JPS5926006A - マルチビ−ム走査装置におけるビ−ム位置検知方法 - Google Patents
マルチビ−ム走査装置におけるビ−ム位置検知方法Info
- Publication number
- JPS5926006A JPS5926006A JP13652182A JP13652182A JPS5926006A JP S5926006 A JPS5926006 A JP S5926006A JP 13652182 A JP13652182 A JP 13652182A JP 13652182 A JP13652182 A JP 13652182A JP S5926006 A JPS5926006 A JP S5926006A
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- Japan
- Prior art keywords
- beams
- scanning direction
- detection
- scanned
- plural
- Prior art date
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Dot-Matrix Printers And Others (AREA)
- Laser Beam Printer (AREA)
- Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Facsimile Scanning Arrangements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、変調ｂ」能な複数のビームをポリコものであ
り、さらに詳しくは、被走査面」−で印字開始位置を決
めるための記号（以下ＳＯＳ信号という。）を検知する
ビーム位置検知方法に係わる。
り、さらに詳しくは、被走査面」−で印字開始位置を決
めるための記号（以下ＳＯＳ信号という。）を検知する
ビーム位置検知方法に係わる。
」−記マルチビーム走査装置はシンクルビーム走査装置
に比へポリコンミラーの回転数を低減することかできる
ので耐久性や振動の曲から利点か大きい。しかし、ＳＯ
Ｓ信号の検知については各ビーム相互の関係か加わるの
で非常に難しくなる。
に比へポリコンミラーの回転数を低減することかできる
ので耐久性や振動の曲から利点か大きい。しかし、ＳＯ
Ｓ信号の検知については各ビーム相互の関係か加わるの
で非常に難しくなる。
一つの方法として、ビーム発生装置の相互位置を正確に
決めておいて各ビームのうちの１つのビーム位置のみを
検出し他のビームの位置は検知さレタビームの位置を補
正してＳＯ５信号とするやり方か考えられる。
決めておいて各ビームのうちの１つのビーム位置のみを
検出し他のビームの位置は検知さレタビームの位置を補
正してＳＯ５信号とするやり方か考えられる。
例えは、第１図に示すように１００μ１１間隔て発光部
をもつ半導体レーサー（１）を主走査方向に対してθ飴
壮けて設置し、第２図に示す焦点距離５朋のコリメータ
レンズ（２）ポリコンミラ−（３）及び焦点距１１ｉ［
ｔ’ ５０Ｑ＊ｍのｆθレンス（４）トて被走査面上に
投影する場合を考えると、１ｏＯμｎ１のビーム間隔に
対し被走査面上で±３０μＩｌ＋の誤差を許容するとし
ても、ビームは１−００倍に拡大さルルので半導体レー
ザー（１）を傾看ける角度θを−鳴・・爺詰） の精度としなりれはならない。また、半導体レーサ（１
）の各発光部を階段状にすらす場合は：−二Ｑ、３μＩ
ｌｌの精度ですらさねばならない。このような高精度で
の半導体レーサーの配置或いは、製作は非常に難しいも
のである。
をもつ半導体レーサー（１）を主走査方向に対してθ飴
壮けて設置し、第２図に示す焦点距離５朋のコリメータ
レンズ（２）ポリコンミラ−（３）及び焦点距１１ｉ［
ｔ’ ５０Ｑ＊ｍのｆθレンス（４）トて被走査面上に
投影する場合を考えると、１ｏＯμｎ１のビーム間隔に
対し被走査面上で±３０μＩｌ＋の誤差を許容するとし
ても、ビームは１−００倍に拡大さルルので半導体レー
ザー（１）を傾看ける角度θを−鳴・・爺詰） の精度としなりれはならない。また、半導体レーサ（１
）の各発光部を階段状にすらす場合は：−二Ｑ、３μＩ
ｌｌの精度ですらさねばならない。このような高精度で
の半導体レーサーの配置或いは、製作は非常に難しいも
のである。
上記方法の変形として、第３図に示すように被走査面上
でのビームの相互位置を各ビーム毎に設けたミラー（５
） （５） （５）で調整することが考えられる。
でのビームの相互位置を各ビーム毎に設けたミラー（５
） （５） （５）で調整することが考えられる。
即ち、各ミラー（５） （５） （５）を主走査方向と
平行な軸のまわりに回動してビーム間隔を調整するとと
もに副走査方向と平行な軸のまわりに回動して各ビーム
の主走査方向の位置を調整するのである。しかし、この
方法もミラー（５１（５） （５）のｉＩＭｖという新
たな調整要素が加わるうえにその調整が非常に微妙なも
のであり、実際に（１難しい方法である。
平行な軸のまわりに回動してビーム間隔を調整するとと
もに副走査方向と平行な軸のまわりに回動して各ビーム
の主走査方向の位置を調整するのである。しかし、この
方法もミラー（５１（５） （５）のｉＩＭｖという新
たな調整要素が加わるうえにその調整が非常に微妙なも
のであり、実際に（１難しい方法である。
そこで各ビーム毎に別々にビーム位置を検知することか
考えられるが、通常のレーザービームプリンタでは走査
線の間にすきまができないようにするために被走査面上
ではビームかオーパーラ・ノブするように設定されてい
る（第４図）。例えは、ビーム間隔を１００μ！１】と
也だ場合中心７強度しＯ２て定・義しｊこビーム径を被
走査面」−で２００μｍ程度になるように設定する訳で
ある。しかしこのような寸−ハーラップは、各ビーム毎
に設けられた検知装置か他のビームをも検知してしまい
誤動作の原因となる。
考えられるが、通常のレーザービームプリンタでは走査
線の間にすきまができないようにするために被走査面上
ではビームかオーパーラ・ノブするように設定されてい
る（第４図）。例えは、ビーム間隔を１００μ！１】と
也だ場合中心７強度しＯ２て定・義しｊこビーム径を被
走査面」−で２００μｍ程度になるように設定する訳で
ある。しかしこのような寸−ハーラップは、各ビーム毎
に設けられた検知装置か他のビームをも検知してしまい
誤動作の原因となる。
本発明はこのような点に鑑みてなされたものであり、マ
ルチビーム走査装置のビーム位置検知をビームがオーバ
ーラツプしているにもかかわらす各ビーム毎に精度よく
検知できるビーム位置検知方法を提供するこよを目的と
する。
ルチビーム走査装置のビーム位置検知をビームがオーバ
ーラツプしているにもかかわらす各ビーム毎に精度よく
検知できるビーム位置検知方法を提供するこよを目的と
する。
上述の目的は、複数のビームを該ビームによる被走査面
の照射か主走査方向にすれるように構成するとともに受
光部を複数のビームの走査線上に垂直に配置し、０１１
記受光部かビームを検知するとそのビームを消却し、検
知後の消却を各ビームについて順次おこなうことによっ
て達成される。
の照射か主走査方向にすれるように構成するとともに受
光部を複数のビームの走査線上に垂直に配置し、０１１
記受光部かビームを検知するとそのビームを消却し、検
知後の消却を各ビームについて順次おこなうことによっ
て達成される。
第５図は本発明の実施例を示す図で、複数のビームＢｌ
、Ｂ２． Ｂ８． Ｂ４． Ｉ怖を走査線上で主走査方
向にすれるようにし、これに対し１つの受光素子１５を
走査線上に垂直に配置したものである。この受光素子Ｅ
は便宜的に第３図に示すように感光ドラム６の側方に配
置され、応答性のよい、例えはフォトダイオードを用い
る。
、Ｂ２． Ｂ８． Ｂ４． Ｉ怖を走査線上で主走査方
向にすれるようにし、これに対し１つの受光素子１５を
走査線上に垂直に配置したものである。この受光素子Ｅ
は便宜的に第３図に示すように感光ドラム６の側方に配
置され、応答性のよい、例えはフォトダイオードを用い
る。
副走査方向にオーバーラツプした複数のビーム１３は主
走査方向に他のビーム（こ影響を与えない距Ｍｌ りだ
け夫々ずらされている。
走査方向に他のビーム（こ影響を与えない距Ｍｌ りだ
け夫々ずらされている。
ビームＢはガウスビームであるのでこれを受光素子Ｅで
検知する際スレッショールドＴｈをピークの中間にとる
のがもっとも誤差の影靴を受けにくい。それ故前記距＾
１４ Ｌ）は最低ビームの大きさの半分は必要である。
検知する際スレッショールドＴｈをピークの中間にとる
のがもっとも誤差の影靴を受けにくい。それ故前記距＾
１４ Ｌ）は最低ビームの大きさの半分は必要である。
ここでビームの大きさとはビーム強度が中心強度の１／
ｅ２になる大きさを言う。尚実際にはセッテインクの誤
差もあリビームの大きさの２倍程度の距１４１ｔ Ｄを
あけた方かよい。
ｅ２になる大きさを言う。尚実際にはセッテインクの誤
差もあリビームの大きさの２倍程度の距１４１ｔ Ｄを
あけた方かよい。
第７図は第５図の実施例の制ｍｌｊの一例を示すタイム
チャートである。この場合ビーム１３１〜１３５は最初
に全て点灯される。そしてビームか受光素子りに検知さ
れる順に消却されてゆき、受光素子Ｅからは各ビームの
ＳＯ５信号が出力される。
チャートである。この場合ビーム１３１〜１３５は最初
に全て点灯される。そしてビームか受光素子りに検知さ
れる順に消却されてゆき、受光素子Ｅからは各ビームの
ＳＯ５信号が出力される。
ビームの点滅制御はまた第８図のようにおこなうことも
てきる。第８図のタイムチャートにおいては、各ビーム
は前のビームか消却されてから点月しそのビームか受光
素子■−に検知されると消却する。従って、あるビーム
か受光素子１・、にさしかかるとき他のビームは消月し
ているので各ピー４間の主走査方向のｆ？＋１離Ｉ〕は
第７図の制御方式より短くすることかできる。
てきる。第８図のタイムチャートにおいては、各ビーム
は前のビームか消却されてから点月しそのビームか受光
素子■−に検知されると消却する。従って、あるビーム
か受光素子１・、にさしかかるとき他のビームは消月し
ているので各ピー４間の主走査方向のｆ？＋１離Ｉ〕は
第７図の制御方式より短くすることかできる。
第９図はビーム数か多い場合のビームの配置例を示すも
ので、ビームを副走査方向に２つのクループ（Ｂｌ、
Ｂ２．１３＋ｌ、 Ｂ４）と（Ｊ Ｂ６． Ｂ７．１３
ｓ ）に分けこのクループを副走査方向に２段に並へる
とともに主走肯方向にすらしたものである。ここて各ビ
ームの主走査方向の部間ｌは２１）たけ離し各クループ
を１？ｌ］ｔ？＋ｔ Ｌ）たけすらすようにする。
ので、ビームを副走査方向に２つのクループ（Ｂｌ、
Ｂ２．１３＋ｌ、 Ｂ４）と（Ｊ Ｂ６． Ｂ７．１３
ｓ ）に分けこのクループを副走査方向に２段に並へる
とともに主走肯方向にすらしたものである。ここて各ビ
ームの主走査方向の部間ｌは２１）たけ離し各クループ
を１？ｌ］ｔ？＋ｔ Ｌ）たけすらすようにする。
上述の通り本発明は、変調可能な複数のビームて被走査
面」二を同時に走査するマルチビーム走査装置において
、複数のビームを該ビームによる被走査面の照射が主走
査方向にすれるように構成するとともに受光部を複数の
ビームの走査線・」二に垂直に配置し、Ａｉ＋記受光部
かビームを検知するとそのビームを消却し、該検知後の
消却を各ビームについて１唄次おこなうものであるから
、ビームか被走査面」二で副走査方向にオーバーラツプ
するにもかかわらす各ビームの位置を正確に検知するこ
とかできるものである。
面」二を同時に走査するマルチビーム走査装置において
、複数のビームを該ビームによる被走査面の照射が主走
査方向にすれるように構成するとともに受光部を複数の
ビームの走査線・」二に垂直に配置し、Ａｉ＋記受光部
かビームを検知するとそのビームを消却し、該検知後の
消却を各ビームについて１唄次おこなうものであるから
、ビームか被走査面」二で副走査方向にオーバーラツプ
するにもかかわらす各ビームの位置を正確に検知するこ
とかできるものである。
第１図は複数の発光部をもつ半導体レーサーを示す図、
第２，３図はマルチビーム走査装置のビーム位置検知の
一例として本発明者により提案検５」された方法を説明
する図、第４図は複数のビームの発光部と被走査ｉｈｊ
上における相互の関係を示す図、第５，９図は本発明各
実施例のビームと受光部との関係を説明する図、第６図
はビームと受光素子出力の関係を説明する図、第７，８
図は本発明のビーム位置検知方法の制御を説明する図で
ある。 ■・・・半導体レーサー ２・・・コリメータレンス
３・・・ポリゴンミラー ４・・・ｆθレンズ５・・
・ミラー ６°°感光ドラムＢ・ビーム
１亡・・受光素子 出願人 ミノルタカメラ株式会社 第１図 第２図 ！ 第３図 第５図 第６図 第７図 第３図
第２，３図はマルチビーム走査装置のビーム位置検知の
一例として本発明者により提案検５」された方法を説明
する図、第４図は複数のビームの発光部と被走査ｉｈｊ
上における相互の関係を示す図、第５，９図は本発明各
実施例のビームと受光部との関係を説明する図、第６図
はビームと受光素子出力の関係を説明する図、第７，８
図は本発明のビーム位置検知方法の制御を説明する図で
ある。 ■・・・半導体レーサー ２・・・コリメータレンス
３・・・ポリゴンミラー ４・・・ｆθレンズ５・・
・ミラー ６°°感光ドラムＢ・ビーム
１亡・・受光素子 出願人 ミノルタカメラ株式会社 第１図 第２図 ！ 第３図 第５図 第６図 第７図 第３図
Claims (1)
- １ 変調可能な複数のビームで被走査面」二を同時に走
査するマルチビーム走査装置において、複数のビームを
該ビームによる被走査ｉｈ＋の照射か主走査方向にすれ
るように構成するとともに受光部を複数のビームの走査
線上に垂直に配置し、前記受光部がビームを検知すると
そのビームをｉＰ］ ｔｌし該検知後の消灯を各ビーム
について順次おこなうことを特徴とするビーム位置検知
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13652182A JPS5926006A (ja) | 1982-08-04 | 1982-08-04 | マルチビ−ム走査装置におけるビ−ム位置検知方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13652182A JPS5926006A (ja) | 1982-08-04 | 1982-08-04 | マルチビ−ム走査装置におけるビ−ム位置検知方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5926006A true JPS5926006A (ja) | 1984-02-10 |
| JPH0357453B2 JPH0357453B2 (ja) | 1991-09-02 |
Family
ID=15177117
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13652182A Granted JPS5926006A (ja) | 1982-08-04 | 1982-08-04 | マルチビ−ム走査装置におけるビ−ム位置検知方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5926006A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62262816A (ja) * | 1986-05-09 | 1987-11-14 | Ricoh Co Ltd | ２ビ−ム検出方法 |
| JPH1152262A (ja) * | 1997-08-07 | 1999-02-26 | Hitachi Koki Co Ltd | 光走査装置 |
| US6005243A (en) * | 1997-03-03 | 1999-12-21 | Ricoh Company, Ltd. | Synchronous adjustment method, apparatus, and computer program product in a multiple beam optical system |
| JP2001512564A (ja) * | 1997-02-06 | 2001-08-21 | オプトランド，インコーポレイテッド | 内蔵光ファイバー圧力センサーを具えた注入器および付設補償状態モニター装置 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6959411B1 (ja) | 2020-07-31 | 2021-11-02 | 日本食品化工株式会社 | 糖のエピメリ化反応触媒用の酵素剤、エピメリ化反応生成物の製造方法およびエピメリ化反応生成物 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57102609A (en) * | 1980-12-18 | 1982-06-25 | Canon Inc | Method and device for scanning using plural number of beams |
-
1982
- 1982-08-04 JP JP13652182A patent/JPS5926006A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57102609A (en) * | 1980-12-18 | 1982-06-25 | Canon Inc | Method and device for scanning using plural number of beams |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62262816A (ja) * | 1986-05-09 | 1987-11-14 | Ricoh Co Ltd | ２ビ−ム検出方法 |
| JP2001512564A (ja) * | 1997-02-06 | 2001-08-21 | オプトランド，インコーポレイテッド | 内蔵光ファイバー圧力センサーを具えた注入器および付設補償状態モニター装置 |
| US6005243A (en) * | 1997-03-03 | 1999-12-21 | Ricoh Company, Ltd. | Synchronous adjustment method, apparatus, and computer program product in a multiple beam optical system |
| JPH1152262A (ja) * | 1997-08-07 | 1999-02-26 | Hitachi Koki Co Ltd | 光走査装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0357453B2 (ja) | 1991-09-02 |
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