JPS59228201A - 光学素子 - Google Patents
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- JPS59228201A JPS59228201A JP59103766A JP10376684A JPS59228201A JP S59228201 A JPS59228201 A JP S59228201A JP 59103766 A JP59103766 A JP 59103766A JP 10376684 A JP10376684 A JP 10376684A JP S59228201 A JPS59228201 A JP S59228201A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
- C03C17/3429—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating
-
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- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
- G02B1/115—Multilayers
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- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は約７００ｎｍから約１７００ｎｍまでの波長範
囲に対する非反射被膜が設けられた透明基板を有する光
学素子であって、前記の非反射被膜は、複数個の均質層
より成りこれら均質層の屈折率は順次外方に向けて減少
するようにした上部被膜と、その下側の基部被膜とを有
するようにした光学素子に関するものである。
囲に対する非反射被膜が設けられた透明基板を有する光
学素子であって、前記の非反射被膜は、複数個の均質層
より成りこれら均質層の屈折率は順次外方に向けて減少
するようにした上部被膜と、その下側の基部被膜とを有
するようにした光学素子に関するものである。
光学素子は、レンズ或いはファイバの端面のようなファ
イバ通信システムの素子とすることができる。この点で
ファイバとはクラッドを有する光伝達ファイバを意味す
るものである。また光学素子は医学或いは軍事上に使用
する為の赤外線走査システムの素子とすることもできる
。
イバ通信システムの素子とすることができる。この点で
ファイバとはクラッドを有する光伝達ファイバを意味す
るものである。また光学素子は医学或いは軍事上に使用
する為の赤外線走査システムの素子とすることもできる
。
英国特許第１．３８０．７９３号明細書には可視光の波
長範囲、すなわち約４００ｎｍから約８００ｎｍ まで
の範囲に適した非反射被膜が記載されている。この被膜
はそれぞれ異なる屈折率を有する５つの重畳された均質
層を有しており、各均質層は基準波長をλ。とじた場合
にλ。／４に等しい光学的な厚さを有している。基板上
の第１の層は基板の屈折率よりも大きな屈折率を有して
いる。この第１の層上に堆積された第２の層は第１の層
の屈折率よりも大きな屈折率を有している。これらの２
つの層が基部被膜を構成している。次の３つの層は外方
の方向に向けて順次減少する屈折率を有しており、上部
被膜を構成する。
長範囲、すなわち約４００ｎｍから約８００ｎｍ まで
の範囲に適した非反射被膜が記載されている。この被膜
はそれぞれ異なる屈折率を有する５つの重畳された均質
層を有しており、各均質層は基準波長をλ。とじた場合
にλ。／４に等しい光学的な厚さを有している。基板上
の第１の層は基板の屈折率よりも大きな屈折率を有して
いる。この第１の層上に堆積された第２の層は第１の層
の屈折率よりも大きな屈折率を有している。これらの２
つの層が基部被膜を構成している。次の３つの層は外方
の方向に向けて順次減少する屈折率を有しており、上部
被膜を構成する。
特に、光フアイバガイドを用いた通信システムにおいて
は、約８００ｎｍから約１６５０ｎｍまでの広い波長範
囲に亘って反射を無くすようにすることが望ましい。そ
の理由は、光通信システムにおいては、基本的な２種類
の光源、ずなち約８００ｎｍから約９００ｎｍまでの範
囲の波長の光を放出するＧａＡｓ型のダイオードレーザ
と、約１ｌ１００ｎから約１６５０ｎｍまでの範囲の波
長の光を放出するｌｎＰ型のダイオードレーザとを用い
ている為である。光通信システムにおける素子の反射率
は０．５％或いはそれよりも小さくするのが好ましい。
は、約８００ｎｍから約１６５０ｎｍまでの広い波長範
囲に亘って反射を無くすようにすることが望ましい。そ
の理由は、光通信システムにおいては、基本的な２種類
の光源、ずなち約８００ｎｍから約９００ｎｍまでの範
囲の波長の光を放出するＧａＡｓ型のダイオードレーザ
と、約１ｌ１００ｎから約１６５０ｎｍまでの範囲の波
長の光を放出するｌｎＰ型のダイオードレーザとを用い
ている為である。光通信システムにおける素子の反射率
は０．５％或いはそれよりも小さくするのが好ましい。
本発明の目的は、少なくとも特定の波長範囲に対し適し
ており、光学素子に対し所望の低反射率が得られるよう
にする非反射被膜を提供せんとするにある。本発明によ
る非反射被膜は、反射率を減少せしめる必要がある基板
であって例えば１．４５と例えば２．０ との間の任意
の値の屈折率を有する基板にまず最初に基部被膜を被着
することができ、この基部被膜は、アセンブリの屈折率
が非反射上部被膜を容易に構成しうる或いはすでに人手
しうるものとしうるようないくつかの適当な値の１つを
有するようにしうる基部被膜とすることができるという
認識を基に形成するものである。
ており、光学素子に対し所望の低反射率が得られるよう
にする非反射被膜を提供せんとするにある。本発明によ
る非反射被膜は、反射率を減少せしめる必要がある基板
であって例えば１．４５と例えば２．０ との間の任意
の値の屈折率を有する基板にまず最初に基部被膜を被着
することができ、この基部被膜は、アセンブリの屈折率
が非反射上部被膜を容易に構成しうる或いはすでに人手
しうるものとしうるようないくつかの適当な値の１つを
有するようにしうる基部被膜とすることができるという
認識を基に形成するものである。
本発明は、約７００ｎｍから約１７００ｎｍまでの波長
範囲に対する非反射被膜が設けられた透明基板を有する
光学素子であって、前記の非反射被膜は、複数個の均質
層より成りこれら均質層の屈折率は順次外方に向けて減
少するようにした上部被膜と、その下側の基部被膜とを
有するようにした光学素子において、前記の基部被膜の
上面における実効屈折率を少なくとも２．５ とし、こ
の基部被膜は基板の位置における屈折率が基板の屈折率
に等しい傾斜屈折率層を有するようにしたことを特徴と
する。
範囲に対する非反射被膜が設けられた透明基板を有する
光学素子であって、前記の非反射被膜は、複数個の均質
層より成りこれら均質層の屈折率は順次外方に向けて減
少するようにした上部被膜と、その下側の基部被膜とを
有するようにした光学素子において、前記の基部被膜の
上面における実効屈折率を少なくとも２．５ とし、こ
の基部被膜は基板の位置における屈折率が基板の屈折率
に等しい傾斜屈折率層を有するようにしたことを特徴と
する。
基部被膜の上面における実効屈折率は基板と基部被膜と
を有するアセンブリの屈折率として定義される。
を有するアセンブリの屈折率として定義される。
傾斜屈折率層は、屈折率が特定の値、上記の場合基板の
屈折率からより一層高い或いはより一層低い値まで徐々
に変化する不均質材料の層として定義される。このよう
な層は例えば、相対的に高い屈折率を有する材料と相対
的に低い屈折率を有する材料との２種類の材料を、連続
的に変化するこれら材料の混合比で同時に真空堆積する
ことにより得ることができる。
屈折率からより一層高い或いはより一層低い値まで徐々
に変化する不均質材料の層として定義される。このよう
な層は例えば、相対的に高い屈折率を有する材料と相対
的に低い屈折率を有する材料との２種類の材料を、連続
的に変化するこれら材料の混合比で同時に真空堆積する
ことにより得ることができる。
本発明は、基部被膜の上面における実効屈折率を増大せ
しめると、全被膜の反射率を減少せしめることができ、
しかも反射率が低い波長範囲を広げることかできるとい
う事実および７００ｎｍから１７００ｎｍまでの赤外線
領域に対しては可視光範囲に対して得られる材料の屈折
率よりも可成り高い屈折率を有する真空堆積材料を得る
ことができるという事実を確かめ、かかる認識を基に成
したものである。
しめると、全被膜の反射率を減少せしめることができ、
しかも反射率が低い波長範囲を広げることかできるとい
う事実および７００ｎｍから１７００ｎｍまでの赤外線
領域に対しては可視光範囲に対して得られる材料の屈折
率よりも可成り高い屈折率を有する真空堆積材料を得る
ことができるという事実を確かめ、かかる認識を基に成
したものである。
本発明には主たる２つの実施例がある。本発明による非
反射被膜の主たる第１の実施例では、前記の基部被膜は
単一の傾斜屈折率層を有し、この単一の傾斜屈折率層は
この層の上面で少なくとも２．５の屈折率を有し、前記
の上部被膜は３つの均質層を有し、各均質層は基準波長
を２゜とした際にλｏ／４ に等しい光学的厚さを有す
ることを特徴とする。
反射被膜の主たる第１の実施例では、前記の基部被膜は
単一の傾斜屈折率層を有し、この単一の傾斜屈折率層は
この層の上面で少なくとも２．５の屈折率を有し、前記
の上部被膜は３つの均質層を有し、各均質層は基準波長
を２゜とした際にλｏ／４ に等しい光学的厚さを有す
ることを特徴とする。
基準波長は関連の領域を表わす波長である。上述した被
膜の場合、基準波長は］ＯＯＯｎｍである。
膜の場合、基準波長は］ＯＯＯｎｍである。
米国特許第３．８０４．４９１ 号明細書には、基板上
の屈折率に等しい値から外方に向けて徐々に増大する屈
折率を有する層が堆積されている非反射被膜が記載され
ていることに注意する必要がある。しかしこの被膜は可
視光波長範囲に対するものであり、近赤外線領域に対す
るものではない。更にこの米国特許明細書によれば、層
の屈折率を好ましくは２よりも小さくすべきであるとな
っている。
の屈折率に等しい値から外方に向けて徐々に増大する屈
折率を有する層が堆積されている非反射被膜が記載され
ていることに注意する必要がある。しかしこの被膜は可
視光波長範囲に対するものであり、近赤外線領域に対す
るものではない。更にこの米国特許明細書によれば、層
の屈折率を好ましくは２よりも小さくすべきであるとな
っている。
更にこの米国特許明細書では、屈折率が増大している層
上に２つの層が堆積されており、これら２つの層のうち
の一方の層はλ。／４の光学的厚さを有し、他方の層は
ａ 、／２の光学的厚さを有しており、−力木発明によ
る非反射被膜の主たる第１の実施例では異なる屈折率の
３つの層が傾斜屈折率層上に堆積されており、これら３
つの層の各々はλ。／４に等しい光学的厚さを有してい
る。
上に２つの層が堆積されており、これら２つの層のうち
の一方の層はλ。／４の光学的厚さを有し、他方の層は
ａ 、／２の光学的厚さを有しており、−力木発明によ
る非反射被膜の主たる第１の実施例では異なる屈折率の
３つの層が傾斜屈折率層上に堆積されており、これら３
つの層の各々はλ。／４に等しい光学的厚さを有してい
る。
前記の主たる第１の実施例の好適な変形例では、傾斜屈
折率層の上面における実効屈折率を少なくとも３．５
とし、この傾斜屈折率層は混合物Ｓｉ および５１３
Ｎ４； Ｓｉ、 ５Ｊ３Ｎ４ および５１０２ ：ＧａＰおよ
びＧａＮ ； ＧａＰ、 ＧａＮおよびＧａ２Ｏ３： ＰｈＳおよびＺｎＳ ； ＰｂＳ、 ＺｎＳおよびＢ−Ｎａ−ＡＩ−Ｋ ガラス
のうちの１つの混合物を有することを特徴とする。
折率層の上面における実効屈折率を少なくとも３．５
とし、この傾斜屈折率層は混合物Ｓｉ および５１３
Ｎ４； Ｓｉ、 ５Ｊ３Ｎ４ および５１０２ ：ＧａＰおよ
びＧａＮ ； ＧａＰ、 ＧａＮおよびＧａ２Ｏ３： ＰｈＳおよびＺｎＳ ； ＰｂＳ、 ＺｎＳおよびＢ−Ｎａ−ＡＩ−Ｋ ガラス
のうちの１つの混合物を有することを特徴とする。
本発明による非反射被膜の主たる第２の実施例では、前
記の基部被膜は、屈折率が基板の屈折率の値よりも低い
値まで外方に向けて減少する第１の傾斜屈折率層と、屈
折率が外方に向けて減少する少なくとも２つの均質層と
を具えており、上部被膜は３つの層を有しており、これ
ら３つの層の各々は基準波長をλ。とじた際にλＯ／４
に等しい光学的厚さを有することを特徴とする。
記の基部被膜は、屈折率が基板の屈折率の値よりも低い
値まで外方に向けて減少する第１の傾斜屈折率層と、屈
折率が外方に向けて減少する少なくとも２つの均質層と
を具えており、上部被膜は３つの層を有しており、これ
ら３つの層の各々は基準波長をλ。とじた際にλＯ／４
に等しい光学的厚さを有することを特徴とする。
第２および第３層の効果は、基部被膜の上面における実
効屈折率が少なくとも２．５ となるということである
。
効屈折率が少なくとも２．５ となるということである
。
公開されているドイツ連邦共和国特許出願第２、３４１
３５９ 号明細書には、３つの群の層を具える非反射被
膜が記載されており、これら群のうち基板側から見て第
１の群の層は減少する屈折率を有し、第２の群の層は増
大する屈折率を有し、第３の群の層は減少する屈折率を
有していることに注意する必要がある。しかし、この非
反射被膜は可視光の波長範囲に対するものではなく、こ
れらの層のいずれも２よりも大きな屈折率を有していな
い。更にこの被膜は傾斜屈折率層を有していない。
３５９ 号明細書には、３つの群の層を具える非反射被
膜が記載されており、これら群のうち基板側から見て第
１の群の層は減少する屈折率を有し、第２の群の層は増
大する屈折率を有し、第３の群の層は減少する屈折率を
有していることに注意する必要がある。しかし、この非
反射被膜は可視光の波長範囲に対するものではなく、こ
れらの層のいずれも２よりも大きな屈折率を有していな
い。更にこの被膜は傾斜屈折率層を有していない。
以下図面につき本発明を説明する。
本発明を適正に理解する為に、非反射被膜に対し新たに
発現した理論の主要点を説明する。この理論は、特定の
基板に対する屈折率に非反射被膜が得られる多数の値の
１つを与えた場合に、各種のガラスに対する適当な非反
射被膜を決定する因難な仕事を可成り簡単にしうるとい
う認識を用いたものである。
発現した理論の主要点を説明する。この理論は、特定の
基板に対する屈折率に非反射被膜が得られる多数の値の
１つを与えた場合に、各種のガラスに対する適当な非反
射被膜を決定する因難な仕事を可成り簡単にしうるとい
う認識を用いたものである。
３層非反射被膜を用い、そのすべての層が基準波長の４
分の１の光学的厚さを有するものとする。
分の１の光学的厚さを有するものとする。
文献”Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ ｔｈｅ ０ｐｔｉｃａｌ
５ｏｃｉｅｔｙ ｏｆＡｍｅｒｉｃａ”５１．Ｊｕｌ
ｙ １９６１． ｐｐ、７１４−８の”Ｉｎｆｒａｒ
ｅｄｆｉｌｔｅｒｓ ｏｆ Ａｎｔｉ−ｒｅｆｌｅｃｔ
ｅｄ Ｓｉ、Ｇｅ、ＩｎＡｓ ａｎｄＩ ｎ Ｓ ｂ
”と題する部分から、ｆｉ、Ｘｎ３： ｎ２２ −
−−−−− （１）ｎ２２＝ ｎｏ Ｘ ｎｓ −
−−−（２）の場合、特定の波長に対する前述したよう
な被膜に対する反射率は零であるということが知られて
いる。ここにｎＩ＋ ｎ２＋ ｎ３＋ ｎｓ およびｎ
Ｏは第１図に示すように、それぞれ層１２層２１層３．
基板およびこれらを取り囲む媒質の屈折率であり、この
媒質は一般に口。＝１の空気である。前記の式（１）お
よび（２）から次式（３）が寿られる。
５ｏｃｉｅｔｙ ｏｆＡｍｅｒｉｃａ”５１．Ｊｕｌ
ｙ １９６１． ｐｐ、７１４−８の”Ｉｎｆｒａｒ
ｅｄｆｉｌｔｅｒｓ ｏｆ Ａｎｔｉ−ｒｅｆｌｅｃｔ
ｅｄ Ｓｉ、Ｇｅ、ＩｎＡｓ ａｎｄＩ ｎ Ｓ ｂ
”と題する部分から、ｆｉ、Ｘｎ３： ｎ２２ −
−−−−− （１）ｎ２２＝ ｎｏ Ｘ ｎｓ −
−−−（２）の場合、特定の波長に対する前述したよう
な被膜に対する反射率は零であるということが知られて
いる。ここにｎＩ＋ ｎ２＋ ｎ３＋ ｎｓ およびｎ
Ｏは第１図に示すように、それぞれ層１２層２１層３．
基板およびこれらを取り囲む媒質の屈折率であり、この
媒質は一般に口。＝１の空気である。前記の式（１）お
よび（２）から次式（３）が寿られる。
ｎｌ Ｘｎ３” ｎ２Ｘ ７ｓ −−−（３
）ｎｓ およびｎｌを特定の値にした場合、ｎｓを０２
の特定の値に対応させて種々の値に段階的に変えること
ができる。
）ｎｓ およびｎｌを特定の値にした場合、ｎｓを０２
の特定の値に対応させて種々の値に段階的に変えること
ができる。
既知のように、反射率１曲線における反射率の最小値の
側方には二次極小値が続いている。ｎｓの絶対値および
ｎ２の対応する値を変えることにより、二次極小値を中
央の最小値の方向に偏移させることができ、またこれら
の極小値の値を比較的広い範囲の波長に亘って低反射率
が得られるように減少せしめることができる。ｎ２およ
びｎｓの対応する値を１２，４および口。、■として示
し、次式（４）を成立させることができる。
側方には二次極小値が続いている。ｎｓの絶対値および
ｎ２の対応する値を変えることにより、二次極小値を中
央の最小値の方向に偏移させることができ、またこれら
の極小値の値を比較的広い範囲の波長に亘って低反射率
が得られるように減少せしめることができる。ｎ２およ
びｎｓの対応する値を１２，４および口。、■として示
し、次式（４）を成立させることができる。
ｆｉ、Ｘｎ３１＋！１＝ｎ２１１１ Ｘ ｊ；Ｖ；
うこ］置 −−−−−＜４）上記の有界条件は可能な
唯一つのものではなく、この目的の為の最良のものでも
ない。一般に、全波長範囲に亘って最小の反射率を有す
る広帯域非反射被膜の方が１つの特定の波長で反射率が
零である非反射被膜よりも多くの必要性がある。この広
帯域非反射被膜を得る為には、条件（４）を無視する必
要がある。
うこ］置 −−−−−＜４）上記の有界条件は可能な
唯一つのものではなく、この目的の為の最良のものでも
ない。一般に、全波長範囲に亘って最小の反射率を有す
る広帯域非反射被膜の方が１つの特定の波長で反射率が
零である非反射被膜よりも多くの必要性がある。この広
帯域非反射被膜を得る為には、条件（４）を無視する必
要がある。
反射率Ｒを波長の関数として示す反射率曲線Ｒ＝ｆ（λ
）をできるだけ平坦とする為には、口、。
）をできるだけ平坦とする為には、口、。
ｎ２１．およびｎｌを一定に維持して口。、□ を変化
させる必要がある。この値を０３９．とする。このよう
にすると、条件（３）および（１）は ｎｌ ＸｒＬ＋、ｒ＝ＣＨ（ｎ２．ｍ ｘ ｇ）
−−−−（５）ｎｌ Ｘｎ＋＋ ｒ＝ｄ ・ （ｎ
ｚ＋ｍ ）２ −−−− （６
）となる。ここに、Ｃおよびｄは定数である。
させる必要がある。この値を０３９．とする。このよう
にすると、条件（３）および（１）は ｎｌ ＸｒＬ＋、ｒ＝ＣＨ（ｎ２．ｍ ｘ ｇ）
−−−−（５）ｎｌ Ｘｎ＋＋ ｒ＝ｄ ・ （ｎ
ｚ＋ｍ ）２ −−−− （６
）となる。ここに、Ｃおよびｄは定数である。
上述したところでは口、およびｎｌを定数であると仮定
したが、このことは、これら屈折率の実際の値が反射率
Ｒの最終値に影響を及ぼさないということを意味するも
のではない。反射率曲線１？＝ｆ（、’！＞ をでき
るだけ低く且つ平坦にする上述した方法を用いた際に、
ｎ、を一定にし、例えば口、＝ １．３８として屈折率
口、を変えた場合には、反射率曲線の平坦部分の幅はｎ
Ｓ に著しく依存するということが分った。第２図は、
ｎＳ の値を１，５゜２．０．２．５，３．０および３
．５ とした場合の一群の反射率曲線を示す。！ｉＷい
たことに、この第２図は、口、が増大すると反射率Ｒが
減少し、反射率が低くなっている波長範囲の幅が増大す
るということを示している。また第２図はｎ５＝３．５
に対し最良の結果が得られていることを明瞭に示してい
る。
したが、このことは、これら屈折率の実際の値が反射率
Ｒの最終値に影響を及ぼさないということを意味するも
のではない。反射率曲線１？＝ｆ（、’！＞ をでき
るだけ低く且つ平坦にする上述した方法を用いた際に、
ｎ、を一定にし、例えば口、＝ １．３８として屈折率
口、を変えた場合には、反射率曲線の平坦部分の幅はｎ
Ｓ に著しく依存するということが分った。第２図は、
ｎＳ の値を１，５゜２．０．２．５，３．０および３
．５ とした場合の一群の反射率曲線を示す。！ｉＷい
たことに、この第２図は、口、が増大すると反射率Ｒが
減少し、反射率が低くなっている波長範囲の幅が増大す
るということを示している。また第２図はｎ５＝３．５
に対し最良の結果が得られていることを明瞭に示してい
る。
第３図は、基板の屈折率を一定値（ｎｓ ＝３．５）と
し、最上側の被膜層の屈折率ｎ１を種々の値にした場合
の一群の反射率曲線を示す。ｎ、を種々の値にした場合
、中間の層の屈折率ｎ２およびｎ３は以下の値とするこ
とができる。
し、最上側の被膜層の屈折率ｎ１を種々の値にした場合
の一群の反射率曲線を示す。ｎ、を種々の値にした場合
、中間の層の屈折率ｎ２およびｎ３は以下の値とするこ
とができる。
ｎ＋＝１．３２ ｎ２＝２，１２
ｎ３＝３．ｔ。
ｎ３＝３．ｔ。
ｎ＋＝１．３８ １’１２・２．２１
ロ、＝３．１５ｎ＋＝１．４２
ｎ２＝２．２７ 口、・３．１７ｎ＋＝
１．４６ ｎ２＝２．．３４
口３＝３．２０驚いたことに、第３図はｎｌが減
少するにつれて′反射率曲線が低く且つ広くなることを
示している。
ロ、＝３．１５ｎ＋＝１．４２
ｎ２＝２．２７ 口、・３．１７ｎ＋＝
１．４６ ｎ２＝２．．３４
口３＝３．２０驚いたことに、第３図はｎｌが減
少するにつれて′反射率曲線が低く且つ広くなることを
示している。
このことは、可能な限り最大の口、を可能な限り最小の
ｎ、と組合せた場合に非反射被膜の反射率曲線ができる
だけ低くなり、これらの低い値は可能な限り最大に広い
範囲の波長に対して得られるということを意味している
。
ｎ、と組合せた場合に非反射被膜の反射率曲線ができる
だけ低くなり、これらの低い値は可能な限り最大に広い
範囲の波長に対して得られるということを意味している
。
実際には、ｎ」すなわち最上側の層の屈折率を固定とす
るのが好ましいことを確かめた。この層は１．３８の屈
折率を有するＭｇＦ ＊から造るのが好ましい。
るのが好ましいことを確かめた。この層は１．３８の屈
折率を有するＭｇＦ ＊から造るのが好ましい。
このようにすることにより、口。およびｎ２の最適値を
ｎｓ の関数として計算することができる。これらの計
算の結果を第４図に示す。この第４図から明らかなよう
に、屈折率をそれぞれ ｎ、＝３．１ ｎ２＝２．２ ｎ、＝ＩＪ８ とし、すべての光学的厚さをλ。／４とした３つの層で
基板を被覆した場合に、広い範囲の波長に亘って屈折率
ｎｓ・３，５を有する基板に対し最適な非反射特性を得
ることができる。屈折率ｎ３＝３．１を有する層はＡ］
Ｓｂ或いは無定形のＳｂ２Ｓ３ 或いはＳｉとＳｉ３Ｎ
、 との混合物から造る。屈折率ｎ２＝２．２を有す
る層は組成ＮｂＪｓ、 Ｔ＋Ｎ、 Ｔａ２０５＋ ５ｂ
２０３ の１つを有するように、することができる。屈
折率ｎ、＝１．３８ を有する層はＭｇＦ２を以て構成
しうる。
ｎｓ の関数として計算することができる。これらの計
算の結果を第４図に示す。この第４図から明らかなよう
に、屈折率をそれぞれ ｎ、＝３．１ ｎ２＝２．２ ｎ、＝ＩＪ８ とし、すべての光学的厚さをλ。／４とした３つの層で
基板を被覆した場合に、広い範囲の波長に亘って屈折率
ｎｓ・３，５を有する基板に対し最適な非反射特性を得
ることができる。屈折率ｎ３＝３．１を有する層はＡ］
Ｓｂ或いは無定形のＳｂ２Ｓ３ 或いはＳｉとＳｉ３Ｎ
、 との混合物から造る。屈折率ｎ２＝２．２を有す
る層は組成ＮｂＪｓ、 Ｔ＋Ｎ、 Ｔａ２０５＋ ５ｂ
２０３ の１つを有するように、することができる。屈
折率ｎ、＝１．３８ を有する層はＭｇＦ２を以て構成
しうる。
一般に、屈折率ｎ、＝１．３８を有する最上側の層に対
して、層２および３の屈折率と基板屈折率ｎ５との間に
直線関係があるということができ、この直線関係を第４
図に示す。
して、層２および３の屈折率と基板屈折率ｎ５との間に
直線関係があるということができ、この直線関係を第４
図に示す。
可視光の光学装置に用いる種類のガラスは約１．４５〜
約２．０ の範囲内の屈折率を有する。光学素子が光フ
アイバ通信システムにおける光学素子のように比較的大
きな開口数を有するようにしだ場合には、この目的の為
に用りする種類の力゛ラスカ＜Ｌヒ較的大きな屈折率を
有するようにする必要力（ある。
約２．０ の範囲内の屈折率を有する。光学素子が光フ
アイバ通信システムにおける光学素子のように比較的大
きな開口数を有するようにしだ場合には、この目的の為
に用りする種類の力゛ラスカ＜Ｌヒ較的大きな屈折率を
有するようにする必要力（ある。
３層を有する前述した非反射被膜を、１，４５および２
．０間の値としうる屈折率ｎＭ を有する力゛ラスより
成る光学素子に用いるようにする為（こ、本発明によれ
ばこれらの素子上に基ｇ１膜を１佳積させ、屈折率を所
望の値ｎ、、、例えばｎ５・３．５（こ高めるようにす
る。基部被膜に対しては、屈折率を広く、例えば１．３
０から３．００まで、また赤外線光学装置の場合４．０
までも変えられる全範囲の多結晶材ヰ斗力（得られる
という事実を用いてしする。
．０間の値としうる屈折率ｎＭ を有する力゛ラスより
成る光学素子に用いるようにする為（こ、本発明によれ
ばこれらの素子上に基ｇ１膜を１佳積させ、屈折率を所
望の値ｎ、、、例えばｎ５・３．５（こ高めるようにす
る。基部被膜に対しては、屈折率を広く、例えば１．３
０から３．００まで、また赤外線光学装置の場合４．０
までも変えられる全範囲の多結晶材ヰ斗力（得られる
という事実を用いてしする。
第５図は本発明による非反射被ｌＩ菓の−（ＰＩを示し
、その基部被膜は単一の層Ｖを有し、この層（よ、その
屈折率ｎ９ が基板側における値ｎ８ 力１ら上面ｆ１
１．ｌ＋における値ｎ、まで連続的に増大する（頃企１
屈（ｌ？率層とする。ｎ８ の最も一般的ｉ１直（ま１
．８５であり、ｎｌは一般に１．３８である。前述した
よう（ご、ｎｓ Ｉまできるだけ高く、いかなる場合審
こも２，５よりも高く、好ましくは約３．５ よりも高
くする必要力（ある。
、その基部被膜は単一の層Ｖを有し、この層（よ、その
屈折率ｎ９ が基板側における値ｎ８ 力１ら上面ｆ１
１．ｌ＋における値ｎ、まで連続的に増大する（頃企１
屈（ｌ？率層とする。ｎ８ の最も一般的ｉ１直（ま１
．８５であり、ｎｌは一般に１．３８である。前述した
よう（ご、ｎｓ Ｉまできるだけ高く、いかなる場合審
こも２，５よりも高く、好ましくは約３．５ よりも高
くする必要力（ある。
この場合＋１２およびｎ３の値は第４図力１ら見１７）
出湯−ことができる。第５図における括弧内の値は本例
における屈折率の値の一例を示ず。層１，２および３の
ずべての各光学的厚さはｎ−ｔ−λ。／４であり、ｔは
幾何学的な厚さである。傾斜屈折率層の厚さは重要では
ない。この層中の屈折率を変化させるのは、２つの個別
の材料源からの同時の真空堆積により得ることができる
。この場合、第１材料源からは屈折率ｎ。を有する材料
を放出させ、第２材料源からは屈折率ｎｓ を有する材
料を放出させる必要がある。
出湯−ことができる。第５図における括弧内の値は本例
における屈折率の値の一例を示ず。層１，２および３の
ずべての各光学的厚さはｎ−ｔ−λ。／４であり、ｔは
幾何学的な厚さである。傾斜屈折率層の厚さは重要では
ない。この層中の屈折率を変化させるのは、２つの個別
の材料源からの同時の真空堆積により得ることができる
。この場合、第１材料源からは屈折率ｎ。を有する材料
を放出させ、第２材料源からは屈折率ｎｓ を有する材
料を放出させる必要がある。
第５図における１頃斜屈折率層Ｖのような高屈折率を有
する単一の層はあるものに使用した場合に過剰な分散を
呈するおそれがある。本発明によれば、まず最初に値ｎ
８ から低い値ｎ、に減少する屈折率を有する傾斜屈折
率層を基板上に堆積することにより、分散率の低い非反
射被膜を得ることができる。次に、第６図に示すように
傾斜屈折率層上に例えば２つの層５および４を堆積させ
ることにより、基板と傾斜屈折率層との合計の実効屈折
率を高める。層４は層５よりも高い屈折率を有する。層
４上には３層上部被膜を堆積する。この３層上部被膜を
堆積する前に、２つの均質な層の代わりに、屈折率を順
次高めた３つ以上の均質な、層を傾斜屈折率層■に被着
することができる。
する単一の層はあるものに使用した場合に過剰な分散を
呈するおそれがある。本発明によれば、まず最初に値ｎ
８ から低い値ｎ、に減少する屈折率を有する傾斜屈折
率層を基板上に堆積することにより、分散率の低い非反
射被膜を得ることができる。次に、第６図に示すように
傾斜屈折率層上に例えば２つの層５および４を堆積させ
ることにより、基板と傾斜屈折率層との合計の実効屈折
率を高める。層４は層５よりも高い屈折率を有する。層
４上には３層上部被膜を堆積する。この３層上部被膜を
堆積する前に、２つの均質な層の代わりに、屈折率を順
次高めた３つ以上の均質な、層を傾斜屈折率層■に被着
することができる。
第６図では本例の屈折率の一例を括弧内に示しである。
傾斜屈折率層の上面の屈折率は石英ガラスの屈折率に等
しいｎ、 ＝１．４７ にするか或いは真空堆積ガラス
（ショットナンバー８３２９） の屈折率に相当する
ｎ、 ＝１．５２ とすることができる。この場合も傾
斜屈折率層は２つの材料源からの同時真空堆積により被
着する。冷却した基板の場合には、第１材料源にｎ、
＝１．８３を有するｙｂ２ｏ３ を入れ、第２材料源に
ｎｔ、 ＝１．５２を有するＣｅＦ３か或いはｎ、・ｌ
、４７ を有する５ｉＤ２を入れることができる。
しいｎ、 ＝１．４７ にするか或いは真空堆積ガラス
（ショットナンバー８３２９） の屈折率に相当する
ｎ、 ＝１．５２ とすることができる。この場合も傾
斜屈折率層は２つの材料源からの同時真空堆積により被
着する。冷却した基板の場合には、第１材料源にｎ、
＝１．８３を有するｙｂ２ｏ３ を入れ、第２材料源に
ｎｔ、 ＝１．５２を有するＣｅＦ３か或いはｎ、・ｌ
、４７ を有する５ｉＤ２を入れることができる。
真空堆積を加熱基板上に行う場合には、第１材料源に例
えばｎ、 ＝］、８３ を有するＤｙ２Ｏ３を入れ、第
２材料源にはｎＬ ＝１．５２を有するパ ショトナン
バー ８３２９ ” のようなり−Ｎａ−Ａ１−に真空
堆積ガラスか或いはｎｌ”１．４７ を有する石英ガラ
スを入れることができる。被膜の層１〜５はＭｇＦ２．
Ｎｂ２Ｏ５，ＣｄＳ、 Ｎｂ２Ｏ、およびＡｌ２Ｏ３
或いはＭｇＴ＋Ｏｓからそれぞれ造る。
えばｎ、 ＝］、８３ を有するＤｙ２Ｏ３を入れ、第
２材料源にはｎＬ ＝１．５２を有するパ ショトナン
バー ８３２９ ” のようなり−Ｎａ−Ａ１−に真空
堆積ガラスか或いはｎｌ”１．４７ を有する石英ガラ
スを入れることができる。被膜の層１〜５はＭｇＦ２．
Ｎｂ２Ｏ５，ＣｄＳ、 Ｎｂ２Ｏ、およびＡｌ２Ｏ３
或いはＭｇＴ＋Ｏｓからそれぞれ造る。
加熱基板は例えば３００ ℃の温度に加熱した基板であ
る。
る。
１．６５および２，０８の屈折率をそれぞれ有する層５
および４を被着することにより、屈折率は２．５ まで
高まる。すなわち、基板と、傾斜屈折率層と、層５およ
び４とを有するアセンブリは、実効屈折率ｎ、・２．５
と約１８％の反射率とを有する種類のガラスとして作用
する。このアセンブリの反射は３つの均質の層より成る
上部被膜により除去される。
および４を被着することにより、屈折率は２．５ まで
高まる。すなわち、基板と、傾斜屈折率層と、層５およ
び４とを有するアセンブリは、実効屈折率ｎ、・２．５
と約１８％の反射率とを有する種類のガラスとして作用
する。このアセンブリの反射は３つの均質の層より成る
上部被膜により除去される。
第６図は本例に対する波長の関数としての反射率の変化
をも示す。この第６図から明らかなように、ＧａＡｓ型
のダイオードレーザが放出する光の８００ｎｍから９０
０ｎｍ までの波長範囲およびｌｎＰ型のダイオードレ
ーザが放出する先の１１０Ｏｎ＋ｙ＋から１６５０ｎｍ
までの波長範囲では、反射率は０．５％よりも十分低く
なる。
をも示す。この第６図から明らかなように、ＧａＡｓ型
のダイオードレーザが放出する光の８００ｎｍから９０
０ｎｍ までの波長範囲およびｌｎＰ型のダイオードレ
ーザが放出する先の１１０Ｏｎ＋ｙ＋から１６５０ｎｍ
までの波長範囲では、反射率は０．５％よりも十分低く
なる。
層３の光学的厚さは０．３１Ａｏ とし、層１，２゜４
および５の光学的厚さはそれぞれλ。／４とする。
および５の光学的厚さはそれぞれλ。／４とする。
傾斜屈折率層の厚さは重要でない。層１，２．４および
５の光学的厚さは必ずしもλ。／４に正確に等しくする
必要はない。この厚さを変えることにより反射率曲線を
わずかに偏移させることができる。これにより、特定の
波長に対し特別な反射特性を必要とする場合に最適なも
のが得られるようにする。
５の光学的厚さは必ずしもλ。／４に正確に等しくする
必要はない。この厚さを変えることにより反射率曲線を
わずかに偏移させることができる。これにより、特定の
波長に対し特別な反射特性を必要とする場合に最適なも
のが得られるようにする。
上部被膜の層の１つに用いるのに極めて適した材料はチ
タン酸鉛（ＰｂＴ＋０３） である。この材料の利点
は、この材料をスピニング或いは浸漬により被着でき、
従って真空法を用いる必要がないということである。こ
の目的の為に、エチレングリコールモノエチルエーテル
中に酢酸鉛とテトライソプロピルオルトチクネートとを
入れた溶液を用いることができる。この溶液の薄厚層は
スピニング或いは浸漬により表面上に形成する。これを
５００℃で加熱することにより約２．４０の屈折率を有
するチタン酸鉛を得る。このチタン酸鉛は光学的品質の
高い耐傷性の硬質層である。より一層高い温度で加熱し
ても屈折率は一層高くならない。ｎ・２．４０の屈折率
は５００ ℃の加熱温度ですでにえられる為、チタン酸
鉛は高温度に耐えることのできない物の表面上に堆積す
るのに適している。
タン酸鉛（ＰｂＴ＋０３） である。この材料の利点
は、この材料をスピニング或いは浸漬により被着でき、
従って真空法を用いる必要がないということである。こ
の目的の為に、エチレングリコールモノエチルエーテル
中に酢酸鉛とテトライソプロピルオルトチクネートとを
入れた溶液を用いることができる。この溶液の薄厚層は
スピニング或いは浸漬により表面上に形成する。これを
５００℃で加熱することにより約２．４０の屈折率を有
するチタン酸鉛を得る。このチタン酸鉛は光学的品質の
高い耐傷性の硬質層である。より一層高い温度で加熱し
ても屈折率は一層高くならない。ｎ・２．４０の屈折率
は５００ ℃の加熱温度ですでにえられる為、チタン酸
鉛は高温度に耐えることのできない物の表面上に堆積す
るのに適している。
スピニング或いは浸漬によっても被着しうる他の適当な
材料は酸化鉄（Ｐｅ２０３） である。この目的の為
には、エチレングリコールモノエチルエーテルに硝酸第
二鉄（Ｒｅ （Ｎ［］３） ３）を入れた溶液の薄厚層
をスピニング或いは浸漬により表面上に堆積しうる。こ
の層を８０℃で乾燥させ、次に例えば５００ ℃で加熱
し、これにより２．３０〜２．４０の屈折率を有するＦ
ｅＪ３層を得る。これにより肖る屈折率は加熱温度に依
存する。７５０ ℃で加熱することにより２．４０〜２
５０の屈折率が得られ、１０００℃で加熱することによ
り２．９〜３．００の屈折率が得られる。
材料は酸化鉄（Ｐｅ２０３） である。この目的の為
には、エチレングリコールモノエチルエーテルに硝酸第
二鉄（Ｒｅ （Ｎ［］３） ３）を入れた溶液の薄厚層
をスピニング或いは浸漬により表面上に堆積しうる。こ
の層を８０℃で乾燥させ、次に例えば５００ ℃で加熱
し、これにより２．３０〜２．４０の屈折率を有するＦ
ｅＪ３層を得る。これにより肖る屈折率は加熱温度に依
存する。７５０ ℃で加熱することにより２．４０〜２
５０の屈折率が得られ、１０００℃で加熱することによ
り２．９〜３．００の屈折率が得られる。
本発明は光フアイバ通信システムにおける光学素子、例
えばレンズやファイバ端面の反射率を減少させるのに用
いることができるも、これに限定されるものではない。
えばレンズやファイバ端面の反射率を減少させるのに用
いることができるも、これに限定されるものではない。
上述した非反射被膜は赤外線走査システムの素子にも被
着することができる。
着することができる。
第１図は、３層被膜を有する光学素子に対する基板を示
す線図、 第２図は、基板の屈折率ｎｓ を種々の値にし、最上側
の層の屈折率ｎ１を固定値とした場合の波長の関数とし
ての反射率を示す線図、 第３図は、最」二側の層の屈折率ｎｌを種々の値とし、
基板の屈折率ｎ、を固定値とした場合の波長の関数とし
ての反射率を示す線図、 第４図は、基板の屈折率ｎ５ と、最適な非反射被膜を
１号るための中間層の屈折率ｎ２＋ ｎ、、および最上
側の層の固定値ｎ、＝１．３８ との間の関係を示す線
図、 第５図は、本発明による非反射被膜の第１例を示す線図
的説明図、 第６図は、本発明による非反射被膜の第２例と、これに
関連する反射率曲線とを示す線図的説明図である。 １〜５・・・均質層 ■・・・傾斜屈折率層。 手 続 補 正 書 昭和５９年 ８月 ９日 特許庁長官 志 賀 学 殿■、事件の表
示 昭和５９年特許願第１０３７６６号 ２、発明の名称 光 学 素 子 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 名称 エヌ・ベー・フィリップス・ フルーイランペンファブリケン ４、代理人 氏名 （５９２５）弁理士 杉 村 暁 秀（外１名） ６、補正の対象 明細書の「特許請求の範囲」、「発明
の詳細な説明」の欄 １、明細書第１頁第３行乃至第５頁第５行間を次のとお
りに訂正する。 ［２、特許請求の範囲 １、 約７００ｎｍから約１７００ｎｍまでの波長範囲
に対する非反射被膜が設けられた透明基板を有する光学
素子であって、前記の非反射被膜は、複数個の均質層よ
り成りこれら均質層の屈折率は順次外方に向けて減少す
るようにした上部被膜と、その下側の基部被膜とを有す
るようにした光学素子において、前記の基部被膜の上面
における実効屈折率を少なくとも２．５とし、この基部
被膜は基板の位置における屈折率が基板の屈折率に等し
い傾斜屈折率層を有するようにしたことを特徴とする光
学素子。 ２、特許請求の範囲１記載の光学素子において、前記の
基部被膜は単一の傾斜屈折率層を有し、長をλ。とじた
際にλ。／４に等しい光学的厚さを有することを特徴と
する光学素子。 ３、 特許請求の範囲２記載の光学素子において、傾斜
屈折率層の上面における屈折率を少なくとも３．５ と
し、この傾斜屈折率層は混合物Ｓ］ および５１３Ｎ４
； Ｓｉ、 Ｓｌ、３Ｎ４ およびＳｉＯ□；ＧａＰおよ
びＧａＮ ； ＧａＰ、 ＧａＮおよび［；ａ２０３：ＰｂＳおよびＺ
ｎＳ； ＰｂＳ、 ＺｎＳおよびＢ−Ｎａ−ＡＩ−Ｋ ガラス
のうちの１つの混合物を有することを特徴とする光学素
子。 ４、 特許請求の範囲３記載の光学素子において、前記
の上部被膜の３つの層の屈折率ｎ ｌ ＋ ｎ ２およ
び口３を以下に記載した値とし、これらの層を形成する
材料をこれらの層の屈折率の下側に記載した材料、すな
わち ｎ、＝ＩＪ８ ｎ２＝２．２ ｎ３＝３．
１ＭｇＦ２ Ｎｂ２Ｏ５Ａｌ５ｂ ＴｉＮ 無定形の５ｂ２Ｓ３ Ｔａ２０ｓ ＳｔとＳｉＪ＜ との混合物ｂ２ｏ
３ としたことを特徴とする光学素子。 ５、 特許請求の範囲１記載の光学素子において、前記
の基部被膜は、屈折率が基板の屈折率の値よりも低い値
まで外方に向けて減少する第１の傾斜屈折率層と、屈折
率が外方に向けて１込する少なくとも２つの均質層とを
具えており、上部被膜は３つの層を有しており、これら
３つの層の各々は基準波長をλ。とじた際にλ。／４に
＋ｉ Ｌｌ’等しい光学的厚さを有することを特徴とす
る光学素子。 ６、特許請求の範囲５記載の光学素子において、外方か
ら内方に向けて以下の屈折率、組成および光学的厚さ、
すなわち、 ｎ＋＝１．３９ ＭｇＦ２ ０．２５
Ａ 。 ｎ２＝２．０８ Ｎｂ２Ｏ５Ｏ，２５λ。 ｎ３＝２．５２ １ｊｊＳ Ｏ，３１λ。 ｎ４＝２．０８ Ｎｂ２Ｏ５０，２５λ。 ｎｓ”１．６５ 八１２０３ ０．２５
λ。 を有する５つの層が傾斜屈折率層上に堆積されているこ
とを特徴とする光学素子。 ７、 特許請求の範囲１，２．３および５のいずれか１
つに記載の光学素子において、非反射被膜の層の１つが
約２．４の屈折率を有するチタン酸鉛を以て構成されて
おり、この層は、エチレングリコールモノエチルエーテ
ル中に酢酸鉛とテトラインプロピレンオルトチクネート
とを入れた溶液中でのスピニング或いは浸漬により、ま
たその後の約５００ ℃での加熱により被着されている
ことを特徴とする光学素子。 ８、 特許請求の範囲１，２．３および５のいずれか１
つに記載の光学素子において、非反射被膜の層の１つは
酸化鉄（Ｆｅ２０３）を以て構成し、この層は、エチレ
ングリコールモノエチルエーテル中に硝酸第二鉄を入れ
た溶液中でのスピニング或いは浸漬により、またその後
の加熱により被着されていることを特徴とする光学素子
。」 ２、明細書第１１頁第６行の「減少」を「増大」に訂正
する。 ３、同頁第９行の「等しい」を「はぼ等しい」に訂正す
る。
す線図、 第２図は、基板の屈折率ｎｓ を種々の値にし、最上側
の層の屈折率ｎ１を固定値とした場合の波長の関数とし
ての反射率を示す線図、 第３図は、最」二側の層の屈折率ｎｌを種々の値とし、
基板の屈折率ｎ、を固定値とした場合の波長の関数とし
ての反射率を示す線図、 第４図は、基板の屈折率ｎ５ と、最適な非反射被膜を
１号るための中間層の屈折率ｎ２＋ ｎ、、および最上
側の層の固定値ｎ、＝１．３８ との間の関係を示す線
図、 第５図は、本発明による非反射被膜の第１例を示す線図
的説明図、 第６図は、本発明による非反射被膜の第２例と、これに
関連する反射率曲線とを示す線図的説明図である。 １〜５・・・均質層 ■・・・傾斜屈折率層。 手 続 補 正 書 昭和５９年 ８月 ９日 特許庁長官 志 賀 学 殿■、事件の表
示 昭和５９年特許願第１０３７６６号 ２、発明の名称 光 学 素 子 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 名称 エヌ・ベー・フィリップス・ フルーイランペンファブリケン ４、代理人 氏名 （５９２５）弁理士 杉 村 暁 秀（外１名） ６、補正の対象 明細書の「特許請求の範囲」、「発明
の詳細な説明」の欄 １、明細書第１頁第３行乃至第５頁第５行間を次のとお
りに訂正する。 ［２、特許請求の範囲 １、 約７００ｎｍから約１７００ｎｍまでの波長範囲
に対する非反射被膜が設けられた透明基板を有する光学
素子であって、前記の非反射被膜は、複数個の均質層よ
り成りこれら均質層の屈折率は順次外方に向けて減少す
るようにした上部被膜と、その下側の基部被膜とを有す
るようにした光学素子において、前記の基部被膜の上面
における実効屈折率を少なくとも２．５とし、この基部
被膜は基板の位置における屈折率が基板の屈折率に等し
い傾斜屈折率層を有するようにしたことを特徴とする光
学素子。 ２、特許請求の範囲１記載の光学素子において、前記の
基部被膜は単一の傾斜屈折率層を有し、長をλ。とじた
際にλ。／４に等しい光学的厚さを有することを特徴と
する光学素子。 ３、 特許請求の範囲２記載の光学素子において、傾斜
屈折率層の上面における屈折率を少なくとも３．５ と
し、この傾斜屈折率層は混合物Ｓ］ および５１３Ｎ４
； Ｓｉ、 Ｓｌ、３Ｎ４ およびＳｉＯ□；ＧａＰおよ
びＧａＮ ； ＧａＰ、 ＧａＮおよび［；ａ２０３：ＰｂＳおよびＺ
ｎＳ； ＰｂＳ、 ＺｎＳおよびＢ−Ｎａ−ＡＩ−Ｋ ガラス
のうちの１つの混合物を有することを特徴とする光学素
子。 ４、 特許請求の範囲３記載の光学素子において、前記
の上部被膜の３つの層の屈折率ｎ ｌ ＋ ｎ ２およ
び口３を以下に記載した値とし、これらの層を形成する
材料をこれらの層の屈折率の下側に記載した材料、すな
わち ｎ、＝ＩＪ８ ｎ２＝２．２ ｎ３＝３．
１ＭｇＦ２ Ｎｂ２Ｏ５Ａｌ５ｂ ＴｉＮ 無定形の５ｂ２Ｓ３ Ｔａ２０ｓ ＳｔとＳｉＪ＜ との混合物ｂ２ｏ
３ としたことを特徴とする光学素子。 ５、 特許請求の範囲１記載の光学素子において、前記
の基部被膜は、屈折率が基板の屈折率の値よりも低い値
まで外方に向けて減少する第１の傾斜屈折率層と、屈折
率が外方に向けて１込する少なくとも２つの均質層とを
具えており、上部被膜は３つの層を有しており、これら
３つの層の各々は基準波長をλ。とじた際にλ。／４に
＋ｉ Ｌｌ’等しい光学的厚さを有することを特徴とす
る光学素子。 ６、特許請求の範囲５記載の光学素子において、外方か
ら内方に向けて以下の屈折率、組成および光学的厚さ、
すなわち、 ｎ＋＝１．３９ ＭｇＦ２ ０．２５
Ａ 。 ｎ２＝２．０８ Ｎｂ２Ｏ５Ｏ，２５λ。 ｎ３＝２．５２ １ｊｊＳ Ｏ，３１λ。 ｎ４＝２．０８ Ｎｂ２Ｏ５０，２５λ。 ｎｓ”１．６５ 八１２０３ ０．２５
λ。 を有する５つの層が傾斜屈折率層上に堆積されているこ
とを特徴とする光学素子。 ７、 特許請求の範囲１，２．３および５のいずれか１
つに記載の光学素子において、非反射被膜の層の１つが
約２．４の屈折率を有するチタン酸鉛を以て構成されて
おり、この層は、エチレングリコールモノエチルエーテ
ル中に酢酸鉛とテトラインプロピレンオルトチクネート
とを入れた溶液中でのスピニング或いは浸漬により、ま
たその後の約５００ ℃での加熱により被着されている
ことを特徴とする光学素子。 ８、 特許請求の範囲１，２．３および５のいずれか１
つに記載の光学素子において、非反射被膜の層の１つは
酸化鉄（Ｆｅ２０３）を以て構成し、この層は、エチレ
ングリコールモノエチルエーテル中に硝酸第二鉄を入れ
た溶液中でのスピニング或いは浸漬により、またその後
の加熱により被着されていることを特徴とする光学素子
。」 ２、明細書第１１頁第６行の「減少」を「増大」に訂正
する。 ３、同頁第９行の「等しい」を「はぼ等しい」に訂正す
る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、 約７００ｎｍから約１７００ｎｍまでの波長範囲
に対する非反射被膜が設けられた透明基板を有する光学
素子であって、前記の非反射被膜は、複数個の均質層よ
り成りこれら均質層の屈折率は順次外方に向けて減少す
るようにした上部被膜と、その下側の基部被膜とを有す
るようにした光学素子において、前記の基部被膜の上面
における実効屈折率を少なくとも２．５とし、この基部
被膜は基板の位置における屈折率が基板の屈折率に等し
い傾斜屈折率層を有するようにしたことを特徴とする光
学素子。 ２、特許請求の範囲１記載の光学素子において、前記の
基部被膜は単一の傾斜屈折率層を有し、この単一の傾斜
屈折率層はこの層の上面で少なくとも２．５の屈折率を
有し、前記の上部被膜は３つの均質層を有し、各均質層
は基準波長をλ。とじた際にλ。／４に等しい光学的厚
さを有することを特徴とする光学素子。 ３、 特許請求の範囲２記載の光学素子において、傾斜
屈折率層の上面における屈折率を少なくとも３．５ と
し、この傾斜屈折率層は混合物Ｓ１ および５１３Ｎ
４； Ｓｌ、 ＳＩ３Ｎ４ および５Ｉ０２ ：ＧａＰおよ
びＧａＮ ； ＧａＰ、ＧａＮ 阻よびＧａ２Ｏ３； ＰｂＳおよびＺｎＳ； ＰｂＳ、 ｌｎＳおよびＢ−Ｎａ−ＡＩ−Ｋ ガラス
のうちの１つの混合物を有することを特徴とする光学素
子。 ４、 特許請求の範囲３記載の光学素子において、前記
の上部被膜の３つの層の屈折率ｎ ＋ ＋ ｎ２および
ｎ３を以下に記載した値とし、これらの層を形成する材
料をこれらの層の屈折率の下側に記載した材料、すなわ
ち ロ＝１，３８ ｎ２＝２．２ ｎ３＝３．１Ｍ
ｇＦ２Ｎｂ２Ｏ５Ａｌ５ｂ ＴｉＮ 無定形の５ｂ２Ｓ３ Ｔａ２０ｓ ＳｉとＳｉ３Ｎ４ との混合物Ｓ
ｂ ２０３ としたことを特徴とする光学素子。 ５、 特許請求の範囲１記載の光学素子において、前記
の基部被膜は、屈折率が基板の屈折率の値よりも低い値
まで外方に向けて減少する第１の傾斜屈折率層と、屈折
率が外方に向けて減少する少なくとも２つの均質層とを
具えており、上部被膜は３つの層を有しており、これら
３つの層の各々は基準波長を２゜とじた際にλ、／４
に等しい光学的厚さを有することを特徴とする光学素子
。 ６、特許請求の範囲５記載の光学素子において、外方か
ら内方に向けて以下の屈折率、組成および光学的厚さ、
すなわち、 ｎ、＝１．３９ ＭｇＦ２ ０．２５ ２
０ｎ２−２．０８ Ｎｂ２Ｏ，０，２５／ｌ。 ｎ３＝２．５２ ＣｄＳ Ｏ，３１λ
。 ｎ４＝２．０８ Ｎｌ］２０ｓ Ｏ，２５
λ。 ｎ５＝１．６５ Ａｌ２Ｏ３０，２５λ。 を有する５つの層が傾斜屈折率層上１ζ堆積されている
ことを特徴とする光学素子。 ７、 特許請求の範囲１，２．３および５のいずれか１
つに記載の光学素子において、非反射被膜の層の１つが
約２．４ の屈折率を有するチクン酸鉛を以て構成され
ており、この層は、エチレングリコールモノエチルエー
テル中に酢酸鉛とテトライソプロピレンオルトチタネー
トとを入れた溶液中でのスピニング或いは浸漬により、
またその後の約５００ ℃での加熱により被着されてい
ることを特徴とする光学素子。 ８、 特許請求の範囲１，２．３および５のいずれか１
つに記載の光学素子において、非反射被膜の層の１つは
酸化鉄（Ｆｅ２０３）を以て構成し、この層は、エチレ
ングリコールモノエチルエーテル中に硝酸第二鉄を入れ
た溶液中でのスピニング或いは浸漬により、またその後
の加熱により被着されていることを特徴とする光学素子
。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL8301824 | 1983-05-24 | ||
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