JPH04119B2 - - Google Patents

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JPH04119B2
JPH04119B2 JP10838283A JP10838283A JPH04119B2 JP H04119 B2 JPH04119 B2 JP H04119B2 JP 10838283 A JP10838283 A JP 10838283A JP 10838283 A JP10838283 A JP 10838283A JP H04119 B2 JPH04119 B2 JP H04119B2
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JP
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acid
salts
formula
same
copolymer
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JP10838283A
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Hiroshi Kuwamoto
Hiroyuki Nagamori
Takashi Mukai
Shuichi Iwato
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Kao Corp
JFE Engineering Corp
Original Assignee
Kao Corp
Nippon Kokan Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】
本発明は特定な水溶性高分子化合物を含有する
新規な加工機械用清浄剤組成物に関する。 例えば、金属の熱間又は冷間圧延機、プレス加
工機、切削・研磨加工機、鋼管製造機等の潤滑油
又は軸受油等を使用する加工機では、金属加工時
に発生する熱、加えられる圧力、潤滑油温度、潤
滑油のエマルジヨンとして加工部に供給される水
の関与、加工時の活性金属粉の生成等の多くの因
子が作用して、潤滑油成分(例えば、牛脂、パー
ム油等の油脂類、鉱物油、合成エステル、脂肪
酸)が化学反応、自己分解等を惹起して変化し、
金属粉、金属粉と潤滑油成分との反応物、あるい
は潤滑油成分の分解物等が混り合つた汚れ、所謂
スカムを発生することは周知である。 しかし、加工機械におけるスカムの発生を防止
することは極めて困難であり、スカムの経時的堆
積によつて、スカムの被加工材への付着による
被加工材の汚れ、潤滑油又は潤滑油エマルシヨ
ン中にスカムが混入することによる潤滑性の変
化、すなわち作業の不安定化、環境の悪化、
火災の発生等の種々の問題を生ずる。従つて、こ
れらを解消するには、定期的に機械に付着したス
カムを清浄剤を用いて除去しているのが現状であ
る。 従来、この清浄には、アルカリタイプ、界面活
性剤を主成分とする中性タイプ又は石油系溶剤タ
イプの清浄剤を水と混和したものをスプレーする
方法等がとられている。しかしながら、これらの
清浄剤は夫々一長一短があり、満足できるもので
はなかつた。すなわち、ケロシン、ソルベントナ
フサ等の石油系溶剤をエマルジヨンあるいはソル
ブル型としたタイプのものは、スカム中の油分の
溶解力で優れているが、引火及びミスト等の吸引
による人体への影響等の危険性が大きい欠点があ
る。また中性タイプのものは、スカム中の油分、
金属粉を乳化又は分散させるものであるため、引
火性の危険性は少ないが、清浄力が低く、しかも
界面活性剤を多く含むため清浄後の排水処理に大
きな問題を生ずる。更にまた、アルカリタイプの
ものは中性タイプのものに比較し清浄力は強い
が、石油系溶剤タイプに比べ清浄力が悪いと共
に、アルカリ剤を含むため作業者の体(眼、皮
膚)に接触すると危険であるという欠点を有す
る。 斯かる実情において、本発明者は、上記欠点の
ないスカムの除去性の優れた加工機械用清浄剤を
提供すべく種々研究を行つた結果、特定の水溶性
高分子化合物を使用することによつて、これまで
の清浄剤と異つた機作によつてスカムを除去する
人体に安全な清浄剤組成物を見出し、本発明を完
成した。 すなわち、本発明は、分子量1000〜1000万の
分子中に塩基性又は陽イオン性の窒素原子を有す
る陽イオン性又は両性イオン性の重縮合物又はそ
の塩、分子量1000〜1000万の分子中にアミド基
を有する陰イオン性の重縮合物又はその塩及び
オレフイン−マレイン酸共重合物塩、アクリル酸
又はメタクリル酸−マレイン酸共重合物塩、アク
リル酸又はメタクリル酸の単独重合物塩又はこれ
らの共重合物塩、又はアクリルアミドアルキレン
スルホン酸の重合物から成る群から選ばれる1種
又は2種以上の水溶性高分子化合物を含有する加
工機械用清浄剤組成物を提供するものである。 本発明で使用される水溶性高分子化合物のの
陽イオン性、両性イオン性の重縮合物としては次
の〜のものが挙げられる。 次の一般式()〜()で表わされる含窒
素単量体又はその塩の単独重合物あるいは2種
以上の共重合物。 〔R1はH又はCH3、R2及びR3はH又は炭素数
1〜3のアルキル基〕 (m1は1〜3の数、n1は1〜3の数、R1、R2
R3は式()と同じ〕 〔R4はH又は炭素数1〜3のアルキル又はア
ルキロール基、R1は式()と同じ〕 〔m2及びn2は0〜3の数、R1、R2、R3は式
()と同じ〕 〔Aは−O−又は−NH−、R1、R2、R3、n1
は式()及び()と同じ〕 〔R1、R2、R3、n1は式()及び()と同
じ〕 〔R1は式()と同じ。ピリジンの置換位は
2又は4位〕 〔R1、R2は式()と同じ。ピペリジンの置
換位は2又は4位〕 〔R1、R2、R3は式()と同じ〕 これらの単量体の具体例としては次のものが挙
げられる。 ()式の3−メタクリロキシ−2−ヒドロ
キシプロピルジメチルアミン、 3−メタクリロキシ−2−ヒドロキシプロピ
ルエチルメチルアミン、 3−メタクリロキシ−2−ヒドロキシプロピ
ルジエチルアミン、 3−メタクリロキシ−2−ヒドロキシプロピ
ルジプロピルアミン等が;()式のN,N−
ジメチルアミノメチレンキヤツプドエチレング
リコールメタアクリレート、 N,N−ジメチルアミノエチレンキヤツプド
エチレングリコールメタアクリレート、 N,N−ジメチルアミノプロピレンキヤツプ
ドエチレングリコールメタアクリレート、 N,N−ジメチルアミノメチレンキヤツプド
ジエチレングリコールメタアクリレート、 N,N−ジメチルアミノエチレンキヤツプド
ジエチレングリコールメタアクリレート、 N,N−ジメチルアミノプロピレンキヤツプ
ドジエチレングリコールメタアクリレート、 N,N−ジメチルアミノメチレンキヤツプド
エチレングリコールメタアクリレート、 N,N−ジメチルアミノエチレンキヤツプド
エチレングリコールメタアクリレート、 N,N−ジメチルアミノプロピレンキヤツプ
ドエチレングリコールメタアクリレート、 N,N−ジメチルアミノメチレンキヤツプド
ジエチレングリコールメタアクリレート、 N,N−ジメチルアミノエチレンキヤツプド
ジエチレングリコールメタアクリレート、 N,N−ジメチルアミノプロピレンキヤツプ
ドジエチレングリコールメタアクリレート等
が;()式のN−2−ヒドロキシメチル−2
−α−メチルビニルイミダゾール、 N−2−ヒドロキシエチル−2−α−メチル
ビニルイミダゾール、 N−2−ヒドロキシプロピル−2−α−メチ
ルビニルイミダゾール等が;()式のN,N
−ジメチルメチレンイミンメタアクリルアミ
ド、 N,N−ジメチルエチレンイミンメタアクリ
ルアミド、 N,N−ジメチルジメチレンイミンメタアク
リルアミド、 N,N−ジメチルジエチレンイミンメタアク
リルアミド、 N,N−ジエチルメチレンイミンメタアクリ
ルアミド、 N,N−ジエチルエチレンイミンメタアクリ
ルアミド、 N,N−ジエチルジメチレンイミンメタアク
リルアミド、 N,N−ジエチルジエチレンイミンメタアク
リルアミド等が例示できる。 ()式のジメチルアミノエチルアクリレー
ト、ジエチルアミノエチルアクリレート、ジメ
チルアミノエチルメタクリレート、ジエチルア
ミノエチルメタクリレート、ジメチルアミノプ
ロピルアクリルアミド、ジエチルアミノプロピ
ルアクリルアミド、ジメチルアミノプロピルメ
タクリルアミド、ジエチルアミノプロピルメタ
クリルアミド等;()式のジメチルアミノメ
チルエチレン、ジエチルアミノメチルエチレ
ン、ジメチルアミノメチルプロペン、ジエチル
アミノメチルプロペン等;()式のビニルピ
リジン等;()式のビニルピペリジン、ビニ
ル−N−メチルピペリジン等;()式のビニ
ルベンジルアミン、ビニル−N,N−ジメチル
ベンジルアミン等が挙げられる。 前記一般式()〜()で表わされる含窒
素単量体又はその塩の1種又は2種以上と、
α、β−不飽和カルボン酸又はその塩あるいは
その誘導体、スルホン酸基含有ビニル化合物又
はその塩、アクリロニトリル、ビニルピロリド
ン及び炭素数2〜20の脂肪族オレフインから成
る群から選ばれるビニル系単量体の1種又は2
種以上との共重合物。 このビニル系単量体としては、例えばビニル
ピロリドン、アクリロニトリル;アクリル酸、
メタクリル酸、マレイン酸又はこれらの酸のア
ルカリ金属塩、アンモニウム塩、アマイド化合
物もしくはエステル化物;ビニルスルホン酸、
メタリルスルホン酸、2−アクリルアミド−2
−メチルプロパンスルホン酸、p−スチレンス
ルホン酸又はこれらの酸のアルカリ金属塩もし
くはアンモニウム塩等が挙げられる。 エチレンイミンの開環重合物の塩又は第4級
アンモニウム塩又はこれらの誘導体。 これは具体的にはその繰返し単位が次の一般
式(XI)で表わされ、平均分子量が1000〜1000
万のものが挙げられる。 〔式中、n3は1〜5の整数、n4は0〜5の整数
を示す〕 脂肪族ジカルボン酸とポリエチレンポリアミ
ン又はジポリオキシエチレンアルキルアミンと
の縮重合物の塩又は第4級アンモニウム塩。 具体的には、それらの繰返し単位が一般式
(XII)で表わされるポリエチレンポリアミンと
の縮重合物及び一般式()で表わされるジ
ポリオキシエチレンアルキルアミンとの縮重合
物で分子量が1000〜1000万のものが挙げられ
る。 −〔OC−R7−CONH−(R′−NH)−o5R′−NH〕−
(XII) 〔式中、R7はダイマー酸残基又は炭素数1〜
10のアルキレン基、R′は−CH2CH2−、n5は2
〜7の整数を示す〕 〔式中、R9は式(XII)と同じ。R8は炭素数1
〜8のアルキル基、R9はH又はCH3、n6及びn7
は1〜10の整数を示す〕 上記脂肪族ジカルボン酸としては、ダイマー
酸、アジピン酸等が挙げられ、ポリエチレンポ
リアミンとしては、ジエチレントリアミン、ト
リエチレンテトラミン等が使用できる。 ジハロアルカン−ポリアルキレンポリアミン
縮重合物。 具体的には、1,2−ジクロルエタン、1,
2−ジブロムエタン、1,3−ジクロルプロパ
ン等のジハロアルカンと、分子内に2個もしく
はそれ以上の3級アミン基を有するポリアルキ
レンポリアミンとの第4級アンモニウム塩であ
る縮重合物であり、その平均分子量が1000〜
1000万のものが挙げられる。 上記ポリアルキレンポリアミンとしては、次
のものが挙げられる。
【式】(テトラメチ ルエチレンジアミン)
【式】(テトラ メチルプロピレンジアミン) (ペンタメチルジエチレントリアミン)
【式】(ヘキサメチレンテトラミン)
【式】(トリエチレンジアミン) エピハロヒドリン−アミン縮重合物。 具体的には繰返し単位が次の一般式()
で表わされ、平均分子量が1000〜1000万のもの
が挙げられる。 〔式中、R10〜R12はCH3又はC2H5、Xはハ
ロゲンイオンを示す〕 キトサンの塩あるいはデンプン又はセルロー
スのカチオン変性物。 窒素原子6〜200個を有するポリアルキルイ
ミン又はその誘導体にアルキレンオキシドを付
加して得られる分子量600〜60万のポリエーテ
ルポリオール又はポリオールポリエーテル誘導
体。 ポリアルキレンポリアミンは分子内に下記(
)式にて示す骨格を連続して5ケ以上有し、且
つそれらのうち1ケ以上は下記()式に示す
骨格であり、末端がOH及び又はNH2である窒素
原子6〜100個を含むポリエチレンイミンである
のが好ましい。 −CH2−CH2N< () また、ポリエーテルポリオール中のアルキレン
オキシドがエチレンオキシド、プロピレンオキシ
ド、スチレンオキシド、ブチレンオキシドから成
る群から選ばれる1種又は2種以上のものであ
り、その含有量がポリエーテルポリオールの3〜
80重量%であるのが好ましい。 上記〜の重縮合物は、その平均分子量が
1000〜100万のものがより好ましい。 またアクリルアミドアルキレンスルホン酸とし
ては次式()、 〔R5、R6は炭素数1〜3のアルキル基、m2、n2
は式()と同じ〕 で表わされるもので、その単独重合物、2種以上
の共重合物又他の単量体との共重合物が使用され
る。 これらの水溶性高分子化合物の対イオンとして
は次の()〜()のものが挙げられる。 () リン酸、亜リン酸又はこれらのチオ又はエ
ステル化合物 () アルキル、アルキルアリル又はアリル基に
1個以上の水素基を有するモノもしくはジリン
酸エステル又はこれらのチオ化合物 () 炭素数1〜8のアルキル、アルキルアリル
又はアリル基を有するモノ又はジホスホン酸又
はこれらのチオ化合物又はこれらの誘導体 () 炭素数1〜8のアルキル、アルキルアリル
又はアリル基を有するモノ又はジホスフイン酸
又はこれらのチオ化合物又はこれらの誘導体 () 窒素原子を含有するモノ又はジ又はトリホ
スホン酸 () 硼酸 このリン酸化合物の具体例としては次のものが
例示される。()のものとしては、正リン酸、
亜リン酸、炭素数1〜8の脂肪族又は脂環族又は
芳香族アルコールと正リン酸とのモノ又はジリン
酸エステル又はこれらのチオ化合物、又は上記ア
ルコールとの亜リン酸エステル又はこれらのチオ
化合物が例示される。()のものとしては2−
ヒドロキシプロピルホスフエートが例示される。
()のものとしては、一般式
【式】又 は
【式】(R0、R′0は炭素数1〜8のア ルキル基、アルキルアリル基又はアリル基)で表
わされるホスホン酸、例えば炭素数1のメチルホ
スホン酸、ジメチルホスホン酸から炭素数8のn
−オクチルホスホン酸、ジ−n−オクチルホスホ
ン酸、2−エチルヘキシルホスホン酸、ジ−2−
エチルヘキシルホスホン酸、ベンジルホスホン
酸、ジベンジルホスホン酸、フエニルホスホン
酸、ジフエニルホスホン酸、ヒドロキシエタンジ
ホスホン酸、並びにこれらのチオホスホン酸が例
示される。ヒドロキシエタンジホスホン酸は次の
式で表わされる化合物である。 ()のものとしては、一般式
【式】 又は
【式】(R0、R′0は前記と同じ)で 表わされるホスフイ酸、例えば炭素数1のメチル
ホスフイン酸、ジメチルホスフイン酸から炭素数
8のn−オクチルホスフイン酸、ジn−オクチル
ホスフイン酸、2−エチルヘキシルホスフイン
酸、ジ−2−エチルヘキシルホスフイン酸、ベン
ジルホスフイン酸、ジベンジルホスフイン酸、フ
エニルホスフイン酸、ジフエニルホスフイン酸、
並びにこれらのチオホスフイン酸が例示される。
()のものとしては、ヘキサメチルホスホリツ
クモノ(又はジ)アミド、ニトリロトリスメチレ
ンホスホン酸が例示される。ニトリロトリスメチ
レンホスホン酸は次の式で表わされる化合物であ
る。 本発明の加工機械用清浄剤組成物は、上記の水
溶性高分子化合物の1種又は2種以上を水にとか
して水溶液状態として使用するのが好ましい。こ
れには必要に応じて、公知の水溶性防錆・防食剤
を0.01〜10重量%(以下単に%と記載する)配合
することができる。防錆・防食剤としては、例え
ばクロム酸塩、亜硝酸塩、モリブデン酸塩、重合
リン酸塩等の無機化合物;モノアミン、ジアミン
もしくはアミド類又はこれらのエトキシル化物、
一塩基酸塩、二塩基酸塩、ナフテン酸塩、リン酸
塩もしくは上記無機化合物との塩、アミノ酸のア
ルカリ塩、イミダゾリン誘導体、第4級アンモニ
ウム塩、メルカプトベンゾトリアゾール、ベンゾ
トリアゾール等を挙げられる。 本発明の加工機械用清浄剤組成物の使用時にお
ける水溶性高分子化合物の濃度は100〜10万ppm、
特に300〜5万ppmが好ましい。スカム等の清浄
は、この組成物を被清浄部位にスプレーするかあ
るいは該組成物中に被清浄物を浸漬することによ
つて行われる。 本発明の製造剤組成物によるスカム等の清浄作
用の詳細は明らかでないが、おおよそ次の如くで
あると推定される。すなわち、本発明で使用する
水溶性高分子化合物の水溶液の表面張力は水と殆
んど同一であるので、界面活性剤の如く汚れを乳
化あるいは分散させる作用はないが、汚れ表面に
速やかに吸着し、汚れ表面を高分子化合物特有の
立体的あるいは保護コロイダ的に覆つて汚れを親
水性化し、汚れ同士の凝集、合一等による粘着性
を低下させて流動性を付与するため、わずかな物
理力、例えばスプレー圧等で汚れを容易に除去で
きるものと考えられる。 従つて、本発明の加工機械用清浄剤は次の如き
特長を有する。 僅かな物理力で簡単に汚れを洗浄除去でき
る。 スカム等の汚れの表面が高分子化合物によつ
て覆われるので、除去された汚れはベトつかず
廃棄処理が容易である。 処理後汚れが水中に乳化、分散しないので、
水より簡単に分離することができて、従つて汚
水の排水処理が容易である。 水への汚れの混入が少ないので、清浄力の持
続性が長い。 水溶性高分子化合物は凝集剤として作用する
ので、排水処理能力が大きい。 中性であるので、人体に対して安全である。 火災等の危険性がない。 本発明の清浄剤組成物は、上述のような優れた
特徴を有するので、金属の機械加工時、潤滑剤の
使用により発生する汚れ(スカム)の清浄を行う
ことができると共に、潤滑剤以外で生ずる汚れ、
例えばタンカーでの原油タンク壁に付着した原油
スラツジの除去、石油精製設備でのタールピツチ
スラツジ等の清浄にも使用できる。 次に実施例を挙げて説明する。 水溶性高分子化合物: (A‐1) ジエチルアミノメチルメタクリレートの重
合物をリン酸塩としたもの(MW=30万) (A‐2) ジエチルアミノメチルメタクリレートの重
合物をリン酸塩としたもの(MW=1万) (A‐3) ジエチルアミノメチルメタクリレートの重
合物をリン酸塩としたもの(MW=2000) (B‐1) ジエチルアミノエチルメタクリレートの硼
酸塩/ビニルピロリドン/アクリル酸ソーダ=
5/4/1(モル比で示す。本表において以下
同じ)である共重合物(MW=20万) (B‐2) ジエチルアミノエチルメタクリレートの硼
酸塩/ビニルピロリドン/アクリル酸ソーダ=
5/4/1(モル比で示す。本表において以下
同じ)である共重合物(MW=5万) (B‐3) ジエチルアミノエチルメタクリレートの硼
酸塩/ビニルピロリドン/アクリル酸ソーダ=
5/4/1(モル比で示す。本表において以下
同じ)である共重合物(MW=5000) (B‐4) ジエチルアミノエチルメタクリレートの硼
酸塩/ビニルピロリドン/アクリル酸ソーダ=
5/4/1(モル比で示す。本表において以下
同じ)である共重合物(MW=1500) (B‐5) ジエチルアミノエチルメタクリレートの硼
酸塩/ビニルピロリドン/アクリル酸ソーダ=
5/4/1(モル比で示す。本表において以下
同じ)である共重合物(MW=700) (C‐1) ジエチルアミノエチルメタクリレートのリ
ン酸塩/メタアクリル酸ソーダ=4/5の共重
合物(MW=2万) (C‐2) ジエチルアミノエチルメタクリレートのリ
ン酸塩/メタアクリル酸ソーダ=4/5の共重
合物(MW=8000) (C‐3) ジエチルアミノエチルメタクリレートのリ
ン酸塩/メタアクリル酸ソーダ=4/5の共重
合物(MW=1000) (D) エチレンイミンのリン酸塩の開環重合物
(MW=10万) (E) ジメチルアミノエチルメタクリレートのエチ
ル亜ホスフイン酸塩/アクリル酸ソーダ=3/
1の共重合物(MW=30万) (F) ジメチルアミノエチルメタクリレートのエチ
ルホスホン酸塩/2−アクリルアミノ−2−メ
チルプロパンスルホン酸ソーダ=4/1の共重
合物(MW=10万) (G) ビニルピリジンのリン酸塩/ビニルピロリド
ン/アクリル酸ソーダ=6/3/1の共重合物
(MW=45万) (H) ジエチレントリアミンのチオリン酸塩とダイ
マー酸の重縮合物(MW=80万) (I) ジエチルアミノエチルメタクリルアミドのリ
ン酸塩/アクリル酸ソーダ/ビニルスルホン酸
ソーダ=3/1/1の共重合物(MW=40万) (J) ビニルピリジンのジメチルホスフイン酸によ
る第4級アンモニウム塩/ビニルピロリドン/
アクリル酸ソーダ=6/3/1の共重合物
(MW=45万) (K) 水溶性高分子化合物(I)のジエチルアミノエチ
ルメタクリルアミドのリン酸塩を硼酸塩とした
もの。 (L) セルロースのカチオン変性物の第4級アンモ
ニウム塩(MW=100万) (M) 1,2−ジクロルエタンとヘキサメチレン
テトラミンのリン酸塩の重縮合物(MW=5
万) (N) ジエチレントリアミンのエチルホスフイン
酸塩とダイマー酸の重縮合物(MW=80万) (O) エピクロルヒドリンのトリメチルアミン第
4級アンモニウム化合物の亜リン酸塩の開環重
合物(MW=10万) (P) テトラメチルプロピレンジアミンのジエチ
ルホスホン酸により第4級アンモニウム塩の重
縮合物(MW=10万) (Q) 水溶性高分子化合物(G)のビニルピリジンの
リン酸塩を硫酸塩としたもの (R) 水溶性高分子化合物(H)のジエチレントリア
ミンのチオリン酸塩を硝酸塩としたもの (S) 水溶性高分子化合物(F)のジメチルアミノエ
チルメタクリレートのエチルホスホン酸塩を塩
酸塩としたもの (T) 水溶性高分子化合物(E)のジメチルアミノエ
チルメタクリレートのエチル亜ホスフイン酸塩
をグリコール酸塩としたもの (U) 水溶性高分子化合物(D)のエチレンイミンの
リン酸塩を酢酸塩としたもの (V) ビニルピリジンのジメチル硫酸による第4
級アンモニウム塩/ビニルピロリドン/アクリ
ル酸ソーダ=6/3/1の共重合物(MW=45
万) (W) ポリエチレンイミンのエチレンオキシド20
%付加物(MW=5万) (X) ポリエチレンイミン/エチレンオキシド/
プロピレンオキシド=10/3/3付加物(MW
=15万) (Y) N−1ジメチルスルホエチルアクリルアミ
ドの単独重合物のNa塩(MW=7万) (Z) N−1ジメチルスルホエチルアクリルアミ
ドのNa塩/ジメチルアミノエチルメタクリレ
ートのリン酸塩=1/1の共重合物(MW=2
万) (AA) エチレンイミンのホスホン酸塩/ジメチ
ルアミノエチルメタクリレートのエチルホスフ
イン酸塩=1/1の共重合物(MW=6万) (BB) 3−メタクリロキシ−2−ヒドロキシプ
ロピルトリメチルアンモニウムのリン酸塩/ジ
メチルアミノエチルメタクリレートのエチルホ
スフイン酸塩=2/1の共重合物(MW=5
万) (CC) メタクリルジメチルアミノエチルエトキシ
レートのホスホン酸塩/エチレンイミン=1/
1の共重合物(MW=8万) (DD) ポリアクリル酸ソーダ(MW=1万) (EE) メタクリル酸ソーダ/無水マレイン酸=
2/1の共重合物(MW=5万) (FF) ナフタレンスルホン酸ソーダのホルマリン
縮合物(MW=2万) 洗浄剤組成物:
【表】
【表】 比較品No.1 ポリオキシエチレンラウリルエーテル(EO=7
モル付加物) 49重量% ポリオキシエチレンノニルフエニールエーテル
(EO=6モル付加物) 49 〃 シリコン系消泡剤 2 〃 比較品No.2 3号珪酸ソーダ 48重量% トリポリリン酸ソーダ 40 〃 エチレンジアミンテトラ酢酸(Na塩) 5 〃 ポリオキシエチレンオクチルフエニールエーテル
(EO=10モル付加) 5 〃 ラウリルスルホン酸Na 2 〃 比較品No.3 ケロシン 50重量% 石油スルホネート 25 〃 オレイン酸 5 〃 トリエタノールアミン 10 〃 ラウリン酸アミド・エチレンオキシド付加物
(EO=6モル付加) 5 〃 ポリオキシエチレンノニルフエニールエーテル
(EO=9モル付加) 5 〃 実施例 1 清浄性試験: 各加工機械用清浄剤組成物を水で所定濃度に希
釈して被検試料とし、これを50℃に調整した。清
浄性試験は、表面を清浄した冷間圧延鋼板(70×
100×0.2mm)に、冷間圧延時発生するスカムを一
様に5g塗布し、このスカム塗布板に被検試料を
30分間スプレー(圧力1.0Kg/cm2)することによ
つて行つた。清浄性は、スカムが殆んど除去され
なかつたものを5とし、殆んど除去されたものを
1とした目視判定による5段階比較法によつて評
価した。その結果は第2表のとおりである。
【表】
【表】 実施例 2 発水処理性試験 清浄剤濃度5000ppmの水溶液2を分液ロート
を用いて調整し、これに冷間圧延油スカム
5000ppm加え60℃に於いて60分間激しく撹拌した
ものを静置し、30分後の下層500mlを被検液とし
た。 この被検液に硫酸バン±3g添加後、2分間撹
拌し、更にCa(OH)2を添加しPH7.0に調整してか
ら10分間撹拌した。次いで30分静置後下澄液を採
取し、COD(KMnO4法)を測定した。その結果
は第3表のとおりである。
【表】
【表】

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 分子量1000〜1000万の分子中に塩基性又は
    陽イオン性の窒素原子を有する陽イオン性又は両
    性イオン性の重縮合物又はその塩、分子量1000
    〜1000万の分子中にアミド基を有する陰イオン性
    の重縮合物又はその塩及びオレフイン−マレイ
    ン酸共重合物塩、アクリル酸又はメタクリル酸−
    マレイン酸共重合物塩、アクリル酸又はメタクリ
    ル酸の単独重合物塩又はこれらの共重合物塩、又
    はアクリルアミドアルキレンスルホン酸の重合物
    から成る群から選ばれる1種又は2種以上の水溶
    性高分子化合物を必須成分として含有することを
    特徴とする加工機械用清浄剤組成物。 2 水溶性高分子化合物の塩を形成する対イオン
    が次の()〜()から成る群から選ばれる化
    合物である特許請求の範囲第1項記載の加工機械
    用清浄剤組成物。 () リン酸、亜リン酸又はこれらのチオ又はエ
    ステル化合物 () アルキル、アルキルアリル又はアリル基に
    1個以上の水酸基を有するモノもしくはジリン
    酸エステル又はこれらのチオ化合物 () 炭素数1〜8のアルキル、アルキルアリル
    又はアリル基を有するモノ又はジホスホン酸又
    はこれらのチオ化合物又はこれらの誘導体 () 炭素数1〜8のアルキル、アルキルアリル
    又はアリル基を有するモノ又はジホスフイン酸
    又はこれらのチオ化合物又はこれらの誘導体 () 窒素原子を含有するモノ又はジ又はトリホ
    スホン酸 () 硼酸 3 水溶性高分子化合物が次の〜から成る群
    から選ばれるものである特許請求の範囲第1項記
    載の加工機械用清浄剤組成物。 次の一般式()〜()で表わされる含窒
    素単量体又はその塩の単独重合物あるいは2種
    以上の共重合物。 〔R1はH又はCH3、R2及びR3はH又は炭素数
    1〜3のアルキル基〕 (m1は1〜3の数、n1は1〜3の数、R1、R2
    R3は式()と同じ〕 〔R4はH又は炭素数1〜3のアルキル又はア
    ルキロール基、R1は式()と同じ〕 〔m2及びn2は0〜3の数、R1、R2、R3は式
    ()と同じ〕 〔Aは−O−又は−NH−、R1、R2、R3、n1
    は式()及び()と同じ〕 〔R1、R2、R3、n1は式()及び()と同
    じ〕 〔R1は式()と同じ。ピリジンの置換位は
    2又は4位〕 〔R1、R2は式()と同じ。ピペリジンの置
    換位は2又は4位〕 〔R1、R2、R3は式()と同じ〕 前記一般式()〜()で表わされる含窒
    素単量体又はその塩の1種又は2種以上と、
    α、β−不飽和カルボン酸又はその塩あるいは
    その誘導体、スルホン酸基含有ビニル化合物又
    はその塩、アクリロニトリル、ビニルピロリド
    ン及び炭素数2〜20の脂肪族オレフインから成
    る群から選ばれるビニル系単量体の1種又は2
    種以上との共重合物。 エチレンイミンの開環重合体の塩又は第4級
    アンモニウム塩又はこれらの誘導体。 脂肪族ジカルボン酸とポリエチレンポリアミ
    ン又はジポリオキシエチレンアルキルアミンと
    の縮重合物の塩又は第4級アンモニウム塩。 ジハロアルカン−ポリアルキレンポリアミン
    縮重合物 エピハロヒドリン−アミン縮重合物。 キトサンの塩あるいはデンプン又はセルロー
    スあるいはこれらのカチオン変性物。 窒素原子6〜200個を有するポリアルキルイ
    ミン又はその誘導体にアルキレンオキシドを付
    加して得られる分子量600〜60万のポリエーテ
    ルポリオール又はポリオールポリエーテル誘導
    体。 4 水溶性高分子化合物の濃度が200〜10万ppm
    の水溶液である特許請求の範囲第1〜3項の何れ
    か1項記載の加工機械用清浄剤組成物。
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