジル
基を表し；R3は炭素原子数２乃至10のアルキレ
ン基を表す）のポリアルキルピペリジン誘導体を
98−60重量％および 一般式（） （式中、R1、R2およびR3は式（）と同じに定
義され；R4は炭素原子数１乃至４のアルキル基
を表す）のポリアルキルピペリジン誘導体を２−
40重量％含有するエステル混合物。 ２ R2はメチル基またはベンジル基を表し；そ
してR4はメチル基を表す請求項１記載のエステ
ル混合物。 ３ 一般式（）の化合物がセバシン酸ビス−
（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペ
リジニル）を表し；一般式（）の化合物がセバ
シン酸モノ（１，２，２，６，６−ペンタメチル
−４−ピペリジニル）＝モノメチルを表す請求項
１記載のエステル混合物。 ４ 一般式（）のポリアルキルピペリジン誘導
体を90−70重量％および一般式（）のポリアル
キルピペリジン誘導体を10−30重量％含有する請
求項１記載のエステル混合物。 ５ 一般式（） （式中、R1は水素原子を表し；R2は水素原子、
炭素原子数１乃至４のアルキル基またはベンジル
基を表し；R3は炭素原子数２乃至10のアルキレ
ン基を表す）のポリアルキルピペリジン誘導体を
98−60重量％および 一般式（） （式中、R1、R2およびR3は式と同じに定義さ
れ；R4は炭素原子数１乃至４のアルキル基を表
す）のポリアルキルピペリジン誘導体を２−40重
量％含有する高分子物質用安定剤。 ６ 高分子物質がラツカーである請求項５記載の
安定剤。 ７ 一般式（） （式中、R1は水素原子を表し；R2は水素原子、
炭素原子数１乃至４のアルキル基またはベンジル
基を表す）のピペリジン化合物の２モル部に一般
式（） （式中、R3は炭素原子数２乃至10のアルキレン
基を表し；R4は炭素原子数１乃至４のアルキル
基を表す）のジエステルの1.01−1.5モル部を反
応させることを特徴とする式（） （式中、R1、R2およびR3は上述と同じに定義さ
れる）のエステルと式（） （式中、R1、R2、R3およびR4は上述と同じに定
義される。）のエステルを含有する混合物の製造
方法。
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|---|---|---|---|
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-
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