JPS59232199A - 加工機械用清浄剤組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は特定な水浴性尚分子化合物を含有する新規な加
工機械用ｉ’Ｎ　Ｒ’削組成物に関する。

例えば、金属の熱間父は冷間圧延機、プレス加工機、切
削・研磨加工機、ｌｌ１ｌｌ管製造機等の詞嘴前又は軸
受油等を使用する加工機では、金属加工時に発生する熱
、加えられる圧力、潤滑油温度、商滑油のエマルジョン
として加工部に供給される水のｌ４、兜工時の活性金属
粉の生成前の多くの因子が作用して、簡滑油成分（例え
ば、牛脂、パーム油等の油脂類、鉱物油、合成エステル
、脂肪酸）が化学反応、自己分解等を惹起して変化し、
金属粉、金槙扮と胸滑油成分との反応物、あるいは潤滑
油成分の分解物等が混り合った汚れ、所謂スカムな発生
することを工周知である。

しかし、加工４８４４におけるスカムの発生を防止する
ことは極めて内錐であり、スカムの経時的堆積によって
、■スカムの破りロ工材への付着による破卵工材の汚れ
、■潤滑油又は句滑油エマルクヨン中にスカムが混入す
ることによる副滑性の変化、すなわち作業の不安定化、
■環境の態化、■火災の発生等の棟々の問題を生ずる。

従って、これらを解消するＫは、定期的に機械に付着し
たスカムを清ゆ刑を用いて除去してｈるのが現状である
。

従来、この清浄には、アルカリタイプ、界面活性剤を主
成分とする中性タイプ又は石油系溶剤りイブの清ｒす削
を水と混和したものをスプレーする方法等がとられてい
る。しかしながら、これらの（７） 清浄剤は大々一長一短があり、／１４尾できるものでは
なかった。丁なわち、ケロシン、ソルベントナフサ等の
石油系溶剤をエマルジョンあるい（・エソルデル型とし
たタイプのもの＆工、スカム中の油分の畔解力で七れて
いるが、引火及びミスト等の吸引による人体への影響等
の危険性が大穴い欠点がある。また中性タイプのものは
、スカム中の油分、金＠扮を乳化ｇは分散させるもので
あるため、引火性の危険性は少ないが、清浄力が低く、
シかも界面活性剤を多く含むため清浄後の排水処理釦大
きな間ｙハを生ずる。更にｆた、アルカリタイプのもの
は中性タイプのものに比較し清浄力は強いが、石油系離
削タイプに比べ清浄力が悪いと共に、アルカリ剤を含む
ため作業者の体（眼、皮膚）に接触すると危険であると
いう欠点を有する。

斯かる実情において、本発明者は、上記欠点のないスカ
ムの除去性の浸れた加工機戟用清浄剤を提供すべぐ佃々
研死を行った結果、特定の水溶性尚分子化合物を使用す
ることによって、これまでスカ の清浄剤と異った機作によって　　ムを除去する（８） へ体釦安全な清浄剤組成物を見出し、本発明を完成した
。

すなわち、本発明は、■分子ｆｔ１０００〜１０００万
の分子中に塩基性又は醐イオン性の窒素原子を有する陽
イオン性又は両性イオン性の重縮合−又はその塩、■分
子１ｉｏｏｏ〜１０００万の分子中にアミｐ）＆を有す
る原イオン性の重縮合物又はその塩及び■オレフィンー
マレイン酸共重合物塩、アクリル酸又はメタクリル酸−
マレイン酸共重合物塙、アクリル酸又はメタクリル酸の
単独重合物場又はこれらの共重合物塩、５／、はアクリ
ルアミドアルキレンスルホン酸の重合物から成る群かＣ
）Ｒばれる１偵又昏工２檀以上の水浴性筒分子化合物を
含有する加工機械用清浄剤組成物を提供するものである
。

本発明で使用される水飽性高分子化合物の■の嘲イオン
性、両性イオン性のＭｉｄ合物としては次の■〜■のも
のが挙けられる。

■　次の一般式（１）〜（ＩＫ）で表わされる含窒累単
量体又はその塩の単独重合物あるいは２檀以上（９）　
　　　　　　　　　　　　−・の共重合物。

ＣＲ１はＨ又はＣＥ（３、Ｒ２及びＲ５はＲ５１は炭素
数１〜６のアルキル基〕 〔ｍｌは１〜３の故、ｎｌは１〜６の数、Ｒ１。

Ｒ２，Ｒ３は式（Ｉ）と同、じ〕 Ｉ ４ ［Ｒ４＋ＸＨ′ｉは炭素数１〜５のアルキル又はアルキ
ロール基、Ｒ１は式（１）と同じ〕１ （１０） 〔ｍ２及びｎ２は０〜５の数、Ｒ１＋　Ｒ２＊　Ｒ３は
式（１）と同じ〕 Ｉ ［：Ａｌｊ、−０−父は−ＮＨ−１Ｒ１＋　’Ｒ２１Ｒ
３＊　ｎ　　６１式（１）及び（１１）と同じ］ Ｉ ＣＲ１１’Ｒ２ｔ　Ｒｓ　＋　ｎ”Ｘ式（１）及び（■
）と同じ〕 Ｉ ＣＲ１は式（１）と同じ。ピリジンの１ａ換位は２又は
４位〕 １ （Ｒ１ｒ　Ｒ２は式（１）と同じ。ピペリジンの＠換位
は２父は４位〕 １ ［Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３は式（１）と同じ〕これらの単量体
の具体例としては次のものが挙げられる。

■　（１）式の５−メタクリロキシ−２−ヒＶロキシデ
ロビルジメチルアミン、 ３−メタクリロキシ−２−ヒｒロキシデロビルエチルメ
チルアミン、 ５−メタクリロキシ−２−ヒドロキシプロピルジエチル
アミン、 ６−メタクリロキシ−２−とｒロキシデロビルジデロビ
ルアミン等が：（ｎ）式のＮ　、　Ｎ−シメチルアミノ
メチレンキャツ″ｆＹエチレングリコールメタアクリレ
ート、 Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノエチレンキャツデドエチレング
リコールメタアクリレート、Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノグ
ロピレンキヤツデドエチレングリコールメタアクリレー
ト、Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノメチレンキャッ７″ｒジエ
チレングリコールメタアクリレート、Ｎ、Ｎ−ゾメチル
アミノエチレンキャップドジエチレングリコールメタア
クリレート、Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノプロピレンキャッ
プげジエチレングリコールメタアクリレート、Ｎ、Ｎ−
ジエテルアミノメチレンキャッデ１エチレングリコール
メタアクｌＪＬ／−ト、Ｎ、Ｎ−ジエチルアミノエチレ
ンキャップダエチレングリコールメタアクリレート、Ｎ
、Ｎ−ジエチルアミノゾロビレンキャップドエチレング
リコールメタアクリレート、Ｎ、Ｎ−ジエチルアミノメ
チレンギャップＶジエチレングリコールメタアクリレー
ト、Ｎ、Ｎ−ジエチルアミノエチレンキャップドジエチ
レングリコールメタアクリレート、Ｎ、Ｎ−ジエチルア
ミノプロピレンキャップげジエチレングリコールメタア
クリレート等が＝（［１）式のＮ−２−ヒＹロキシメチ
ルー２−α−メチルビニルイミタ＊ｌ”　−Ａ／、 Ｎ−２−ヒげロキシエチルー２−α−メチルビニルイミ
１１戸−ル、 Ｎ−２−ヒｒロキシデロビルー２−α−メチル−ニルイ
ミダ・戸−ル等が；　（［Ｖ）式のＮ、Ｎ−ジメチルメ
チレンイミンメタアクリルアミド、Ｎ、Ｎ−ジエチルメ
チレンイミンメタアクリルアミド、 Ｎ、）１−ジメチルジメチレンイミンメタアクリルアミ
Ｖ１ Ｎ、Ｎ−ジメチルジエチレンイミンメタアクリルアミｖ
１ Ｎ、Ｎ−ジエチルメチレンイミンメタアクリルアミド、 Ｎ、Ｎ−ジエチルエチレンイミンメタアクリルアミｒ。

Ｎ、Ｎ−ジメチルジメチレンイミンメタアクリルアミ「
、 Ｎ、Ｎ−ジエチルジエチレンイミンメタアクリルアミｒ
等が例示できる。

（Ｖ）式のジメチルアミノエチルアクリレート、ジエチ
ルアミノエチルアクリレート、ジメチルアミノエチルメ
タクリレート、ゾエチルアミノエチルメタク１１レート
、ジメチルアミノプロピ′ルアクリルアミｒ１ジエチル
アミノプロピルアクリルアミＶ、ジメチルアミノプロピ
ルメタクリルアミド、ジエチルアミノプロピルメタクリ
ルアミｖ等；　（Ｖｌ）式のジメチルアミノメチルエチ
レン、ジエチルアミノメチルエチレン、ジメチルアミノ
メチルプロペン、ジエチルアミノメチルプロペン停；　
（Ｍｌ）式のビニルピリジン寺；（Ｖｏ式のビニルピペ
リジン、ビニル−Ｎ−メチルヒヘリジン等；　（ＩＸ）
式のピニルベｙ　シ／Ｉ／アミン、ビニル−Ｎ、Ｎ−ジ
メチルベンジルアミン等が挙げられる。

■　前記一般式（１）〜＜ＩＸ）で表わされる含窒素単
量体又はその鳩の１種又は２種以上と、α、β１　　　
−不協和カルポン酸又はその１Ｍちるいはその誘導体、
スルホン酸基ざ有ビニル化合物又はその鴫、アクリロニ
トリル、ビニルピロリドン及ヒ炭素数２〜２００１盾ル
ｈ族オレフィンから成る群から選ばれるビニル糸車゛計
体の１棟又は２種以上との共重合物。

このビニル糸車Ｍ・体として※工、例えはビニルピロリ
ドン、アクリロニトリル；アクリレート、メタクリルｒ
唆、マレイン散文＆工これらの酸のアルカリ金４塩、ア
ンモニウム堪、アマイー化合′吻モしくｔ″ｒ、エステ
ル化１勿：ビニルスルホンｌ夜、メタリルスルホン酸、
２−アクリルアミド−２−メチルプロ／★ンスルホン酸
、ｐ−スチレンスルホン愼又はこれらの酸のアルカリ金
属塩もしく＆エアンモニウム塩等が橘げられる。

■　エチレンイミンの：刑鵡市合を勿の聰父＆Ｘ第４．
吸７ｙモニウム塩又はこれらの譲４１木。

これＶ工具体重にはその繰返し単位が次の一般式（ＸＩ
）で表わされ、平均汁子曖が１，０００〜１０００万の
ものが挙げられる。

〔式中、ｎ３Ｇ工１〜５の整数、ｎ’Ｇ工ｏ〜５の整数
を示す〕 ■　脂肪族ジカルづぐン酸とポリエチレンポリアミン又
シエジポリオキシェチレンアルキルアミンと”）　１４
ｄ　Ｍ　合物の塩又は第４級アンモニウム塩。

具体的には、それらの繰返し単Ｍが一般式（Ｘｌｌ）で
表わされるポリエチレンポリアミンとの縮Ｉ【合物及び
一般式（ＸＩ［）で表わされるジポリオキシエチレンア
ルキルアミンとのｖ６重合物で分子前が１，０００〜１
０００万のものが挙げられる。

（−ＱＣ−Ｒ７−ＣＯＮＨ−（−Ｒ’−ＮＨ升−５Ｒ’
−ＮＨ−３−（、ｘｌｌ）〔式中、Ｒ７＋エダイマー酸
残基又は炭素数１〜１０のアルキレン基、Ｒ′は−ＣＨ
２ＣＨ２−１ｎ５は２〜７の整数を示す〕 〔式中、Ｒ９は式（Ｘｌｌ）と同じ。Ｒ８は戻累叙１〜
８のアルキル基、ＲＱ　’ｒＺ　ＨＳｌ　＋１　ＣＨ３
、Ｒ６及びＲ７は１〜１００整数を示す〕 上記脂肪族ジカルぜン酸としては、ダイマー酸、アジピ
ン酸等が挙げられ、ポリエチレンポリアミンとしては、
ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン等が１
史用できる。

■　ジハロアルカン−ポリアルキレンポリアミン鰯重合
物。

具体的に’ｚ、１＋２−ジクロルエタン、１゜２−ジブ
ロムエタン、ｉ、ｓ−ジクロルプロパン等のジハロアル
カンと、分子内に２　＋＋ｆｆｉもしくはそれ以上の５
級アミノ基な有するポリアルキレンポリアミンとの第４
級アンモニウム増であるＭａ篤合物であり、その平均分
子晴が１０００〜７０００万のものが挙げられる。

上記ポリアルキレンポリアミンとして＆工、次のものが
挙けられる。

＼ ■　エピハロヒドリン−アミン−重合１勿。

具体的には繰返し単位が次の一般式（ＸＩＶ）で表わさ
れ、平均分子址が１０００〜１０００万のものが埜けら
れる。

＋０−ＣＨ２０Ｈ−１− ｃ式中、Ｔ（ｉ’ｏ　〜Ｒ１２ＧＸ　ＣＨ３ｇ＋ｚ　Ｃ
’２Ｈ５、Ｘｅはハロゲンイオンを示す〕 ■　キトサンの塩ある匹はデンプン５１はセルロースの
カチオン賓性物。

■　室ｇ　原子６〜２００個を有するポリアルキルイミ
７５１　’／Ｘ　ソの誘導体にアルキレンオキシトラ付
加して得られる分子１＆６００〜６ｏ万の？　’）エー
テルポリオール又はポリオールポリエーテルＩ透導体。

ポリアルキレンポリアミンは分子内に下記（ＸＶ）式に
て示す骨格を連続して５ヶ以上有し、且っそ個を含むポ
リエチレンイミンであるのが好まい〜−Ｃ’Ｈ２ＣＨ２
Ｎ（（ＸＶ） また、ポリエーテルポリオール中のアルキレンオキシば
がエチレンオキシげ、プロピレンオキシＶ、スチレンオ
キシげ、ブチレンオキシｒから成る群から選ばれる１神
父は２種以上のものであり、その含有惜がポリエーテル
ポリオール中レート。

ポ↑「憾であるのが好ましい。

上記（ω〜■の机Ｒｄ合物は、その平均分子杖が１００
０〜１００力の４のかより好まし＾。

１だアクリルアミゾアルキレンスルホン酸としては次式
（Ｘ）、 ５ 暑 Ｒ＾ ＣＲ，、、Ｒ６＆Ｘ炭素数１〜３のアルキルｌＡ、ｍｊ
、ｎ２を１式（１ｖ）と同じ〕 で表わされるもので、その単独重合物、２棟以上の共ボ
合物又他の単量体との共重合物が使用される。

これらの水浴性菌分子化合物の対イオンとして昏工久の
（１１〜（ｖｌ）のものが亭けられる。

ｉｌ＋　　リン酸、亜リン酸又はこれらのチオ又はエス
テル化合物 （１１）　　アルキル、アルキルアリル父はアリル基に
１１固以上の水酸基を有するモノもしくはシリン酸エス
テル又はこれらのチオ化合物 ＋１１１１　　炭素数１〜８のアルキル、アルキルアリ
ル又はアリル−基を有する七ノ又シエジホスホン酸又は
これらのチオ化合物又はこれらの誘導体＋１ｖｌ　　炭
素数１〜８のアルキル、アルキルアリル又シエアリル基
を有するモノ又はジホスフィン酸又はこれらのチオ化合
物又はこれらの誘導体Ｍ　　窒素原子を含有するモノ又
はジ又はトリホスホン酸 （ｖｌ）硼酸 このリン酸化合物の具体例としては次のものが例示され
る。（１）のものとしては、正リン酸、「拒リン酸、炭
素数１−８の脂肪族又は脂環族又は芳合族アルコールと
正リンｔＹ＆とのモノ又はシリン酸エステル又はこれら
のチオ化合物、又は上記アルコールとの亜リン酸エステ
ル又はこれらのチオ化合物が例示される。（１１）のも
のとしては２−ヒＶロキシデロビルホスフェートが例示
されろ、　１１１１１のものＲ２Ｏは炭素数１−８のア
ルギル基、アルキルアリル基又はアリル基）で衣わされ
るホスホン酸、ｆｆ１Ｊｔば暖素数１のメチルホスホン
酸、ジメチルホスホン酸から炭素数８のｎ−オクチルホ
スホン酸、ジｎ−オクチルホスホンへ、２−エチルへキ
シルホスホン酸、ジー２−エチルへキシルホスホン酸、
ベンジルホスホン酸、ジベンジルホスホン酸、フェニル
ホスホン酸、ジフェニルホスホンＩ貸、ヒげロキシエタ
ンゾホスホン酸、並びにこレラのチオホスホン酸が例示
される。ヒドロキシエタンジホスホン酸は次の式で表わ
される化合物である。

ＯＨ０Ｍ　　ＯＨ ン酸、例えは炭素数１のメチルホスフィン酸、ジメチル
ホスフィンＴ’Ｓから炭″Ｊｇ数８のｎ−オクチルホス
フィン酸、ジｎ−オクチルホスフィン酸、２−エチルへ
キシルホスフィン酸、ジー２−エチルへキシルホスフィ
ン酸、ベンジルホスフィン酸、ジベンジルホスフィン酸
、フェニルホスフィン酸、ジフェニルホスフィンｒ！、
ｉｌｍびにこれらのチオホスフィン酸が例示される。Ｍ
のものとしては、ヘキサメチルホスホリックモノ（又は
ジ）アミｖにトリロトリスメチレンホスホン酸が例示さ
れる。

ニトリロトリスメチレンホスホンｆｄ＆工次の式で表わ
される化合物である。

ＣＨＯＨ １′ ＨＯ−Ｐ＝＝０ ＯＨ 本発明の７ＪＯ工機械用清＃剤組成９勿は、上記の水溶
性高分子化合物の１橿又は２橿以上な水にとかして水溶
液状態として便用するのが好ましい。これには必要に応
じて、公知の水醪性防錆・Ｖｉ食削を０．０１〜１０上
を憾（以下単に％と記載する）配合することができる。

防錆・防食削としては、例えばクロム酸塩、亜硝酸塩、
モリブデン酸塩、車台リン酸塩等の無機化合物；モノア
ミン、ジアミンもしくはアミＫ　ｆｔ又はこれらのエト
キシル化′勿、−塩基ν塩、二塩基酸嵐、ナフテン酸塩
、リン酸塩もしくは上記無機化合物との塩、アミノ酸の
アルカリ塩、イミダ−戸リン誘導体、第４級アンモニウ
ム塩、メルカプトペン１戸ドリア１戸−ル、ペン１戸ド
リア・戸−ル等を挙げられる。

本発明の加工機械用清浄剤組成物の使用時における水溶
性高分子化合物の濃朋は１００〜１０万ｐｐｍ％特に３
００〜５万ｐｐｍが好ましい。スカム等の７＃争は、こ
の組成物を被清浄部位にスプレーするかあるいは該組成
物中に岐′ｔｆ４浄物を浸漬することによって行われる
。

本発明の清浄剤組成物によるスカム等の清浄作用の詳細
は明らかでないが、おおよそ次のクロ〈であると血定さ
れる。すなわち、本発明で使用する水溶性高分子化合物
の水溶液の表面張力は水と殆んど同一であるので、界面
活性剤の如く汚れを乳化あるいは分散させる作用はない
が、汚れ表面に速やかに吸着し、汚れ表面を高分子化合
物特有の重体的あるいは保護コロイげ的に埒って汚れを
親水性化し、汚れ同士の凝集、合−等による粘着性を低
下させて流動性を付与するため、わずかな物理力、例え
ばスプレー圧等で汚れを容易に除去できるものと考えら
れる。

従って、本発明の加工Ｖ％　億用清浄剤は次の如き特長
を有する。

■　僅かな物理力で間単に汚れを清浄除去できる。

■　スカム等の汚れの表面が高分子化合物によって覆わ
れるので、除去された汚れはベトつかず廃棄処理が容易
である。

■　処理後汚れが水中に乳化、分散しないので、水より
簡単に分離することができて、従って汚水の排水処理が
容易である。

■　水への汚れの混入が少ないので、清浄力の持続性が
長い。

■　水溶性高分子化合物は凝集剤として作用するので、
排水処理能力が大きい。

■　中性であるので、人体に対して安全である。

■　火災等の危１噴性かない。

本発明の清浄剤組成物は、上述のような優れた特徴を有
するので、金４の機儂加工時、イ岡滑剤の使用により発
生する汚れ（スカム）の清浄を行うことができると共に
、潤滑削以外で生ずる汚れ、ψ１］えばタンカーでの原
油タンク壁に性情した原油スラッジの除去、石油、悄製
設備でのタールピッチスラッジ等の清浄にも使用できる
。

次に実施例を挙けて説明する。

水溶性高分子化合物： （Ａ−１）ジエチルアミノメチルメタクリレートの重合
物をリン酸塩としたもの（ＭＷ＝５０万）（Ａ−２）　
　　　　　　　　　（ＭＷ＝　　１万）（Ａ−３）　　
　　　　　　　　　　　（ＭＷ＝２０００　　）（Ｂ−
１）ジエチルアミノエチルメタクリレートの＋ｊｌｅｆ
ｌ　Ｆ＆／ビニルピロリドン／アクリル酸ソーダ＝５／
４／１　（モル比で示す。木表において以Ｆ同じ）で、
０＞る共重合物（Ｍｗ＝２０万）（Ｂ−２）　　　　　
　　　　　　（ＭＷ＝　　５万）（Ｂ−３）ジエチルア
ミノエチルメタクリレートのｔｉｌＩ酸塩／ビニルピロ
リーン／アクリル酸ソーダ＝５／４／１　（モル比で示
す。木表において以下同じ）である共重合物（ＭＷ＝　
５０００）（Ｂ−４）　　　　　　　　　　　　　（Ｍ
Ｗ＝　１５００　）（Ｂ−５）　　　　　　　　　　　
　　（ＭＷ＝　　７００）（Ｃ−１）ジエチルアミノエ
チルメタクリレートのリンｖ！ｉ＠Ｃ／メタアクリル酸
ソーダー４１５の共重合物（ｙｗ＝２万） （Ｃ−２）　　　　　　　　　　　　　　（ＭＷ＝　８
０００）（Ｃｊ、）　　　　　　　　　　　　　　（Ｍ
Ｗ＝　１０００　）（Ｄ）　　エチレンイミンのリンｈ
女哩の開環重合物（ＭＷ、＝１０万） （Ｅ）　　ジメチルアミンエチルメタクリレートのエチ
ル亜ホスフイン酸１畠／アクリル酸ソーダ＝５　／　１
　ノ共ｉ合ｍ（Ｍｗ＝３０万）（Ｆ）　　ジメチルアミ
ノエチルメタクリレートのエチルホスホンｔｉ！塩／２
−アクリルアミノ−２−メチルプロパンスルホン酸ソー
ダ＝４／１の共重合！吻（ＭＷ＝１０万） （Ｇ）　　ビニルピリジンのリン酸塩／♂ニルピロリ関
ン／アクリル酸ソーダ＝６／３／１の共重合物（ＭＷ＝
４５万） （Ｈ）　　ジエチレントリアミンのチオリンＩ’＋１と
ダイマー酸の重縮合物（ＭＷ＝８０万） （１）　　ジエチルアミノエチルメタクリルアミｒのリ
ン酸塩／アクリル酸ソーダ／ビニルスルホン酸ソーダ”
ｌ／１／１の共重合物（ＭＷ＝４０万） （Ｊ）　　ビニルピリジンのジメチルホスフィン酸によ
る第４級アンモニウム塙／ビニルビ０１Ｊ　ｒン／アク
リル酸ソーダ＝６／３／１の共重合９勿　（ＭＷ＝４５
　　万　） （Ｋ）　　水溶性高分子化合物（１）のジエチルアミン
エチルメタクリルアミｒのリン酸塩を＃Ｉ酸塩としたも
の。

（Ｌ）　　セルロースのカチオン変性物の第４級アンモ
ニウム塩（ＭＷ＝１００万） （Ｍ）１．２−ジクロルエタンとへキサメチレンテトラ
ミンのリン酸塩の重画合物（ＭＷ＝５万）（Ｎ）　　ジ
エチレントリアミンのエチルホスフィン酸塩とタ゛イマ
ー酸の重縮合物（ＭＷ＝８０万）（０）　　エビクロル
ヒマリンのトリメ′チルアミン第４級アンモニウム化合
物の亜リン酸塩の１ボ環重合物（ＭＷ＝１０万） （Ｐ）　　テトラメチルプロピレンジアミンのジエチル
ホスホン酸による第４級アンモニウム塩の重縮合物（Ｍ
Ｗ＝ｌＱ万） （Ｑ）　　水溶性高分子化合物（（））のビニルピリジ
ンのリン酸塩を硫酸塩としたもの （Ｒ）　　水浴性菌分子化合物（Ｈ）のジエチレン）　
Ｉ７アミンのチオリン酸塩を硝酸塩としたもの（８）　
　水溶性高分子化合物（Ｆ）のジメチルアミノエチルメ
タクリレートのエチルホスホン酸塩を１４酸塩としたも
の （Ｔ）　　水溶性高分子化合物（Ｅ）のジメチルアミノ
エチルメタクリレートのエチル亜ホスフイン酸塩をクリ
コール酸塩としたもの （Ｕ）　　水溶性高分子化合物（Ｄ）のエチレンイミン
＋７）　＋７ン酸塩を酢酸塩としたもの（Ｖ）　　ビニ
ルピリジンのジメチル硫酸による第４級アンモニウム塩
／ビニルピロリｒン／アクリル酸ソーダ＝６／３／１の
共１「合物（）バ＝４５万） （Ｗ）　　＃リエ千しンイミンのエチレンオキシド２０
係付加物（ＭＷ　＝　５万） （Ｘ）　　ポリエチレンイミン／エチレンオキシｖ／プ
ロピレンオキシｙ＝　１．［］　／　５　／　５　付加
物（ＭＷ＝１５万） （Ｙ）Ｎ−１ジメチルスルホエチルアクリルアミドの単
独′ＩＴ（合物のＮ１１１３　（ＭＷ　＝　７万）（ｚ
）　　Ｎ−１ジメチルスルホエチルアクリルアミｒのＮ
ａ塩／ジメチルアミノエチルメタクリレートのリンＩｖ
／塩＝１／１の共重合＠（ＭＷ＝２万） （ＡＡ）　　エチレンイミンのホスホン酸塩／ジメチル
アミノエチルメタクリレートのエチルホスフ、　　　　
　イ”［ｔ４＝１／１の共重合物（ＭＷ　＝　６万）（
ＢＢ）　　５−メタクリロキシ−２−ヒｒロキシデロビ
ルトリメチルアンモニウムのリン酸塩／ジメチルアミノ
エチルメタクリレートのエチルホスフィン酸塩＝２／１
の共重合物（ＭＷ＝５万） （ＣＣ）　　メタクリルジメチルアミノエチルエトキシ
レートのホスホン酸塩／エチレンイミン−１／１の共重
合物（ＭＷ−８万） （ＤＤ）　　ポリアクリル酸ソーダ（ＭＷ　＝　１万）
（ＥＥ）　　メタクリル酸ソーｌ／無水マレイン酸＝２
／１の共重合物（ＭＷ　＝　５万） （ＦＦ）　ナフタレンスルホン酸ソーダのホルマリン縮
合物（ＭＷ　＝　２万） 清沖剤組成物： 以下余白 第１表 比較品、ぢ１ シリコン糸ｒ肖泡ｉ’ｉ（ｊ　　　　　　　　　　２　
　＃比蔵１品４６２ ５号珪酸ソーダ　　　　　　　　　４８重量％トリポリ
リン酸ソーダ　　　　　　　４０　−エチレンジアミン
テトラ酢酸（、Ｎａｆｆ１）　　　　　　５＃ボリオギ
シエチレンオクチルフエニールエーテル（ＥＯ二１０モ
ル付加）　　　　　　　　５Ｉラウリルスルホン融Ｎａ
　　　　　　　　　　　　　　２　　’比較品１．プロ
５ ケロシン　　　　　　　　　　　　　５０重量係石油ス
ルホネート　　　　　　　　２５　−オレイン酸　　　
　　　　　　　　　５Ｉトリエタノールアミン　　　　
　　　１０　Ｉ実画ｆンリ１ 清浄性試験： 各加工機熾用清浄剣組成物を水で所定濃度に希釈して破
恢試料とし、これを５０′Ｃに調整した。

清浄性試験は、表１ｍを清浄した冷ｉ；（１圧延鋼板（
７０ｘ１００ｘＯ，２ｎ＊）に、冷間圧延時発生するス
カムンート襲に５．９塗イロし、このスカム塗布１反に
被検試料を６０分間スプレー（ｌｆ力１．０ｋｇ／釧２
）することによって行った。〈Ｎ浄洗は、スカムが殆ん
ど除去されなかったものを５とし、殆んど除去されたも
のを１とした目視判定による５段饋比牧法によって評１
曲した。そのく吉果Ｑ工第２表のとおりである。

第２表 実〃ｍ列２ 廃水処理性試、鴨 清ＷＩ４ｉ１１７１度５０００　ｐｐｍの水溶＊＜　２
　ｉをｎ　ｇＷ、　。

−トを用いてル１４整し、これに冷間庄咄油スカム５　
Ｄ　Ｄ　Ｏｐｐｍ加え６０”Ｃに於イて６０分間激しく
攪拌したものを靜ｆｉＬ、３０分蛋の下層５００ｒｎｌ
を探検ｂ（とした。

この吸検１（Ｉｌ、に瞳酸パン±５．９１恣り０後、２
分！ｕｌ情拌し、史にＣａ（ＯＨ）２を添加し市７．０
に尚整してから１０分間攪拌した。次いで５０分靜Ｉａ
後下ｌ！Ｖ液を採取し、　ＣＯＤ（ＫＭｎＯ，法）を測
定した。その結果は第５表のとおりである。

第　５　表 （５９） （４ｏ） 手　続　補　正置（方式） ％式％ １、事件の表示 昭和５８年特許願第１０８３８２号 ２、　発明の名称 加工機械用清浄剤組成物 ３、補正をする者 事件との関係　　特許出願人 住　所　東京都中央区日本橋茅場町１丁目１４査１ｏ号
名　称　（０９１）花王石鹸株式会社 代衣者丸田芳部 住　所　東京都千代田区丸の内１丁目ｌ香２号名　称　
（４１２）日本鋼管株式會社 代表者　金　尾　　實 ４、代理人 住　所　東京都中央区日本橋人形町１丁目３番６号（〒
１０３）５、補正命令の日付 昭和５８年９月２７日（発送） ６、　補正の対象 明細書全文 ７、補正の内容 明細書の浄書（内容に変更力し） 　２−

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）■分子迂１ｏｏｏ〜１０００万の分子中に塩基性
   父は閤イオン性の窒素原子を有する１場イオン性又は両
   性イオン性の重縮合物又はその塩、■分子４４１０００
   〜１０００万の分子中にアミｒ基を有する隘イオン注の
   重絹合９勿又はその埴及び■オレフィンーマレイン酸共
   嵐合切塩、アクリル酸又はメタクリル酸−マレイン酸共
   重合物龜、アクリル酸又はメタクリル酸の単独重合物塩
   又はこれらの共重合物塩、又はアクリルアミドアルキレ
   ンスルホン酸の重合物から成る柱から選ばれる１偵又は
   ２槌以上の水浴性高分子化合物を必麺成分として含有す
   ることを特徴とする加工俄振用ｍθ剤組成物。 （２）水浴性高分子化合物の塩を形成する対イオンか次
   の１１）〜ＩＶＤから成る砕から選ばれる化合傍である
   ′＋ｆｌｆ！Ｆ＝水の範囲第１項記載の７ＪＤ工僚懺用
   渭浄剤ｍｌ成物。 （１）　　リン酸、＊、リンを投又はこれらのチオ又＆
   エエステル化合物 （１１）　　アルキル、アルキルアリル又＆Ｘアリル基
   に１個以上の水酸基を有するモノもしくはプリン酸エス
   テル又はこれらのチオ化合物 （ｎｉｌ　　炭ｖ、ｕ１〜８のアルキル、アルキルアリ
   ル又はアリル基を有するモノ又９ニジホスホン酸又はこ
   れらのチオ化合物又はこれらの誘導体（ｌｖ）　　炭ｘ
   数１〜８のアルキル、アルキルアリル又はアリル基を有
   するモノ又はジホスフィン散文＆工これらのチオ化合物
   又を工これらの誘導体 （ｖｌ　　窒素原子を含有するモノ又はジ又はトリポス
   ホン酸 （Ｖ＋ｌ　　硼酸 （３）　　水浴性高分子化合物が次の■〜■から成る静
   から選ばれるものである待ｄｆ請水の範囲第１項記載の
   加工機械用悄即削組成物。 ■　次の一般式（１）〜（ＩＸ）で表わされる含窒素単
   量体又はその塩の単独重合物あるいは２種以上の共重合
   物。 八３ 〔Ｒ１はＨ又（工ＣＨ３、Ｒ２及びＲ３＋工Ｈ父は炭素
   数１〜５のアルキル基〕 １ 〔ｍｌは１〜３の数、ｎ”　ｆｌ　１〜５の数、Ｒ１゜
   Ｒ２１Ｒ３は式（１）と同じ〕 １ ４ ＣＲａはＨ父は炭素数１〜３のアルキル又はアルキロー
   ル基、Ｒ１は式（１）　、’同じ〕（３） 〔ｍ２＆びｎ”　＆Ｘ　Ｑ　〜Ｚ、の数、Ｒ４＋　Ｒ２
   ＊　Ｒ３は式（１）と同じ〕 Ｉ 〔Ａは一〇−又は−ＮＨ−１Ｒ１＃　Ｒ２＊　Ｒ３、ｎ
   ”は式（１）及び（Ｉｔ）と同じ〕 １ ＣＲ１＋　Ｒ２＋　Ｒ３＋　ｎ”　Ｇ工式（１）及び（
   ■）と同じ〕 １ ’＆ ＣＨ＝Ｃ、、（Ｖｌｌ） ［Ｒ１は式（１）と同じ。ピリジンの酵換位は２又は４
   位〕 １ °−Ｃ ＣＨ２＝　ｃ　　　　Ｎ−Ｒ２（ｖｌ）〔Ｒ工ｌ　Ｒ２
   は式（１）と同じ。ピペリジンの置（４） 換位は２又は４位〕 Ｉ ＣＲ１＋　Ｒ２、Ｒ３＋”１式（１）と同じ〕■　＠６
   ピ一般式（１）〜（η）で表わされる含窒素単量体父舎
   工その塩の１種又は２種以上と、α。 β−不飽トロカルポン酸又はその塩あるいはその誘導体
   、スルホン酸基含有げニル化合物又（工その塩、アクリ
   ロニトリル、ビニルピロリ「ン及び炭素数２〜２０の脂
   肪族オレフィンから成る群から選ばれるビニル糸車着体
   の１棟又は２棟以上との共重合物。 ■　エチレンイミンの開環重合体の塩又は第４級アンモ
   ニウム塩又はこれらの誘導体。 ■　脂肪族ジカル？ン酸とポリエチレンポリアミン又は
   ジポリオキシエチレンアルキルアミントの縮重合物の塩
   又は第４級アンモニウム塩。 ■　ジハロアルカン−ポリアルキレンポリアミン絹重合
   物 ■　エビハロヒダリン−アミン縮重合物。 ■　キトサンの頓あるいはデンプン又はセルロースある
   いはこれらのカチオン変性物。 ■　窒素原子６〜２００個を有するポリアルキルイミン
   又ヤニその誘導体てアルキレンオキシ「を付加して得ら
   れる分子型６００〜６０万のポリエーテルポリオール又
   ９ヱボリオールボリエーテル誘導体。 （４）　　水溶性菌分子化合物の濃度が２００〜１０万
   ｐｐｍの水溶液である特許請求の範囲第１〜３項の伺れ
   か１項記載の加工機械用清浄剤組成物。