JPS59228105A - フイルムの厚さ測定装置 - Google Patents
フイルムの厚さ測定装置Info
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- JPS59228105A JPS59228105A JP58102842A JP10284283A JPS59228105A JP S59228105 A JPS59228105 A JP S59228105A JP 58102842 A JP58102842 A JP 58102842A JP 10284283 A JP10284283 A JP 10284283A JP S59228105 A JPS59228105 A JP S59228105A
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- film
- light
- thickness
- measurement
- measuring device
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- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
- G01B11/06—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material
- G01B11/0691—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of objects while moving
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- Spectrometry And Color Measurement (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔利用分野〕一
本発明は、赤外線等の光ビームのフィルムによる吸収量
に基いてフ5イルム厚さを測定するフィルムの厚さ測定
装置に関し、特に製造工程のように連続走行しているフ
ィルムの厚さ測定に好適なフィルムの厚さ測定装置に関
する。
に基いてフ5イルム厚さを測定するフィルムの厚さ測定
装置に関し、特に製造工程のように連続走行しているフ
ィルムの厚さ測定に好適なフィルムの厚さ測定装置に関
する。
近年、フィルム−特にポリエステルフィルム等の高分子
フィルム−では、その適用分野が拡大しており、それに
つれてその品質に対する要求も厳しくなっている。フィ
ルムの厚さに対しても品質の一つとしてその均一化の要
求は強く。
フィルム−では、その適用分野が拡大しており、それに
つれてその品質に対する要求も厳しくなっている。フィ
ルムの厚さに対しても品質の一つとしてその均一化の要
求は強く。
従ってオンライン測定に、よる厚さ管理が必要となって
きている。
きている。
ところで、上述のオンライン測定ができる厚さ測定法と
しては、既に特開昭53−31155号公報等、の提案
がある。特開昭53−31155号公報に開示されたも
のは、フィルターを切換えて測定するフィルムの吸収ピ
ークの波長(吸収波長)の赤外線と該フィルムに殆んど
吸収されない波長(参照波長)の赤外線と交互に同一光
路を通すようKした二色赤外線厚さ計であり安定な連続
測定が期待される優れたものであるが、以下の問題があ
る。すなわち、膜厚が大きく変化した場合あるいは温度
が変化した場合吸収波長と参照波長の透過率が同じよう
に変化せず膜厚の測定誤差が生ずる問題、厚さが薄くな
るとフィルムによる吸収量が小さくなり測定感度、精度
が低下する問題、さら如この為に厚み変化を監視するに
十分ではない問題がある。
しては、既に特開昭53−31155号公報等、の提案
がある。特開昭53−31155号公報に開示されたも
のは、フィルターを切換えて測定するフィルムの吸収ピ
ークの波長(吸収波長)の赤外線と該フィルムに殆んど
吸収されない波長(参照波長)の赤外線と交互に同一光
路を通すようKした二色赤外線厚さ計であり安定な連続
測定が期待される優れたものであるが、以下の問題があ
る。すなわち、膜厚が大きく変化した場合あるいは温度
が変化した場合吸収波長と参照波長の透過率が同じよう
に変化せず膜厚の測定誤差が生ずる問題、厚さが薄くな
るとフィルムによる吸収量が小さくなり測定感度、精度
が低下する問題、さら如この為に厚み変化を監視するに
十分ではない問題がある。
かかる状況に対し、本発明者は、先に%願昭56−20
1506号において、10μm以下の薄いフィルムから
数100μmの厚いフィルムまで精度よく且つオンライ
ンで測定できるフィルムの厚さ測定方法として第1図に
示す以下の方法を提案した。図において、Pは測定対象
の対象フィルムで1例えば生産中の走行しているポリエ
チレンテレフタレート(PET ) フィルムである
。
1506号において、10μm以下の薄いフィルムから
数100μmの厚いフィルムまで精度よく且つオンライ
ンで測定できるフィルムの厚さ測定方法として第1図に
示す以下の方法を提案した。図において、Pは測定対象
の対象フィルムで1例えば生産中の走行しているポリエ
チレンテレフタレート(PET ) フィルムである
。
Sは基準フィルムで、生産条件の設定厚さと同じ厚さt
oの対象フィルムと同じ組成のフィルムである。
oの対象フィルムと同じ組成のフィルムである。
1は光源で、対象フィルムに適した波長の光ビームI0
(例えばPETフィルムの場合はその吸収率が略1とな
る波長5.8μmの赤外線ビーム)を投光するよMKな
っている。2は光ビーム■。
(例えばPETフィルムの場合はその吸収率が略1とな
る波長5.8μmの赤外線ビーム)を投光するよMKな
っている。2は光ビーム■。
を測定ビームIpと参照ビームIsとに分割して対象フ
ィルムPと基準フィルムSへに導く投光系で、レンズ2
a、ハーフミラ−2b、及び反射i :9−2 cとか
らなる公知の光学系である。
ィルムPと基準フィルムSへに導く投光系で、レンズ2
a、ハーフミラ−2b、及び反射i :9−2 cとか
らなる公知の光学系である。
3は、基準フィルムSを透過した参照ビームI5と対象
フィルムPを透過した測定ビームエ′pとを後述の光電
変換部41C導(受光系で、レンズ3a、3bで構成さ
れている。
フィルムPを透過した測定ビームエ′pとを後述の光電
変換部41C導(受光系で、レンズ3a、3bで構成さ
れている。
前述の光電変換部4は、In8b半導体等の応答性の良
い光検出器4a、4bよりなり、受光した両ビームI′
p、 TI、、 を夫々受光量に比例した電気信号の
副官信号Epと参照信号Esに変換する。
い光検出器4a、4bよりなり、受光した両ビームI′
p、 TI、、 を夫々受光量に比例した電気信号の
副官信号Epと参照信号Esに変換する。
5は両信号Ep 、 Esを処理して対象フィルムPの
厚さtK関係する厚さ信号gtを得る信号処理部で、両
信号Ep + Esの比Ep / Esを求めると共に
その比gp / Esの対数Egを求め出力する対数比
演算回路5aと、出力EI K基準フィルムSの厚さt
oに対応する所定値を加算して厚さ信号Etを得る演算
回路5bとから構成されている。
厚さtK関係する厚さ信号gtを得る信号処理部で、両
信号Ep + Esの比Ep / Esを求めると共に
その比gp / Esの対数Egを求め出力する対数比
演算回路5aと、出力EI K基準フィルムSの厚さt
oに対応する所定値を加算して厚さ信号Etを得る演算
回路5bとから構成されている。
すなわち、光ビーム■。で測定対象である対象フィルム
Pと基準フィルムSとを照射すると共に夫々の透過光T
p、I’sを光検出器4a、4bで検出してその光量比
I’p / I’s K対応する比Ep/Elを測定し
、この比に基いて対象フィルムPの厚さを測定するもの
である。従って、対角フィルムPの厚さは基準フィルム
Sからの変動として検出されるので高IP!&度で連応
性のある測定ができると共に光源1の変動等の環境変動
に対しても強い測定ができる。
Pと基準フィルムSとを照射すると共に夫々の透過光T
p、I’sを光検出器4a、4bで検出してその光量比
I’p / I’s K対応する比Ep/Elを測定し
、この比に基いて対象フィルムPの厚さを測定するもの
である。従って、対角フィルムPの厚さは基準フィルム
Sからの変動として検出されるので高IP!&度で連応
性のある測定ができると共に光源1の変動等の環境変動
に対しても強い測定ができる。
本発明は、−上述の方法を実施する装置を目的とするも
ので、特忙製造工程でのオンライン測定に適した耐環境
性に優れたフィルムの厚さ測定装置を目的としたもので
ある。
ので、特忙製造工程でのオンライン測定に適した耐環境
性に優れたフィルムの厚さ測定装置を目的としたもので
ある。
本発明は上述の目的を達成するもので、以下の構成を特
徴とするものである。
徴とするものである。
すなわち、本発明は、同一光源からの光ビームを投光系
により測定対象の対象フィルムと所定の基準フィルムと
に導(と共に、両フィルムからの透過光を光電変換部で
電気信号に変換してその比を求め、この比に基いて対象
フィルムの厚さを測定するよ5になしたフィルムの厚さ
測定装置において、対象フィルムが通るための間隙を隔
てて一組のヘッドを対向配置すると共に、一方のヘッド
には前記光源、前記投光系及び基準フィルムからの透過
光を受光して光電変換する参照変換系を収納し、他方の
ヘッドには対象フィルムからの透過光を受光して光電変
換する測定変換系を収納したことを特徴とするフィルム
の厚さ測定装置である。
により測定対象の対象フィルムと所定の基準フィルムと
に導(と共に、両フィルムからの透過光を光電変換部で
電気信号に変換してその比を求め、この比に基いて対象
フィルムの厚さを測定するよ5になしたフィルムの厚さ
測定装置において、対象フィルムが通るための間隙を隔
てて一組のヘッドを対向配置すると共に、一方のヘッド
には前記光源、前記投光系及び基準フィルムからの透過
光を受光して光電変換する参照変換系を収納し、他方の
ヘッドには対象フィルムからの透過光を受光して光電変
換する測定変換系を収納したことを特徴とするフィルム
の厚さ測定装置である。
なお、上述の所定の基準フィルムとは、前述の原理から
明らかの如く、対象フィルムの厚さ以外の因子の測定へ
の影響を補償する参照信号を生ずるフィルム′を云い、
具体的に対象フィルムと光学特性特に使用する光ビーム
に対する光透過特性が同じフィルムとなる。従って、対
象フィルムと組成が同じフィルムが適用できる。
明らかの如く、対象フィルムの厚さ以外の因子の測定へ
の影響を補償する参照信号を生ずるフィルム′を云い、
具体的に対象フィルムと光学特性特に使用する光ビーム
に対する光透過特性が同じフィルムとなる。従って、対
象フィルムと組成が同じフィルムが適用できる。
また平面性等表面特性の同じフィルムは反射特性も同じ
となり好ましい。これらの点から同じ製造条件で製造さ
れた同じ組成のフィルムが好ましい。なお、基準フィル
ムの厚さは、目的に応じて適宜選択する。後述するオン
ライン測定においては、製造条件の厚さに近いものを選
定するのが一般である。
となり好ましい。これらの点から同じ製造条件で製造さ
れた同じ組成のフィルムが好ましい。なお、基準フィル
ムの厚さは、目的に応じて適宜選択する。後述するオン
ライン測定においては、製造条件の厚さに近いものを選
定するのが一般である。
以上の本発明の詳細をPETフィルムの製造工程での連
続測定に適した実施例に基い【説明する。
続測定に適した実施例に基い【説明する。
第2図は上記実施例の正面図、第3図はその側面図であ
る。
る。
図示の通り、本実施例は、測定対象フィルムPの上側忙
上部ヘッド200を、その下側忙下部ヘッド300を配
し、共通の架台100の上部アーム101と下部アーム
102により保持しである。
上部ヘッド200を、その下側忙下部ヘッド300を配
し、共通の架台100の上部アーム101と下部アーム
102により保持しである。
従って、上部ヘッド200と下部ヘッド300は床面等
からの振動に対して一体的に振動し、光軸外れ等の発生
がない。
からの振動に対して一体的に振動し、光軸外れ等の発生
がない。
上部ヘッド200及び下部ヘッド300の内部は第4図
、第5図に示す通りに構成されている。
、第5図に示す通りに構成されている。
第4図は上部ヘッド200と下部ヘッド300の光軸面
での側断面図、第5図は第3図のA −A線からの矢視
図である。
での側断面図、第5図は第3図のA −A線からの矢視
図である。
まず、上部ヘッド200の構成を説明する。図の1は光
源で、図示の通り上部ケース201の上側面の所定位置
に取着され、鉛直下方に赤外線ビームI0を放射する。
源で、図示の通り上部ケース201の上側面の所定位置
に取着され、鉛直下方に赤外線ビームI0を放射する。
光源1は、下側が小径の放射口11となった所定長で所
定頂角の円錐台形状で局面が鏡面となった集光路12を
形成したジャケット構成の集光カバー13と、集光路1
2に接続した局面が回転放物面9球面等の鏡面である反
射空間14を形成したジャケット構造の反射カバー15
と、反射空間14の焦点を通るよ5に、横方向から配置
した棒状の発熱体16とからなる。発熱体16は、セラ
ミックコーティングしたシーズ型電熱ヒータで、ヒータ
素線と共に熱電対を埋め込み、一定温度に制御できるよ
5 K’してある。また、各ジャケットには一定温度の
空気を供給し、集光路12及び反射空間14の温度の安
定化を計っている。従って、低温で目的の赤外線ビーム
■。を効果的に安定して発生できる。本実施例で発熱体
16の温度を290℃にした時、ビーム径8φでタング
ステンランプ1500℃相当の強度の波長5.8μmの
赤外線ビームが得られた。また、ビーム径の設定が自由
で、細いビームでも上側の通り強度の大となる利点もあ
る。その上、他の光源に比較して安価となる実用上の利
点もある。
定頂角の円錐台形状で局面が鏡面となった集光路12を
形成したジャケット構成の集光カバー13と、集光路1
2に接続した局面が回転放物面9球面等の鏡面である反
射空間14を形成したジャケット構造の反射カバー15
と、反射空間14の焦点を通るよ5に、横方向から配置
した棒状の発熱体16とからなる。発熱体16は、セラ
ミックコーティングしたシーズ型電熱ヒータで、ヒータ
素線と共に熱電対を埋め込み、一定温度に制御できるよ
5 K’してある。また、各ジャケットには一定温度の
空気を供給し、集光路12及び反射空間14の温度の安
定化を計っている。従って、低温で目的の赤外線ビーム
■。を効果的に安定して発生できる。本実施例で発熱体
16の温度を290℃にした時、ビーム径8φでタング
ステンランプ1500℃相当の強度の波長5.8μmの
赤外線ビームが得られた。また、ビーム径の設定が自由
で、細いビームでも上側の通り強度の大となる利点もあ
る。その上、他の光源に比較して安価となる実用上の利
点もある。
放射口11から放射された赤外線ビームI0はチョッパ
ー装置60により所定周期(本例では500Hz)のパ
ルス光に変換される。チョッパー装置60は、所定の透
孔61を適当間隔で同一円周上に配設した回転円板62
をモータ63で一定速度で回転させる公知の構成となっ
ている。なお、モータ63は遮光カバー64と、共に上
部ケース201の後壁201aK設けた定盤202に取
着部材651Cより取着され位置決めされている。
ー装置60により所定周期(本例では500Hz)のパ
ルス光に変換される。チョッパー装置60は、所定の透
孔61を適当間隔で同一円周上に配設した回転円板62
をモータ63で一定速度で回転させる公知の構成となっ
ている。なお、モータ63は遮光カバー64と、共に上
部ケース201の後壁201aK設けた定盤202に取
着部材651Cより取着され位置決めされている。
チ式ツバー装R60を出た赤外線ビームI。は、投光系
2に入り、測定ビームIpと参照ビームI@に分割され
る。すなわち、投光系2は、垂直方向に貫通した円柱状
の局面を鏡面とした垂直光路と誼垂直光路に直交する同
じく円柱状で局面が鏡面の水平光路とを形成した鏡胴ブ
ロック21と、垂直光路の入口九着脱自在に螺着された
フィルターユニット22と、水平光路の左側から着脱可
能に嵌着された保持ユニット23により垂直光路645
度の角度で交差するように配置されたハーフミー’、−
2bとからなり、ハーフミラ−2bにより垂直方向の測
定ビームIpと水平方向の参照ビームIsに分割する。
2に入り、測定ビームIpと参照ビームI@に分割され
る。すなわち、投光系2は、垂直方向に貫通した円柱状
の局面を鏡面とした垂直光路と誼垂直光路に直交する同
じく円柱状で局面が鏡面の水平光路とを形成した鏡胴ブ
ロック21と、垂直光路の入口九着脱自在に螺着された
フィルターユニット22と、水平光路の左側から着脱可
能に嵌着された保持ユニット23により垂直光路645
度の角度で交差するように配置されたハーフミー’、−
2bとからなり、ハーフミラ−2bにより垂直方向の測
定ビームIpと水平方向の参照ビームIsに分割する。
なお、フィルターユニット22のフィルターは本例では
5.8μmを透過中心波長としたバンドパスフィルター
となっている。又図の24は、適当の径のリングからな
る測定ビームエ8の径を設定するビーム径設定ユニット
で垂直光路の出口VCm着されている。鏡胴ブロック2
1の位置決めは上部ケース201の後壁201aの定盤
2(13Vc定寸プaツク204を介してノックビン合
せKより固定することによりなされている。従つ【、組
み立ては非常に簡単であると共に、主要光路を鏡胴でカ
バーし外来光等の環境条件の影響を排除するようKしで
ある。
5.8μmを透過中心波長としたバンドパスフィルター
となっている。又図の24は、適当の径のリングからな
る測定ビームエ8の径を設定するビーム径設定ユニット
で垂直光路の出口VCm着されている。鏡胴ブロック2
1の位置決めは上部ケース201の後壁201aの定盤
2(13Vc定寸プaツク204を介してノックビン合
せKより固定することによりなされている。従つ【、組
み立ては非常に簡単であると共に、主要光路を鏡胴でカ
バーし外来光等の環境条件の影響を排除するようKしで
ある。
鏡胴ブロック21の水平光路には前述の参照信号Egを
生成する参照系が接続されている。
生成する参照系が接続されている。
すなわち、水平光路の出口には、所定の基準フィルムS
をセットしたホルダーS、が螺着されている。なお、基
準フィルムSとしては対象フィルムと同じ組成で厚さも
その製造条件に同じ厚さのフィルム具体的にはPETフ
ィルムを用いた。
をセットしたホルダーS、が螺着されている。なお、基
準フィルムSとしては対象フィルムと同じ組成で厚さも
その製造条件に同じ厚さのフィルム具体的にはPETフ
ィルムを用いた。
基準フィルムSを透過した参照ビームI’s は以下
の参照変換系により参照信号F’s K変換される。す
なわち、鏡胴プルツク21の水平光路の出口に、ノック
ピン合せにより内面が鏡6面の所定長の円筒体からなる
レンズホルダー31が着脱可能にセットされ、ゲルマニ
ウムの凸レンズからなる集光用のレンズ3bが固定リン
グ32の螺着によりレンズホルダー31に固定されて、
前述の受光系を構成している。
の参照変換系により参照信号F’s K変換される。す
なわち、鏡胴プルツク21の水平光路の出口に、ノック
ピン合せにより内面が鏡6面の所定長の円筒体からなる
レンズホルダー31が着脱可能にセットされ、ゲルマニ
ウムの凸レンズからなる集光用のレンズ3bが固定リン
グ32の螺着によりレンズホルダー31に固定されて、
前述の受光系を構成している。
そして、レンズ3bで集光された参照ビームI’s
は、レンズ3bの焦点位置に配置した赤外線用の光検出
器4bK入力、参照信号E8 K変換される。レンズ3
bから光検出器4Pまでの光路は内面が鏡面である円筒
カバー41bで囲い、外来光等の環境条件の影響を受け
ないよう処しである。なお、光検出器4bとしては富士
通■製lR8−3118を用いた。図の42.bは、光
検出器4bの放熱器であり、43bは光検出器4bK用
いたlR8−3118の温度フン)p−小回路と前置増
中器を収納した回路ユニットである。光検出器4hの位
置決めは、鏡胴ブロック21と全く同様であり説明を省
略する。
は、レンズ3bの焦点位置に配置した赤外線用の光検出
器4bK入力、参照信号E8 K変換される。レンズ3
bから光検出器4Pまでの光路は内面が鏡面である円筒
カバー41bで囲い、外来光等の環境条件の影響を受け
ないよう処しである。なお、光検出器4bとしては富士
通■製lR8−3118を用いた。図の42.bは、光
検出器4bの放熱器であり、43bは光検出器4bK用
いたlR8−3118の温度フン)p−小回路と前置増
中器を収納した回路ユニットである。光検出器4hの位
置決めは、鏡胴ブロック21と全く同様であり説明を省
略する。
図の205は、上部ヘッド200 tVt発熱源毎の小
室に区画する隔壁の仕切板で、光源装WL1と光検出器
4b関連とを分離するように設けである。
室に区画する隔壁の仕切板で、光源装WL1と光検出器
4b関連とを分離するように設けである。
そして1区画された各真を一定温湿度忙制御した空気で
個々にエアパージすると共に、同じ空気で@月ブロック
21の下部ロ部及γド基勉フィルムSの前後の光路をエ
アパージし、測定条件特に温湿輿の安定化を計っている
。なお1図の206は、−E部ヘッド200の前部カバ
ー板である。
個々にエアパージすると共に、同じ空気で@月ブロック
21の下部ロ部及γド基勉フィルムSの前後の光路をエ
アパージし、測定条件特に温湿輿の安定化を計っている
。なお1図の206は、−E部ヘッド200の前部カバ
ー板である。
次に下部ヘッド300を説明する。下部ヘッド300
Kは測定対象フィルムPを透過した測定ビームI′p
を受光し、電気信号Ep忙変換する工測定変換系が収
納されている。その受光系は、円筒体からなるブロック
本体33と、ブロック本体33の光路を拡大した受部へ
組み込まれたゲルマニウムの凸レンズからなる集光用の
レンズ3aと、ブロック本体33の光路上端部に螺着さ
れた局面が鏡面の円錐状の集光路を有する集光ユニット
34と、集光ユニット340入口側に取着された測定ビ
ーム昨 の大きさを調整するマスクユ諷ット35とから
なり、下部ケース301の後111301aK設けた定
盤302 K定寸プ1ツク303を介して取着され、上
部ヘッド200からの測定ビームIpの光軸に受光系の
光軸が一致するように配置されている。
Kは測定対象フィルムPを透過した測定ビームI′p
を受光し、電気信号Ep忙変換する工測定変換系が収
納されている。その受光系は、円筒体からなるブロック
本体33と、ブロック本体33の光路を拡大した受部へ
組み込まれたゲルマニウムの凸レンズからなる集光用の
レンズ3aと、ブロック本体33の光路上端部に螺着さ
れた局面が鏡面の円錐状の集光路を有する集光ユニット
34と、集光ユニット340入口側に取着された測定ビ
ーム昨 の大きさを調整するマスクユ諷ット35とから
なり、下部ケース301の後111301aK設けた定
盤302 K定寸プ1ツク303を介して取着され、上
部ヘッド200からの測定ビームIpの光軸に受光系の
光軸が一致するように配置されている。
集光ユニット34の受光口は、測定ビームIpの投射口
径すなわちビーム径設定ユニット240口径の1.5〜
3倍となっている。そして受光口には第5図に示すマス
クユニット35が取着されている。マスクユニット35
は図示の通り対象フィルムPの走行方向と直交する所定
巾のスリン)35aと、その両側に設けた所定中の所定
の透過率のマスク板35bと、光を遮断する遮蔽板35
cとからなる。そしてマスク板3Fibは所定厚さ具体
的には対象フィルムと略同じ厚さのPETフィルムを用
いた。
径すなわちビーム径設定ユニット240口径の1.5〜
3倍となっている。そして受光口には第5図に示すマス
クユニット35が取着されている。マスクユニット35
は図示の通り対象フィルムPの走行方向と直交する所定
巾のスリン)35aと、その両側に設けた所定中の所定
の透過率のマスク板35bと、光を遮断する遮蔽板35
cとからなる。そしてマスク板3Fibは所定厚さ具体
的には対象フィルムと略同じ厚さのPETフィルムを用
いた。
なお、ブロック本体33の測定用ビーム■′pが直接当
たる光路は全て鏡面となっている。
たる光路は全て鏡面となっている。
上述の受光系からの測定用ビームI′p を電気信号
Ep Vc変換する光電変換部は、前述の参照用ビーム
I’s の光電変換部と全く同じ構成となっている。
Ep Vc変換する光電変換部は、前述の参照用ビーム
I’s の光電変換部と全く同じ構成となっている。
すなわち、レンズ3aの焦点位置に配置されたlR8−
3118を用いた光電検出器4aと、円筒カバー41a
と、放熱器42αと、回路ユニット43aとからなり、
定盤302に定寸ブロック304により取着され位置決
めされている。
3118を用いた光電検出器4aと、円筒カバー41a
と、放熱器42αと、回路ユニット43aとからなり、
定盤302に定寸ブロック304により取着され位置決
めされている。
なお、図の305は、前述した仕切板で、仕切板305
で区画した各室は、上部ヘッド200の工゛7バージに
用いた空気と同や件のものでエアパージしである。また
、前述の測定用ビームI′pの受光系の光路も同様にエ
アパージされている。
で区画した各室は、上部ヘッド200の工゛7バージに
用いた空気と同や件のものでエアパージしである。また
、前述の測定用ビームI′pの受光系の光路も同様にエ
アパージされている。
図の306は、前面のカバー板である。
ところで、上部ヘッド200と下部ヘッド300の測定
用ビームIpの前方すなわちフィルムの走行方向で上流
側には、測定対象フィルムPの巾方向に測定用ビームt
pの径より充分長い空気吹出し口111を2連に設(す
たエアカーテンブーツク110が設けられ、前述したエ
アパージと同条件の空気を測定対象フィルムPの両面に
吹き付け、随伴気流を遮断するようになっている。
用ビームIpの前方すなわちフィルムの走行方向で上流
側には、測定対象フィルムPの巾方向に測定用ビームt
pの径より充分長い空気吹出し口111を2連に設(す
たエアカーテンブーツク110が設けられ、前述したエ
アパージと同条件の空気を測定対象フィルムPの両面に
吹き付け、随伴気流を遮断するようになっている。
以上の構成から1本実施例は以下の作用効果を奏する。
上部ヘッド200と下部ヘッド300と忙2分割し、上
部ヘッド200は光源1、投光系2%及び参照系を収納
し、下部ヘッド300 Kは測定変換系を収納するよ5
Kしたので、両ヘッドがコンパクトになると共に、光学
系の光軸合せ等の目整が非常に容易である。そして、両
ヘッドを同一架台で保持するよう産したので、耐振性に
優れ【いる。
部ヘッド200は光源1、投光系2%及び参照系を収納
し、下部ヘッド300 Kは測定変換系を収納するよ5
Kしたので、両ヘッドがコンパクトになると共に、光学
系の光軸合せ等の目整が非常に容易である。そして、両
ヘッドを同一架台で保持するよう産したので、耐振性に
優れ【いる。
又、上部ヘッド200、下部ヘッド300 #cIc
。
。
発熱源毎に小室に区画して、温湿度を一定に制御した空
気によりエアパージしたので、測定雰囲気の影響を大巾
に排除することができた。更に、測定部の上流側にエア
カーテンユニット110を配し、測定対象フィルムPK
随伴する気流を遮断し一定条件の空気がフィルムに随伴
されるようにしたので、測定条件が安定した。雰囲気に
敏感な赤外線を用いる本例では、測定雰囲気の安定は非
常VC重要である。
気によりエアパージしたので、測定雰囲気の影響を大巾
に排除することができた。更に、測定部の上流側にエア
カーテンユニット110を配し、測定対象フィルムPK
随伴する気流を遮断し一定条件の空気がフィルムに随伴
されるようにしたので、測定条件が安定した。雰囲気に
敏感な赤外線を用いる本例では、測定雰囲気の安定は非
常VC重要である。
上部ヘッド200、下部ヘッド300共密閉構造とする
と共内部は全て黒色塗装等により黒化処理しであるので
、外来光等の外乱光の影響は殆んど除去される。
と共内部は全て黒色塗装等により黒化処理しであるので
、外来光等の外乱光の影響は殆んど除去される。
又、光路の主要部は全て鏡胴で構成し【あるので、光路
による光損失が少ない上前述の外乱光の影響が少ない。
による光損失が少ない上前述の外乱光の影響が少ない。
光源lが回転放物面からなる反射面と円錐面からなる集
光面を組合せた空胴内の反射面の焦点位置を横方向に通
るよう棒状発熱体17を設けた構成であるので、黒体の
空胴放射と同様、前述の通り効果的に赤外線を発生させ
ることができる。そして、得られる赤外線は方向及び位
相がランダムな混合光であるので、走行する対象フィル
ムPの波打つ現象に対して対象フィルムPの測定ビーム
Ip K対する角度が変化しても散乱光が平均化され、
影響が小さいという利点がある。なお、発熱体17に熱
電対等を埋め込み温度制御するよ51Cしたので、得ら
れる赤外線が安定化する。
光面を組合せた空胴内の反射面の焦点位置を横方向に通
るよう棒状発熱体17を設けた構成であるので、黒体の
空胴放射と同様、前述の通り効果的に赤外線を発生させ
ることができる。そして、得られる赤外線は方向及び位
相がランダムな混合光であるので、走行する対象フィル
ムPの波打つ現象に対して対象フィルムPの測定ビーム
Ip K対する角度が変化しても散乱光が平均化され、
影響が小さいという利点がある。なお、発熱体17に熱
電対等を埋め込み温度制御するよ51Cしたので、得ら
れる赤外線が安定化する。
更に、対象フィルムPを透過した測定ビームl争 を
そのビーム径の1.5〜3倍の口径の逆円錐状の集光ユ
ニット34で受光するようになしたので、前述の対象フ
ィルムPの波打ち現象の1影響を低減で鯉、測定が安定
化した。
そのビーム径の1.5〜3倍の口径の逆円錐状の集光ユ
ニット34で受光するようになしたので、前述の対象フ
ィルムPの波打ち現象の1影響を低減で鯉、測定が安定
化した。
また、電光ユ=ット34前面に適当な光透過率のマスク
板35bとスリット35aを有するマスクユニット35
を設けたので、光検出器4aの受光量レベルをS/N比
が大きく低下しないレベルに保持しつつ、スリット効果
により検出の分解能を向上させることができた。又、動
的特性においても、オンライン測定に要求される数I
I) T(y、以上の厚み変化に対して、マスクユニッ
ト35は空間フィルターとして作用し8/N比のlい検
IEができた。具体的には、スリット35 a (D
巾カ2 m 、スリット35gを含むマスク板35bの
両側での巾が5fiで、その長さismのマスクユニッ
ト351Cより数10 Hzの厚み変化が効果的に検出
できた。なお、この際のマスク板35bは、前述の通り
対象フィルムと同じ厚さであり、従ってマスク板35b
の透過光量はスリツ)35aの約半分となる。
板35bとスリット35aを有するマスクユニット35
を設けたので、光検出器4aの受光量レベルをS/N比
が大きく低下しないレベルに保持しつつ、スリット効果
により検出の分解能を向上させることができた。又、動
的特性においても、オンライン測定に要求される数I
I) T(y、以上の厚み変化に対して、マスクユニッ
ト35は空間フィルターとして作用し8/N比のlい検
IEができた。具体的には、スリット35 a (D
巾カ2 m 、スリット35gを含むマスク板35bの
両側での巾が5fiで、その長さismのマスクユニッ
ト351Cより数10 Hzの厚み変化が効果的に検出
できた。なお、この際のマスク板35bは、前述の通り
対象フィルムと同じ厚さであり、従ってマスク板35b
の透過光量はスリツ)35aの約半分となる。
以上、本発明を実施例に基いて説明したが、本発明はか
かる実施例に限定されるものではなX、1゜ フィルムの中方向の厚みも検出する必要がある場合には
、上部ヘッドと下部ヘッドとを同期して中方向に移送す
るよ51Cすれば良く、X線厚み計で公知の構成により
簡単に実現できる。
かる実施例に限定されるものではなX、1゜ フィルムの中方向の厚みも検出する必要がある場合には
、上部ヘッドと下部ヘッドとを同期して中方向に移送す
るよ51Cすれば良く、X線厚み計で公知の構成により
簡単に実現できる。
この場合、上述の構成のため、移動に際し測定系の光軸
ずれのみに注意すれば良く、且つ前述の対象フィルムの
波打ち現象と光軸のずれとは測定誤差に対する影響糾−
等価であるので光軸ずれの影響も小さいという利点があ
る。
ずれのみに注意すれば良く、且つ前述の対象フィルムの
波打ち現象と光軸のずれとは測定誤差に対する影響糾−
等価であるので光軸ずれの影響も小さいという利点があ
る。
また、製造工程で測定個所近くに高温ヒータ等があり測
定雰囲気が大きく変動する場合の如く、実施例のエアパ
ージのみでは温度東件の安定化が難しい場合には、隔壁
及び側壁等をジャケット構造として水等の冷媒による温
度安定化を計ると良い。
定雰囲気が大きく変動する場合の如く、実施例のエアパ
ージのみでは温度東件の安定化が難しい場合には、隔壁
及び側壁等をジャケット構造として水等の冷媒による温
度安定化を計ると良い。
以上の通り1本発明は製造工程でのフィルムの厚みのオ
ンライン測定に適したもので、種々の態様で実施できる
非常に有用なものである。
ンライン測定に適したもので、種々の態様で実施できる
非常に有用なものである。
第1図は本発明の原理を示す説明図、第2図は実施例の
概略を正面全体図、第3図を家その側面全体図、第4図
はその要部の正面断面図、第5図は第4図のA−A断面
矢視図、第6図(′!、マスクユニットの説明図である
。
概略を正面全体図、第3図を家その側面全体図、第4図
はその要部の正面断面図、第5図は第4図のA−A断面
矢視図、第6図(′!、マスクユニットの説明図である
。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、同一光源からの光ビームを投光系により測定対象の
対象フイ・ルムと所定の基準フィルムとに導くと共に、
両フィルムからの透過光を光電変換部で電気信号に変換
してその比を求め、この比tc3いて対象フィルムの厚
さを測定するようKなしたフィルムの厚さ測定装置にお
いて、対象フィルムが通るだめの間隙を隔てて一組のヘ
ッドを対向配置すると共に。 一方のヘッドには前記光源1曲射投光系及び基準フィル
ムからの透過光を受光して光電変換する参照変換系を収
納し、他方のヘッドにはM11yイルムからの透過光を
受光して充電変換する測定変換系を収納したことを特徴
とするフィルムの厚さ測定装置。 2、前記−間のヘッドが共通架台九対向配置された特許
請求の範囲第1項記載のフィルムの厚さ測定装置。 3、前記各ヘッドが光源、光電変換部の熱源毎に隔壁で
小室に区画され、一定温湿度の空気でエアパージされて
いる特許請求の範囲第1項若しくは第2項記載のフィル
ムの厚さ測定装置。 4、 前記測定変換系の受光口径が投光系の対象フィル
ムへの投射口径の1.5〜3倍である特許請求の範囲第
1項、、第2項、若しくは第3項記載のフィルムの厚さ
測定装置。 5、前記測定変換系の受光口及び前記投光系の対象フィ
ルムへの投射口の゛対象フィルムの走行方向の上流側K
、対象フィルムの随伴気流を遮断するエアカーテンブロ
ックを有する特許請求の範囲第1項、第2項、第3項若
(、<は第4項記載のフィルムの厚さ測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58102842A JPS59228105A (ja) | 1983-06-10 | 1983-06-10 | フイルムの厚さ測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58102842A JPS59228105A (ja) | 1983-06-10 | 1983-06-10 | フイルムの厚さ測定装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59228105A true JPS59228105A (ja) | 1984-12-21 |
| JPH0519081B2 JPH0519081B2 (ja) | 1993-03-15 |
Family
ID=14338219
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58102842A Granted JPS59228105A (ja) | 1983-06-10 | 1983-06-10 | フイルムの厚さ測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59228105A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0298609A (ja) * | 1988-10-06 | 1990-04-11 | Dainippon Printing Co Ltd | 合成樹脂製容器の肉厚検査装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5134754A (ja) * | 1974-09-18 | 1976-03-24 | Oki Electric Ind Co Ltd | Setsuchakuzainoatsusakenshutsusochi |
| JPS52153468A (en) * | 1976-06-15 | 1977-12-20 | Fujitsu Ltd | Thickness measuring method of substrates |
-
1983
- 1983-06-10 JP JP58102842A patent/JPS59228105A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5134754A (ja) * | 1974-09-18 | 1976-03-24 | Oki Electric Ind Co Ltd | Setsuchakuzainoatsusakenshutsusochi |
| JPS52153468A (en) * | 1976-06-15 | 1977-12-20 | Fujitsu Ltd | Thickness measuring method of substrates |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0298609A (ja) * | 1988-10-06 | 1990-04-11 | Dainippon Printing Co Ltd | 合成樹脂製容器の肉厚検査装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0519081B2 (ja) | 1993-03-15 |
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