JPS5926640B2 - 生殖抑制活性を有するエチステロン誘導体の製造方法 - Google Patents
生殖抑制活性を有するエチステロン誘導体の製造方法Info
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- JPS5926640B2 JPS5926640B2 JP49023481A JP2348174A JPS5926640B2 JP S5926640 B2 JPS5926640 B2 JP S5926640B2 JP 49023481 A JP49023481 A JP 49023481A JP 2348174 A JP2348174 A JP 2348174A JP S5926640 B2 JPS5926640 B2 JP S5926640B2
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- cycloalkyl
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- lower alkyl
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07J—STEROIDS
- C07J1/00—Normal steroids containing carbon, hydrogen, halogen or oxygen, not substituted in position 17 beta by a carbon atom, e.g. estrane, androstane
- C07J1/0003—Androstane derivatives
- C07J1/0033—Androstane derivatives substituted in position 17 alfa and 17 beta
- C07J1/004—Androstane derivatives substituted in position 17 alfa and 17 beta the substituent in position 17 alfa being an unsaturated hydrocarbon group
- C07J1/0048—Alkynyl derivatives
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07J—STEROIDS
- C07J41/00—Normal steroids containing one or more nitrogen atoms not belonging to a hetero ring
- C07J41/0005—Normal steroids containing one or more nitrogen atoms not belonging to a hetero ring the nitrogen atom being directly linked to the cyclopenta(a)hydro phenanthrene skeleton
- C07J41/0016—Oximes
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- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、生殖抑制のための性交後活性を有するエチス
テロン誘導体に関する。
テロン誘導体に関する。
本発明の課題であるエチステロン誘導体はエチステロン
の３−オキシムおよび３−オキシム一１７βエステルで
あり、次式（式中、ｎはＯもしくは１であつて、ｎ＝１
の場合には、Ｒ５は６一位もしくは７ー位にあり且つＲ
４は水素であり、Ｒ１は水素または−ＣＯＲ２であり、
ここでＲ２は低級アルキル基、たとえばメチル、エチル
、ブチル、ペンチル、ヘプチル、イソプロピル、オクチ
ル等の如き炭素数１〜８の直鎖または分枝鎖の低級アル
キル基、フエニル基、シクロアルキル基、たとえばシク
ロプロピル、シクロブチル、シクロペンチルもしくはシ
クロヘキシル基の如き炭素数３〜６のシクロアルキル基
、アダマンチル基、ト１ル和アルキル基、たとえばトリ
クロロメチル、トリプロモノメチル、トリクロロブチル
などの如き炭素数１〜５のトリハロアルキル基であり、
Ｒ３は低級アルキニル基、たとえばエチニル、プロピニ
ル、ブチニルなどの如き炭素数２〜５の低級アルキニル
基、低級アルカジエニル基、たとえばプロパジエニルも
しくはブタジエニルの如き炭素数３〜５の低級アルカジ
エニル基、およびシクロアルキル基、たとえばシクロプ
ロピル、シクロブチルもしくはシクロペンチルの如き炭
素数３〜６のシクロアルキル基であり、そしてＲ４は水
素、低級アルキル基、たとえば炭素数１〜５の低級アル
キル基、低級アルキルカルバモイル基、たとえばメチル
カルバモイル、エチルカルバモイル、ブチルカルバモイ
ルなどの如きアルキル基の炭素数が１〜５の低級アルキ
ルカルバモイル、ならびにシクロアルキル基、たとえば
シクロプロピル、シクロブチルおよびシクロペンチルの
如き炭素数３〜５のシクロアルキル基であり、そしてＲ
５は炭素数１〜５の低級アルキルであり、ただしｎ−０
の場合には、Ｒ２がメチルのときＲ４は水素でない）。
の３−オキシムおよび３−オキシム一１７βエステルで
あり、次式（式中、ｎはＯもしくは１であつて、ｎ＝１
の場合には、Ｒ５は６一位もしくは７ー位にあり且つＲ
４は水素であり、Ｒ１は水素または−ＣＯＲ２であり、
ここでＲ２は低級アルキル基、たとえばメチル、エチル
、ブチル、ペンチル、ヘプチル、イソプロピル、オクチ
ル等の如き炭素数１〜８の直鎖または分枝鎖の低級アル
キル基、フエニル基、シクロアルキル基、たとえばシク
ロプロピル、シクロブチル、シクロペンチルもしくはシ
クロヘキシル基の如き炭素数３〜６のシクロアルキル基
、アダマンチル基、ト１ル和アルキル基、たとえばトリ
クロロメチル、トリプロモノメチル、トリクロロブチル
などの如き炭素数１〜５のトリハロアルキル基であり、
Ｒ３は低級アルキニル基、たとえばエチニル、プロピニ
ル、ブチニルなどの如き炭素数２〜５の低級アルキニル
基、低級アルカジエニル基、たとえばプロパジエニルも
しくはブタジエニルの如き炭素数３〜５の低級アルカジ
エニル基、およびシクロアルキル基、たとえばシクロプ
ロピル、シクロブチルもしくはシクロペンチルの如き炭
素数３〜６のシクロアルキル基であり、そしてＲ４は水
素、低級アルキル基、たとえば炭素数１〜５の低級アル
キル基、低級アルキルカルバモイル基、たとえばメチル
カルバモイル、エチルカルバモイル、ブチルカルバモイ
ルなどの如きアルキル基の炭素数が１〜５の低級アルキ
ルカルバモイル、ならびにシクロアルキル基、たとえば
シクロプロピル、シクロブチルおよびシクロペンチルの
如き炭素数３〜５のシクロアルキル基であり、そしてＲ
５は炭素数１〜５の低級アルキルであり、ただしｎ−０
の場合には、Ｒ２がメチルのときＲ４は水素でない）。
更に、本発明の範囲には次の構造式
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は上記定義
と同じである）の範囲内にある３−オキシムエチステロ
ン誘導体がある。
と同じである）の範囲内にある３−オキシムエチステロ
ン誘導体がある。
上記本発明化合物は、塩基の存在下で対応する３−オン
と適当なヒドロキシルアミン塩とを反応せしめ、そして
必要に応じて適当な溶媒からの再結晶またはカラムクロ
マトグラフによつて幾何異性体を単離することにより製
造できる。
と適当なヒドロキシルアミン塩とを反応せしめ、そして
必要に応じて適当な溶媒からの再結晶またはカラムクロ
マトグラフによつて幾何異性体を単離することにより製
造できる。
或いは又、Ｒ１が−ＣＯＲ２である化合物は、塩基の存
在下で、Ｃ−１７位置に基０Ｈを有する対応する３−オ
ンと適当なヒドロキシルアミン塩とを反応せしめ、次い
でＣ−１７位置のヒドロキシル基をエステル化し、そし
て必要に応じて適当な溶媒からの再結晶またはカラムク
ロマトグラフによつて幾何異性体を単離することによつ
ても製造できる。尚、下記式及び（式中、Ｒ１、Ｒ２、
Ｒ３及びＲ５は上記と同義である）で表わされる他の類
縁化合物も、塩基の存在下で対応する３−オンと適当な
ヒドロキシルアミン塩と反応せしめて製造することがで
きる。
在下で、Ｃ−１７位置に基０Ｈを有する対応する３−オ
ンと適当なヒドロキシルアミン塩とを反応せしめ、次い
でＣ−１７位置のヒドロキシル基をエステル化し、そし
て必要に応じて適当な溶媒からの再結晶またはカラムク
ロマトグラフによつて幾何異性体を単離することによつ
ても製造できる。尚、下記式及び（式中、Ｒ１、Ｒ２、
Ｒ３及びＲ５は上記と同義である）で表わされる他の類
縁化合物も、塩基の存在下で対応する３−オンと適当な
ヒドロキシルアミン塩と反応せしめて製造することがで
きる。
上記式の範囲内にある化合物は全て抗受精剤（Ａｎｔｉ
−１１ｔｔｅｒｉｎｇａｇｅｎｔ）として、即ち性交後
に供与すると生殖抑制をする剤として、貴重な医薬的活
性を有する。
−１１ｔｔｅｒｉｎｇａｇｅｎｔ）として、即ち性交後
に供与すると生殖抑制をする剤として、貴重な医薬的活
性を有する。
式１の化合物において、Ｒ３がエチニルでありそしてＲ
１とＲ４が水素であるかまたはＲ４が水素で、Ｒ１が−
ＣＯＣＨ３である化合物以外は全てが新規化合物である
。遊離オキシムおよびオキシム一１７β−アセテートは
従来技術で報告されているが、このどちらの化合物につ
いても医薬的活性が主張されていない。〔遊離オキシム
についてはＬ．Ｒｗ．ｉｃｋａ．Ｋ．ＨＯｆｍａｎｎお
よびＨ．Ｆ．ＭｅｎｄａｈｌによりＨｅｌｖ．Ｃｈｉｍ
．Ａｃｔａｌ２ｌ巻３７１頁（１９３８）に報告され、
オキシム一１７β−アセテートについてはカナダ特許第
８５５２０３号に報告された〕。どちらの化合物につい
ても生殖抑制に関する活性は報告されていない。エチス
テロンは多年の間、黄体ホルモン様の経口剤として使用
されたが、エチステロンやそのオキシムは、本新規オキ
シムの使用水準より約５倍までの投与量水準で投与して
も、経口的抗受精活性を示さない。
１とＲ４が水素であるかまたはＲ４が水素で、Ｒ１が−
ＣＯＣＨ３である化合物以外は全てが新規化合物である
。遊離オキシムおよびオキシム一１７β−アセテートは
従来技術で報告されているが、このどちらの化合物につ
いても医薬的活性が主張されていない。〔遊離オキシム
についてはＬ．Ｒｗ．ｉｃｋａ．Ｋ．ＨＯｆｍａｎｎお
よびＨ．Ｆ．ＭｅｎｄａｈｌによりＨｅｌｖ．Ｃｈｉｍ
．Ａｃｔａｌ２ｌ巻３７１頁（１９３８）に報告され、
オキシム一１７β−アセテートについてはカナダ特許第
８５５２０３号に報告された〕。どちらの化合物につい
ても生殖抑制に関する活性は報告されていない。エチス
テロンは多年の間、黄体ホルモン様の経口剤として使用
されたが、エチステロンやそのオキシムは、本新規オキ
シムの使用水準より約５倍までの投与量水準で投与して
も、経口的抗受精活性を示さない。
現在使用しうる大低の一般的避妊方法の主な欠点は、そ
れらを性交前に用いねばならぬことである。
れらを性交前に用いねばならぬことである。
このことは経口的抗排卵避妊および抗着床（Ａｎｔｉ−
１ｍｐＩａｎｔｉｖｅ）子宮内器具だけでなく、コンド
ーム、殺精子泡剤およびゼリー避妊用隔膜およびその類
についても云えることである。したがつて、これら避妊
法を使用する必要がある場合には、性交前に考慮および
準備する必要がある。更に、上記の注目される避妊法は
、隔膜、子宮内器具およびその類の場合と同様に、不便
であるかまたは或る経口的抗排卵化合物の場合と同様に
潜在的に有害である。現在使用されている経口避妊剤は
、一般に血栓性静脈炎および肺動脈塞栓症の如き有害な
副作用を起こしうる多量のエステロゲンを含有する。子
宮内器具はそう入時に子宮穿通を起こすことがありまた
そう入時だけでなく保持している間も使用者にとつて痛
いものである。本発明により、事前の準備を要せずまた
従来方法の欠点をもたない生殖抑制方法が提供される。
本発明の目的は、抗着床活性を有する新規なステロイド
系オキシムを提供することである。本発明の別の目的は
、エチステロンのオキシム誘導体を性交後に投与するこ
とによる生殖抑制方法を提供することである。本発明に
よる新規な３−オキシムおよび３−オキシム一１７βエ
チステロン誘導体は次式によつて示される；（式中、Ｒ
１は水素または−ＣＯＲ２であり、ここでＲ２は低級ア
ルキル、フエニル、シクロアルキル、アダマンチルおよ
びトリハロアルキルであり、Ｒ３は低級アルキル、炭素
数３〜５の低級アルカジエン基およびシクロアルキルで
あり、Ｒ４は水素、低級アルキル、低級アルキルカルバ
モイルおよびシクロアルキルであり、ただしＲ２がメチ
ルである場合にはＲ４は水素でなく、そしてＲ１が水素
の場合には、Ｒ４は水素でない）。
１ｍｐＩａｎｔｉｖｅ）子宮内器具だけでなく、コンド
ーム、殺精子泡剤およびゼリー避妊用隔膜およびその類
についても云えることである。したがつて、これら避妊
法を使用する必要がある場合には、性交前に考慮および
準備する必要がある。更に、上記の注目される避妊法は
、隔膜、子宮内器具およびその類の場合と同様に、不便
であるかまたは或る経口的抗排卵化合物の場合と同様に
潜在的に有害である。現在使用されている経口避妊剤は
、一般に血栓性静脈炎および肺動脈塞栓症の如き有害な
副作用を起こしうる多量のエステロゲンを含有する。子
宮内器具はそう入時に子宮穿通を起こすことがありまた
そう入時だけでなく保持している間も使用者にとつて痛
いものである。本発明により、事前の準備を要せずまた
従来方法の欠点をもたない生殖抑制方法が提供される。
本発明の目的は、抗着床活性を有する新規なステロイド
系オキシムを提供することである。本発明の別の目的は
、エチステロンのオキシム誘導体を性交後に投与するこ
とによる生殖抑制方法を提供することである。本発明に
よる新規な３−オキシムおよび３−オキシム一１７βエ
チステロン誘導体は次式によつて示される；（式中、Ｒ
１は水素または−ＣＯＲ２であり、ここでＲ２は低級ア
ルキル、フエニル、シクロアルキル、アダマンチルおよ
びトリハロアルキルであり、Ｒ３は低級アルキル、炭素
数３〜５の低級アルカジエン基およびシクロアルキルで
あり、Ｒ４は水素、低級アルキル、低級アルキルカルバ
モイルおよびシクロアルキルであり、ただしＲ２がメチ
ルである場合にはＲ４は水素でなく、そしてＲ１が水素
の場合には、Ｒ４は水素でない）。
新規ステロイド系オキシムは、ピリジン、水酸化ナトリ
ウム、酢酸ナトリウムおよびその類の如き好適な塩基の
存在下で、対応するケトエステル（式）から、例えばヒ
ドロキシルアミン塩酸塩の如きヒドロキシルアミン塩と
の反応によつて製造される。
ウム、酢酸ナトリウムおよびその類の如き好適な塩基の
存在下で、対応するケトエステル（式）から、例えばヒ
ドロキシルアミン塩酸塩の如きヒドロキシルアミン塩と
の反応によつて製造される。
新規オキシム製造の中間体であるケトエステルもまた新
規化合物である。
規化合物である。
新規ケトエステルは、ベンゼン、トルエンおよびその類
の如き好適な溶媒中で、エチステロンと式Ｒ２ＣＯＣｌ
を有する好適な酸ハライドとまたは式（Ｒ２ＣＯＯ）２
０を有する酸無水物とを反応させることにより製造する
。上式のＲ２とＲ３は上記定義と同じであり、ただしＲ
２がメチルの場合はＲ３はエチニルでない。別法として
、オキシムは１７位の炭素にある水酸基をエステル化す
ることによつてエチステロンから製造することもできる
０式〜Ｖの範囲内にあるオキシム誘導体は対応するケト
ンからも製造される。
の如き好適な溶媒中で、エチステロンと式Ｒ２ＣＯＣｌ
を有する好適な酸ハライドとまたは式（Ｒ２ＣＯＯ）２
０を有する酸無水物とを反応させることにより製造する
。上式のＲ２とＲ３は上記定義と同じであり、ただしＲ
２がメチルの場合はＲ３はエチニルでない。別法として
、オキシムは１７位の炭素にある水酸基をエステル化す
ることによつてエチステロンから製造することもできる
０式〜Ｖの範囲内にあるオキシム誘導体は対応するケト
ンからも製造される。
本発明の課題である、エチステロンの３−オキシムおよ
び３−オキシム一１７β一エステルは、経口投与の場合
、未分化胚芽細胞（ＢｌａｓｔＯｃｙｔｅ）の着床を防
ぐことにより、妊娠を阻止するものと信じられる。
び３−オキシム一１７β一エステルは、経口投与の場合
、未分化胚芽細胞（ＢｌａｓｔＯｃｙｔｅ）の着床を防
ぐことにより、妊娠を阻止するものと信じられる。
一般に、体重１ｋ９当り１日約２．５Ｔｎ９乃至約１０
ｍ９の量を性交後約６日間投与するのが生殖抑制に効果
的である。本発明の遊離オキシムにはシン（Ｓｙｎ）型
およびアンチ（Ａｎｔｉ）型と命名される２種類の幾何
異性形が存在する。
ｍ９の量を性交後約６日間投与するのが生殖抑制に効果
的である。本発明の遊離オキシムにはシン（Ｓｙｎ）型
およびアンチ（Ａｎｔｉ）型と命名される２種類の幾何
異性形が存在する。
その２種類の形は次の如く示される：（式中、Ｒ２およ
びＲ３は上記定義と同じである）。
びＲ３は上記定義と同じである）。
両異性体は生殖抑制剤として或る程度活性を示すが、ア
ンチ異性体の方がより活性な化合物である傾向にある。
純異性体は適当な溶媒からの再結晶またはカラムクロマ
トによつて単離することができる。一般に、単離操作を
反復することなしには９０％より高い純度を得ることは
困難である。特定的説明として以下に実施例を示す。し
かしながら、本発明は実施例の特定的詳細に制限される
ものでないことを理解すべきである。実施例 １ １７−シクロプロピルカルポキシエチステロン３−オキ
シム（ａ） １７α−プレグネ一４−エン一２０−イン
−３−オン−１７β−オールーシクロプロピルカルボキ
シレートエチステロン５．００７（１６ミリモル）とシ
クロプロピルカルボン酸クロリド４．１３７（４８ミリ
モル）との混合物を５００ｍｊの乾燥ベンゼン中で１０
日間還流させた。
ンチ異性体の方がより活性な化合物である傾向にある。
純異性体は適当な溶媒からの再結晶またはカラムクロマ
トによつて単離することができる。一般に、単離操作を
反復することなしには９０％より高い純度を得ることは
困難である。特定的説明として以下に実施例を示す。し
かしながら、本発明は実施例の特定的詳細に制限される
ものでないことを理解すべきである。実施例 １ １７−シクロプロピルカルポキシエチステロン３−オキ
シム（ａ） １７α−プレグネ一４−エン一２０−イン
−３−オン−１７β−オールーシクロプロピルカルボキ
シレートエチステロン５．００７（１６ミリモル）とシ
クロプロピルカルボン酸クロリド４．１３７（４８ミリ
モル）との混合物を５００ｍｊの乾燥ベンゼン中で１０
日間還流させた。
減圧下で溶媒を除去すると、７．４７の黄色油が得られ
る。その油を珪酸３５０７上でクロマトにかけた。酢酸
エチル−ベンゼン（５％）の混合物でカラムを溶出する
と、３．０５ｙ（５０％）の結晶塊が得られる。シクロ
ヘキサンから再結晶すると融点１５５〜１５５．５℃の
純生成物が得られる。（ｂ） １７α−プレグネ一４−
エン一２０−イン３−オン−１７β−オール−シクロプ
ロピルカルボキシレート−３−オキシムヒドロキシルア
ミン塩酸塩０．９５７（１３．６ミリモル）および１７
α−プレグネ一４−エンー２０−イン−３−オン−１７
β−オール−シクロプロピルカルボキシレート１，７０
７（４．４７ミリモル）を２５ｍ１の乾燥ピリジン中に
溶解しそしてその混合物を水蒸気浴上で１．５時間加熱
する。
る。その油を珪酸３５０７上でクロマトにかけた。酢酸
エチル−ベンゼン（５％）の混合物でカラムを溶出する
と、３．０５ｙ（５０％）の結晶塊が得られる。シクロ
ヘキサンから再結晶すると融点１５５〜１５５．５℃の
純生成物が得られる。（ｂ） １７α−プレグネ一４−
エン一２０−イン３−オン−１７β−オール−シクロプ
ロピルカルボキシレート−３−オキシムヒドロキシルア
ミン塩酸塩０．９５７（１３．６ミリモル）および１７
α−プレグネ一４−エンー２０−イン−３−オン−１７
β−オール−シクロプロピルカルボキシレート１，７０
７（４．４７ミリモル）を２５ｍ１の乾燥ピリジン中に
溶解しそしてその混合物を水蒸気浴上で１．５時間加熱
する。
次いでその反応混合物を室温で一晩攪拌する。その溶液
を６００ｍ１の水へ攪拌下にゆつくり注ぎ込む。白色沈
殿が得られ、これを▲過し、水で洗浄しそして乾燥する
。固形物を充分なクロロホルムに溶解して溶液を作り、
そしてそのクロロホルム溶液を水で洗浄し、Ｎａ２ｓＯ
４上で乾燥しそして減圧下で蒸発させると、１．６４７
の灰白色固形物が得られる。
を６００ｍ１の水へ攪拌下にゆつくり注ぎ込む。白色沈
殿が得られ、これを▲過し、水で洗浄しそして乾燥する
。固形物を充分なクロロホルムに溶解して溶液を作り、
そしてそのクロロホルム溶液を水で洗浄し、Ｎａ２ｓＯ
４上で乾燥しそして減圧下で蒸発させると、１．６４７
の灰白色固形物が得られる。
メタノール−水から再結晶すると、２種類のオキシム生
成物が得られる。第一生成物：０．８４７（６０％のア
ンチ：４０％のシン）第二生成物：０．２９ｙ（９４％
のアンチ：６％のシン）〔６４％〕。
成物が得られる。第一生成物：０．８４７（６０％のア
ンチ：４０％のシン）第二生成物：０．２９ｙ（９４％
のアンチ：６％のシン）〔６４％〕。
珪酸および薄層クロマト調製板を用いて分析用サンプル
を作り、１５％酢酸エチルリベンゼン溶液を用いて展開
する。上記手順においてエチステロンの代りに５α・１
７α−プレグネ一２０−イン−１７β−オール−３−オ
ンを用いると、融点２４３．５〜２４５．５℃の５α・
１７α−プレグネ一２０−イン−１７β−オール−３−
オン、オキシムが得られる。
を作り、１５％酢酸エチルリベンゼン溶液を用いて展開
する。上記手順においてエチステロンの代りに５α・１
７α−プレグネ一２０−イン−１７β−オール−３−オ
ンを用いると、融点２４３．５〜２４５．５℃の５α・
１７α−プレグネ一２０−イン−１７β−オール−３−
オン、オキシムが得られる。
実施例１の手順に従つて次の化合物が製造される。
実施例
実施例
シンおよびアンチ異性体の分離
１７α−プレグネ一４−エン一２０−イン−１７β−オ
ール−３−オン、アセテート、オキシムのシンおよびア
ンチ異性体の分離はシリカゲル上の乾燥カラムクロマト
グラフによる部分分割によつて達成される。
ール−３−オン、アセテート、オキシムのシンおよびア
ンチ異性体の分離はシリカゲル上の乾燥カラムクロマト
グラフによる部分分割によつて達成される。
最終的分離はシリカゲル調製板上の濃厚部分のクロマト
によつて完了する。１７α−プレグネ一４−エン一２０
−イン−１７β−オール−３−オン、アセテート、オキ
シムのシン／アンチの５０／５０混合物１．０７を、ウ
エルムシリカゲル（ＷＯｅｌｍＳｉｌｉｃａＧｅｌ）の
５０インチ×１インチ・カラム（指示薬を用いる）に４
０％酢酸エチル−シクロヘキサンで展開する。
によつて完了する。１７α−プレグネ一４−エン一２０
−イン−１７β−オール−３−オン、アセテート、オキ
シムのシン／アンチの５０／５０混合物１．０７を、ウ
エルムシリカゲル（ＷＯｅｌｍＳｉｌｉｃａＧｅｌ）の
５０インチ×１インチ・カラム（指示薬を用いる）に４
０％酢酸エチル−シクロヘキサンで展開する。
紫外光による検査で巾広な暗黒帯を示し、これを１イン
チ区分にスライスし（ナイロン支持管に通して）、各区
分を薄層クロマトで検査する。スライスおよび検査はよ
り移動性の区分（アンチ）から始める。区分１〜７（全
てアンチ）、区分８〜１８（シンおよびアンチ）、区分
１９〜２５（大部分がシン）。この手順をもう１つの５
０／５０混合物１．０７につき反復する。アンチ異性体
のみを含有する区分を混ぜ、溶媒を蒸発させ、そして残
留物をメチレンクロリド・ヘキサンから再結晶すると３
００ηのアンチ１７α−プレグネ一４−エン一２０−イ
ン１７β−オール−３−オン、アセテート、オキシムが
白色粉末として得られる。
チ区分にスライスし（ナイロン支持管に通して）、各区
分を薄層クロマトで検査する。スライスおよび検査はよ
り移動性の区分（アンチ）から始める。区分１〜７（全
てアンチ）、区分８〜１８（シンおよびアンチ）、区分
１９〜２５（大部分がシン）。この手順をもう１つの５
０／５０混合物１．０７につき反復する。アンチ異性体
のみを含有する区分を混ぜ、溶媒を蒸発させ、そして残
留物をメチレンクロリド・ヘキサンから再結晶すると３
００ηのアンチ１７α−プレグネ一４−エン一２０−イ
ン１７β−オール−３−オン、アセテート、オキシムが
白色粉末として得られる。
融点１７８〜１８０′Ｃｗ／ｄ１アンチ＝９７．４％（
ＴＬＣＳＣＡＮ）。
ＴＬＣＳＣＡＮ）。
シン異性体の多い区分（５５０ワ）を混ぜ、１４〜１０
００ミクロンのシリカゲル調製板上でクロマトにかけ（
４０ワ／１枚）そして４０％酢酸エチル−シクロヘキサ
ンで展開する。
００ミクロンのシリカゲル調製板上でクロマトにかけ（
４０ワ／１枚）そして４０％酢酸エチル−シクロヘキサ
ンで展開する。
シン異性体を含有するシリカゲル層を機械的に分離し、
２％ＭｅＯＨ−ＣＨ２Ｃｌ２で抽出し、ＣＨ２Ｃｌ２／
へキサンから再結晶すると、２２５ηのシン１７α一プ
レグネ一４−エン一２０−イン−１７β−オール−３−
オン、アセテート、オキシムが白色粉末として得られる
。融点２０５〜２０７℃ｗ／ｄ、シン一９３．４％（Ｔ
ＬＣＳＣＡＮ）。
２％ＭｅＯＨ−ＣＨ２Ｃｌ２で抽出し、ＣＨ２Ｃｌ２／
へキサンから再結晶すると、２２５ηのシン１７α一プ
レグネ一４−エン一２０−イン−１７β−オール−３−
オン、アセテート、オキシムが白色粉末として得られる
。融点２０５〜２０７℃ｗ／ｄ、シン一９３．４％（Ｔ
ＬＣＳＣＡＮ）。
上記の手順を用いて、１７α−プレグネ一４エン一２０
−イン−１７β−オール−３−オン、オキシムのシンお
よびアンチ異性体を分離すると、融点２２５〜２３０℃
のシン１７α−プレグネ一４−エン一２０−イン−１７
β−オール−３−オン、オキシムおよび融点２２５〜２
３０℃のアンチ１７α−プレグネ一４−エン一２０−イ
ン１７β−オール−３−オン、オキシムが得られる。
−イン−１７β−オール−３−オン、オキシムのシンお
よびアンチ異性体を分離すると、融点２２５〜２３０℃
のシン１７α−プレグネ一４−エン一２０−イン−１７
β−オール−３−オン、オキシムおよび融点２２５〜２
３０℃のアンチ１７α−プレグネ一４−エン一２０−イ
ン１７β−オール−３−オン、オキシムが得られる。
実施例実施例１の出発原料の製造例
１７α−プレグネ一４−エン一２０−イン１７β−オー
ル−３−オン、シクロペンチルカルボキシレート還流凝
縮器およびマグネチツク・スターラ一を備えた３００ｍ
１容丸底フラスコ中で０．７３ｆ７（６．４ミリモル）
のシクロペンチルカルボン酸および５ｍ１（３６ミリモ
ル）の無水トリフルオロ酢酸の１５０ｍ１乾燥ベンゼン
中溶液を５分間攪拌する。
ル−３−オン、シクロペンチルカルボキシレート還流凝
縮器およびマグネチツク・スターラ一を備えた３００ｍ
１容丸底フラスコ中で０．７３ｆ７（６．４ミリモル）
のシクロペンチルカルボン酸および５ｍ１（３６ミリモ
ル）の無水トリフルオロ酢酸の１５０ｍ１乾燥ベンゼン
中溶液を５分間攪拌する。
次いで、エチステロン（２７、６．４ミリモル）を加え
、そしてその溶液を還流温度で１０分間加温する。室温
で一晩（１８時間）攪拌の後、その反応混合物を１００
ｍ１部の１０％水酸化ナトリウムおよび水で洗浄し、Ｎ
ａ２ｓＯ４上で乾燥しそして濃縮すると、３，２ｙの黄
色油が得られる。その油を１６０７の珪酸上でクロマト
し、そしてその生成物を５％酢酸エチルベンゼン混合物
で溶出する。溶媒を除去しそして固形残留物を水性メタ
ノール液から再結晶すると、融点１９７〜２００℃の１
７α−プレグネ一４−エン一２０−イン−１７β−オー
ル−３−オン、シクロペンチルカルボキシレート０．８
２ｙが得られる。上記の手順でシクロペンチルカルボン
酸の代りに、安息香酸、シクロヘキシルカルボン酸およ
びシクロプロピルカルボン酸を使用すると、１７αープ
レグネ一４−エン一２０−イン−１７β−オール−３−
オン、ベンゾエート、１７α−プレグネ一４−エン一２
０−イン−１７β−オール−３−オン、シクロヘキシル
カルボキシレートおよび１７α−プレグネ一４−エン一
２０−イン１７β−オール−３−オン、シクロプロピル
カルボキシレートが得られる。
、そしてその溶液を還流温度で１０分間加温する。室温
で一晩（１８時間）攪拌の後、その反応混合物を１００
ｍ１部の１０％水酸化ナトリウムおよび水で洗浄し、Ｎ
ａ２ｓＯ４上で乾燥しそして濃縮すると、３，２ｙの黄
色油が得られる。その油を１６０７の珪酸上でクロマト
し、そしてその生成物を５％酢酸エチルベンゼン混合物
で溶出する。溶媒を除去しそして固形残留物を水性メタ
ノール液から再結晶すると、融点１９７〜２００℃の１
７α−プレグネ一４−エン一２０−イン−１７β−オー
ル−３−オン、シクロペンチルカルボキシレート０．８
２ｙが得られる。上記の手順でシクロペンチルカルボン
酸の代りに、安息香酸、シクロヘキシルカルボン酸およ
びシクロプロピルカルボン酸を使用すると、１７αープ
レグネ一４−エン一２０−イン−１７β−オール−３−
オン、ベンゾエート、１７α−プレグネ一４−エン一２
０−イン−１７β−オール−３−オン、シクロヘキシル
カルボキシレートおよび１７α−プレグネ一４−エン一
２０−イン１７β−オール−３−オン、シクロプロピル
カルボキシレートが得られる。
実施例 Ｖ
ｌ７α−プレグネ一４−エン一２０−イン−１７β−オ
ール−３−オン、Ｏ−メチルオキシム１００ｍｊ容丸底
フラスコヘエチステロン５７、メトキシアミン塩酸塩１
．５１ｙおよびピリジン５０ｍ１を装填する。
ール−３−オン、Ｏ−メチルオキシム１００ｍｊ容丸底
フラスコヘエチステロン５７、メトキシアミン塩酸塩１
．５１ｙおよびピリジン５０ｍ１を装填する。
その混合物を水蒸気浴上で２時間加温し、冷却し次いで
氷と水の混合物６００ｍ１へ注ぎこむ。１時間撹拌の後
、分離する無色の固形物を沢別し、水で充分洗浄しそし
て乾燥する。
氷と水の混合物６００ｍ１へ注ぎこむ。１時間撹拌の後
、分離する無色の固形物を沢別し、水で充分洗浄しそし
て乾燥する。
ベンゼンから再結晶すると、融点２１５〜２１７℃の１
７α−プレグネ一４−エン一２０−イン１７β−オール
−３−オン、Ｏ−メチルオキシム３．０７が得られる。
上記の手順でエチステロンとメトキシアミン塩酸塩の代
りにエチステロンアセテートおよびシクカペンチルオキ
シアミン塩酸塩を用いると、融点１１０〜１１２℃の１
７α−プレグネ一４−エン２０−イン−１７β−オール
−３−オン、アセテート、０−シクロペンチルオキシム
が得られる。
７α−プレグネ一４−エン一２０−イン１７β−オール
−３−オン、Ｏ−メチルオキシム３．０７が得られる。
上記の手順でエチステロンとメトキシアミン塩酸塩の代
りにエチステロンアセテートおよびシクカペンチルオキ
シアミン塩酸塩を用いると、融点１１０〜１１２℃の１
７α−プレグネ一４−エン２０−イン−１７β−オール
−３−オン、アセテート、０−シクロペンチルオキシム
が得られる。
実施例１７α−プレグネ一４−エン一２０−イン１７β
−オール−３−オン、アセテート、０（Ｎ−メチルカル
バモイル）オキシムアセトン１７ｍ１中エチステロンア
セテートオキシム９５０ワの溶液を、還流凝縮の備えて
ある５０ｍ喀丸底フラスコ中で、窒素気流下にマグネチ
ツクスターラ一で攪拌する。
−オール−３−オン、アセテート、０（Ｎ−メチルカル
バモイル）オキシムアセトン１７ｍ１中エチステロンア
セテートオキシム９５０ワの溶液を、還流凝縮の備えて
ある５０ｍ喀丸底フラスコ中で、窒素気流下にマグネチ
ツクスターラ一で攪拌する。
注射器を用い、「空気遮断］の栓を通して、トリエチル
アミン（０．２０ｍ０およびメチルイソシアネート
１（０．０２２ｍ０を加える。室温で１時間後、反
応が起こつていないことを薄層クロマト板が示す場合、
その反応混合物を還流下で２時間加温する。室温で一晩
攪拌の後、揮発物質を減圧下で除去すると、発泡物を生
ずる。その発泡物をエーテルに 〉よつて結晶化させ、
７６０ηの固形物を得る。次いで、その結晶を精製アセ
トン中に溶解し、活性＊く炭で処理し、短かいセライト
カラムを通して沢過し、そして窒素気流下でアセトンを
除去する。融点１８０〜１８３℃の１７α−プレグネ一
４−エン一２０−イン−１７β−オール−３−オン、ア
セテート、０−（Ｎ−メチルカルバモイル）オキシムの
結晶が得られる。化合物の抗受精効果（Ａｎｔｉｌｉｔ
ｔｅｒｉｎｇｅｆｆｅｃｔ）を次の手順で測定する：成
体雌ねずみを毎日スメア（Ｓｍｅａｒ）し、そして発情
期の直前（発情前期）に、それらを生殖能の保証された
雄ねずみと一晩一緒に飼う。
アミン（０．２０ｍ０およびメチルイソシアネート
１（０．０２２ｍ０を加える。室温で１時間後、反
応が起こつていないことを薄層クロマト板が示す場合、
その反応混合物を還流下で２時間加温する。室温で一晩
攪拌の後、揮発物質を減圧下で除去すると、発泡物を生
ずる。その発泡物をエーテルに 〉よつて結晶化させ、
７６０ηの固形物を得る。次いで、その結晶を精製アセ
トン中に溶解し、活性＊く炭で処理し、短かいセライト
カラムを通して沢過し、そして窒素気流下でアセトンを
除去する。融点１８０〜１８３℃の１７α−プレグネ一
４−エン一２０−イン−１７β−オール−３−オン、ア
セテート、０−（Ｎ−メチルカルバモイル）オキシムの
結晶が得られる。化合物の抗受精効果（Ａｎｔｉｌｉｔ
ｔｅｒｉｎｇｅｆｆｅｃｔ）を次の手順で測定する：成
体雌ねずみを毎日スメア（Ｓｍｅａｒ）し、そして発情
期の直前（発情前期）に、それらを生殖能の保証された
雄ねずみと一晩一緒に飼う。
翌朝、膣洗浄物中に精子が存在するかどうかにつき雌ね
ずみを検査する。精子が見出された日が妊娠初日（第１
日）である。そのねずみに、ゴマ油に溶解せる試験化合
物を妊娠第１日から第６日迄強制的に与え、第１４日目
に殺す。次いで、着床および吸収場所（ＲｅｓＯｒｐｔ
ｉＯｎｓｉｔｅ）につき、卵巣を検査する。比較群は、
化合物を投与しない以外は、同様に処理する。注目され
る化合物につき、そのテスト結果を次表に示す。
ずみを検査する。精子が見出された日が妊娠初日（第１
日）である。そのねずみに、ゴマ油に溶解せる試験化合
物を妊娠第１日から第６日迄強制的に与え、第１４日目
に殺す。次いで、着床および吸収場所（ＲｅｓＯｒｐｔ
ｉＯｎｓｉｔｅ）につき、卵巣を検査する。比較群は、
化合物を投与しない以外は、同様に処理する。注目され
る化合物につき、そのテスト結果を次表に示す。
のホルモンバランスを変えることによつて着床過程を乱
すのであろう。
すのであろう。
この剤が兎の配偶子運搬に与える効果によつて暗示され
ることは、卵管を通る正常な配偶子の運搬変化も剤の効
果に関与しうることである。本発明の実施態様および関
連事項は次の通りである。
ることは、卵管を通る正常な配偶子の運搬変化も剤の効
果に関与しうることである。本発明の実施態様および関
連事項は次の通りである。
１．式
または
（式中、Ｒ１は水素または−ＣＯＲ２であり、ここでＲ
２は低級アルキル、フエニル、シクロアルキル、アダマ
ンチルまたはトリハロアルキルであり、Ｒ３は低級アル
カジエニルまたはシクロアルキルであり、Ｒ４は水素、
低級アルキル、低級アルキルカルバモイルまたはシクロ
アルキルであり、そしてＲ５は炭素数１〜５の低級アル
キルであり、ただし化合物１の場合、Ｒ２がメチルのと
き、Ｒ４は水素でなく、またＲ１が水素のときＲ４は水
素でない）を有する化合物の製造方法であつて、 （ａ）塩基の存在下で対応する３−オンと適当なヒドロ
キシルアミン塩とを反応せしめるか、または（ｂ）エチ
ステロンもしくは置換されているエチステロンと適当な
ヒドロキシルアミン塩とを塩基の存在下で反応せしめ、
次いでＣ−１７位置のヒドロキシル基をエステル化し、
そして必要に応じて適当な溶媒から再結晶またはカラム
クロマトグラフによつて幾何異性体を単離ｔる、ことを
特徴とする方法。
２は低級アルキル、フエニル、シクロアルキル、アダマ
ンチルまたはトリハロアルキルであり、Ｒ３は低級アル
カジエニルまたはシクロアルキルであり、Ｒ４は水素、
低級アルキル、低級アルキルカルバモイルまたはシクロ
アルキルであり、そしてＲ５は炭素数１〜５の低級アル
キルであり、ただし化合物１の場合、Ｒ２がメチルのと
き、Ｒ４は水素でなく、またＲ１が水素のときＲ４は水
素でない）を有する化合物の製造方法であつて、 （ａ）塩基の存在下で対応する３−オンと適当なヒドロ
キシルアミン塩とを反応せしめるか、または（ｂ）エチ
ステロンもしくは置換されているエチステロンと適当な
ヒドロキシルアミン塩とを塩基の存在下で反応せしめ、
次いでＣ−１７位置のヒドロキシル基をエステル化し、
そして必要に応じて適当な溶媒から再結晶またはカラム
クロマトグラフによつて幾何異性体を単離ｔる、ことを
特徴とする方法。
２．対応する３−オンとヒドロキシルアミン塩酸塩とを
反応させることを特徴とする、Ｒ１が−ＣＯＲ２であり
、Ｒ２がペンチルであり、Ｒ３がエチニルでありそして
Ｒ４が水素である化合物１を製造する上記１の方法。
反応させることを特徴とする、Ｒ１が−ＣＯＲ２であり
、Ｒ２がペンチルであり、Ｒ３がエチニルでありそして
Ｒ４が水素である化合物１を製造する上記１の方法。
３．対応する３−オンとヒドロキシルアミン塩酸塩とを
反応させることを特徴とする、Ｒ１がＣＯＲ２であり、
Ｒ２がフエニルであり、Ｒ３がエチニルでありそしてＲ
４が水素である化合物を製造する上記１の方法。
反応させることを特徴とする、Ｒ１がＣＯＲ２であり、
Ｒ２がフエニルであり、Ｒ３がエチニルでありそしてＲ
４が水素である化合物を製造する上記１の方法。
４．対応する３−オンとヒドロキシルアミン塩酸塩とを
反応させることを特徴とする、Ｒ１が−ＣＯＲ２であり
、Ｒ２がシクロヘキシルでありＲ３がエチニルでありそ
してＲ４が水素である化合物１を製造する上記１の方法
。
反応させることを特徴とする、Ｒ１が−ＣＯＲ２であり
、Ｒ２がシクロヘキシルでありＲ３がエチニルでありそ
してＲ４が水素である化合物１を製造する上記１の方法
。
５．対応する３−オンとヒドロキシルアミン塩酸塩とを
反応させることを特徴とする、Ｒ１が一ＣＯＲ２であり
、Ｒ２がシクロプロピルであり、Ｒ３がエチニルであり
そしてＲ４が水素である化合物１を製造する上記１の方
法。
反応させることを特徴とする、Ｒ１が一ＣＯＲ２であり
、Ｒ２がシクロプロピルであり、Ｒ３がエチニルであり
そしてＲ４が水素である化合物１を製造する上記１の方
法。
６．対応する３−オンとヒドロキシルアミン塩酸塩を反
応させることを特徴とする、Ｒ，がＣＯＲ２であり、Ｒ
２がシクロペンチルであり、Ｒ３がエチニルでありそし
てＲ４が水素である化合物１を製造する上記１の方法。
応させることを特徴とする、Ｒ，がＣＯＲ２であり、Ｒ
２がシクロペンチルであり、Ｒ３がエチニルでありそし
てＲ４が水素である化合物１を製造する上記１の方法。
７．対応する３−オンとヒドロキシルアミン塩酸塩とを
反応させることを特徴とする。
反応させることを特徴とする。
Ｒ１が−ＣＯＲ２であり、Ｒ２がトリクロロメチルであ
り、Ｒ３がエチニルでありそしてＲ４が水素である化合
物１を製造する上記１の方法。８．カラムクロマトグラ
フによつてシン（Ｓｙｎ）型およびアンチ（Ａｎｔｉ）
型異性体の混合物からシン型を分離することを特徴とす
る、式（式中、Ｒ１は水素または−ＣＯＲ２であり、こ
こでＲ２は低級アルキル、フエニル、シクロアルキル、
アダマンチルまたはトリハロアルキルであり、そしてＲ
３は低級アルキニル、低級アルカジエニルまたはシクロ
アルキルである）を有するエチステロン・シンオキシム
の製造方法。
り、Ｒ３がエチニルでありそしてＲ４が水素である化合
物１を製造する上記１の方法。８．カラムクロマトグラ
フによつてシン（Ｓｙｎ）型およびアンチ（Ａｎｔｉ）
型異性体の混合物からシン型を分離することを特徴とす
る、式（式中、Ｒ１は水素または−ＣＯＲ２であり、こ
こでＲ２は低級アルキル、フエニル、シクロアルキル、
アダマンチルまたはトリハロアルキルであり、そしてＲ
３は低級アルキニル、低級アルカジエニルまたはシクロ
アルキルである）を有するエチステロン・シンオキシム
の製造方法。
９．Ｒ１が−ＣＯＲ２であり、Ｒ２がメチルであり、そ
してＲ３がエチニルである化合物を製造する上記８の方
法。
してＲ３がエチニルである化合物を製造する上記８の方
法。
１０．Ｒ１が水素であり、そしてＲ３・・がエチニルで
ある化合物を製造する上記８の方法。
ある化合物を製造する上記８の方法。
１１．カラムクロマトグラフにより異性体混合物からア
ンチ型を分離することを特徴とする、式（式中、Ｒ１は
水素または−ＣＯＲ２であり、ここでＲ２は低級アルキ
ル、フエニル、シクロアルキル、アダマンチルまたはト
リハロアルキルであり、そしてＲ３は低級アルキニル、
低級アルカジエニルまたはシクロアルキルである）を有
するエチステロンアンチオキシムの製造方法。
ンチ型を分離することを特徴とする、式（式中、Ｒ１は
水素または−ＣＯＲ２であり、ここでＲ２は低級アルキ
ル、フエニル、シクロアルキル、アダマンチルまたはト
リハロアルキルであり、そしてＲ３は低級アルキニル、
低級アルカジエニルまたはシクロアルキルである）を有
するエチステロンアンチオキシムの製造方法。
１２．Ｒ１が−ＣＯＲ２であり、Ｒ２がメチルでありそ
してＲ３がエチニルである化合物を製造する上記１１の
方法。
してＲ３がエチニルである化合物を製造する上記１１の
方法。
１３．Ｒ１が水素でありそしてＲ３がエチニルである化
合物を製造する上記１１の方法。
合物を製造する上記１１の方法。
１４，対応する３−オンとヒドロキシルアミン塩酸塩と
を反応させることを特徴とする、Ｒ，がＣＯＲ２であり
、Ｒ２がメチルでありそしてＲ３がエチニルである化合
物を製造する上記１の方法。
を反応させることを特徴とする、Ｒ，がＣＯＲ２であり
、Ｒ２がメチルでありそしてＲ３がエチニルである化合
物を製造する上記１の方法。
１５．対応する３−オンとヒドロキシルアミン塩酸塩と
を反応させることを特徴とする、Ｒ１が水素であり、Ｒ
３がプロ゛ピニルであり、そしてＲ，がメチルである化
合物を製造する上記１の方法。
を反応させることを特徴とする、Ｒ１が水素であり、Ｒ
３がプロ゛ピニルであり、そしてＲ，がメチルである化
合物を製造する上記１の方法。
１６．対応する３−オンとヒドロキシルアミン塩酸塩と
を反応させることを特徴とする、Ｒ１が水素であり、Ｒ
３がプロピニルでありそしてＲ５がメチルである化合物
を製造する上記１の方法。
を反応させることを特徴とする、Ｒ１が水素であり、Ｒ
３がプロピニルでありそしてＲ５がメチルである化合物
を製造する上記１の方法。
１７．対応する３−オンとヒドロキシルアミン塩酸塩と
を反応させることを特徴とする、Ｒ１が水素であり、Ｒ
３がエチニルでありそしてＲ５がメチルである化合物Ｖ
を製造する上記１の方法。
を反応させることを特徴とする、Ｒ１が水素であり、Ｒ
３がエチニルでありそしてＲ５がメチルである化合物Ｖ
を製造する上記１の方法。
１８．エチステロンと適当な式Ｒ２ＣＯＣｌの酸ハライ
ドまたは式（Ｒ２ＣＯＯ）２０の酸無水物とを好適な溶
媒中で反応させることを特徴とする、式（式中、Ｒ２は
低級アルキル、フエニル、シクロアルキル、アダマンチ
ルまたはトリハロ低級アルキルでありそしてＲ３は低級
アルキニル、低級アルカジエニルまたはシクロアルキル
であり、ただしＲ２がメチルのときはＲ３がエチニルで
ない）を有する化合物の製造方法。
ドまたは式（Ｒ２ＣＯＯ）２０の酸無水物とを好適な溶
媒中で反応させることを特徴とする、式（式中、Ｒ２は
低級アルキル、フエニル、シクロアルキル、アダマンチ
ルまたはトリハロ低級アルキルでありそしてＲ３は低級
アルキニル、低級アルカジエニルまたはシクロアルキル
であり、ただしＲ２がメチルのときはＲ３がエチニルで
ない）を有する化合物の製造方法。
１９．式
（式中、Ｒ１は水素または−ＣＯＲ２であり、ここでＲ
２は低級アルキル、フエニル、シクロアルキル、アダマ
ンチルまたはハロアルキルであり、Ｒ３は低級アルキニ
ル、低級アルカジエニルまたはシクロアルキルであり、
そしてＲ４は水素、低級アルキルまたは低級アルキルカ
ルバモイルである）を有する化合物の有効量を雌動物に
投与することを特徴とする生殖抑制方法。
２は低級アルキル、フエニル、シクロアルキル、アダマ
ンチルまたはハロアルキルであり、Ｒ３は低級アルキニ
ル、低級アルカジエニルまたはシクロアルキルであり、
そしてＲ４は水素、低級アルキルまたは低級アルキルカ
ルバモイルである）を有する化合物の有効量を雌動物に
投与することを特徴とする生殖抑制方法。
２０，Ｒ１が水素であり、Ｒ３がエチニルでありそして
Ｒ４が水素である上記１９の方法。
Ｒ４が水素である上記１９の方法。
２１．Ｒ１が−ＣＯＲ２であり、Ｒ２がメチルであり、
Ｒ３がエチニルでありそしてＲ４が水素である上記１９
の方法。
Ｒ３がエチニルでありそしてＲ４が水素である上記１９
の方法。
２２．Ｒ２がシクロプロピルであり、Ｒ３がエチニルで
ありそしてＲ４が水素である上記１９の方法。
ありそしてＲ４が水素である上記１９の方法。
２３．該化合物を経口的に投与する上記１９の方法。
２４．該化合物を連続して毎日投与する上記１９の方法
。
。
２５．上記態様１の方法またはそれと化学的に均等な方
法によつて製造された、式（式中、Ｒ１は水素または−
ＣＯＲ２であり、ここでＲ２は低級アルキル、フエニル
、シクロアルキル、アダマンチルまたはトリハロアルキ
ルであり、Ｒ３は低級アルキニル、低級アルカジエニル
またはシクロアルキルであり、Ｒ４は水素、低級アルキ
ル、低級アルキルカルバモイル、またはシクロアルキル
でありそしてＲ５は炭素数１〜５の低級アルキルであり
、ただし化合物Ｉの場合Ｒ２がメチルのときは現は水素
でなくまたＲ１が水素のときはＲ４は水素でない）を有
する化合物。
法によつて製造された、式（式中、Ｒ１は水素または−
ＣＯＲ２であり、ここでＲ２は低級アルキル、フエニル
、シクロアルキル、アダマンチルまたはトリハロアルキ
ルであり、Ｒ３は低級アルキニル、低級アルカジエニル
またはシクロアルキルであり、Ｒ４は水素、低級アルキ
ル、低級アルキルカルバモイル、またはシクロアルキル
でありそしてＲ５は炭素数１〜５の低級アルキルであり
、ただし化合物Ｉの場合Ｒ２がメチルのときは現は水素
でなくまたＲ１が水素のときはＲ４は水素でない）を有
する化合物。
２６．上記態様２の方法またはそれと化学的に均等な方
法で製造された、Ｒ１が−ＣＯＲ２であり、Ｒ２がペン
チルであり、Ｒ３がエチニルでありそしてＲ４が水素で
ある上記２５の化合物。
法で製造された、Ｒ１が−ＣＯＲ２であり、Ｒ２がペン
チルであり、Ｒ３がエチニルでありそしてＲ４が水素で
ある上記２５の化合物。
２７．上記態様３の方法またはそれと化学的に均等な方
法で製造された、Ｒ１が−ＣＯＲ２であり、Ｒ２がフエ
ニルであり、Ｒ３がエチニルでありそしてＲ４が水素で
ある上記２５の化合物。
法で製造された、Ｒ１が−ＣＯＲ２であり、Ｒ２がフエ
ニルであり、Ｒ３がエチニルでありそしてＲ４が水素で
ある上記２５の化合物。
２８．上記態様４の方法またはそれと化学的に均等な方
法で製造された、Ｒ１が−ＣＯＲ２であり、Ｒ２がシク
ロヘキシルであり、Ｒ３がエチニルであり、そしてＲ４
が水素である上記２５の化合物。
法で製造された、Ｒ１が−ＣＯＲ２であり、Ｒ２がシク
ロヘキシルであり、Ｒ３がエチニルであり、そしてＲ４
が水素である上記２５の化合物。
２９．上記態様５の方法またはそれと化学的に均等な方
法によつて製造された、Ｒ１が−ＣＯＲ２であり、Ｒ２
がシクロプロピルであり、Ｒ３がエチニルでありそして
Ｒ４が水素である上記２５の化合物。
法によつて製造された、Ｒ１が−ＣＯＲ２であり、Ｒ２
がシクロプロピルであり、Ｒ３がエチニルでありそして
Ｒ４が水素である上記２５の化合物。
３０，上記態様６の方法またはそれと化学的に均等な方
法によつて製造された、Ｒ１が−ＣＯＲ２であり、Ｒ２
がシクロペンチルであり、Ｒ３がエチニルでありそして
Ｒ４が水素である上記２５の化合物。
法によつて製造された、Ｒ１が−ＣＯＲ２であり、Ｒ２
がシクロペンチルであり、Ｒ３がエチニルでありそして
Ｒ４が水素である上記２５の化合物。
３１．上記態様７の方法またはそれと化学的に均等な方
法によつて製造された、Ｒ１が−ＣＯＲ２であり、Ｒ２
がトリクロロメチルであり、Ｒ３がエチルでありそして
Ｒ４が水素である上記２５の化合物。
法によつて製造された、Ｒ１が−ＣＯＲ２であり、Ｒ２
がトリクロロメチルであり、Ｒ３がエチルでありそして
Ｒ４が水素である上記２５の化合物。
３２．上記態様８の方法またはそれと化学的に均等な方
法によつて製造された、式（式中、Ｒ１は水素または−
ＣＯＲ２であり、ここでＲ２は低級アルキル、フエニル
、シクロアルキル、アダマンチルまたはトリハロアルキ
ルであり、そしてＲ３は低級アルキニル、低級アルカジ
エニルまたはシクロアルキルである）を有するエチステ
ロンシンオキシム。
法によつて製造された、式（式中、Ｒ１は水素または−
ＣＯＲ２であり、ここでＲ２は低級アルキル、フエニル
、シクロアルキル、アダマンチルまたはトリハロアルキ
ルであり、そしてＲ３は低級アルキニル、低級アルカジ
エニルまたはシクロアルキルである）を有するエチステ
ロンシンオキシム。
３３．上記態様９の方法またはそれと化学的に均等な方
法によつて製造された、Ｒ１が−ＣＯＲ２であり、Ｒ２
がメチルでありそしてＲ３がエチニルである上記３２の
化合物。
法によつて製造された、Ｒ１が−ＣＯＲ２であり、Ｒ２
がメチルでありそしてＲ３がエチニルである上記３２の
化合物。
３４。
上記態様１０の方法またはそれと化学的に均等な方法に
よつて製造された、Ｒ１が水素であり、そしてＲ３がエ
チニルである上記３２の化合物。３５．上記態様１１の
方法またはそれと化学的に均等な方法によつて製造され
た、式（式中、Ｒ１は水素または−ＣＯＲ２であり、こ
こでＲ２は低級アルキル、フエニル、シクロアルキル、
アダマンチルまたはトリハロアルキルであり、そしてＲ
３は低級アルキニル、低級アルカジエニルまたはシクロ
アルキルである）を有するエチステロンアンチオキシム
。
よつて製造された、Ｒ１が水素であり、そしてＲ３がエ
チニルである上記３２の化合物。３５．上記態様１１の
方法またはそれと化学的に均等な方法によつて製造され
た、式（式中、Ｒ１は水素または−ＣＯＲ２であり、こ
こでＲ２は低級アルキル、フエニル、シクロアルキル、
アダマンチルまたはトリハロアルキルであり、そしてＲ
３は低級アルキニル、低級アルカジエニルまたはシクロ
アルキルである）を有するエチステロンアンチオキシム
。
３６．上記態様１２の方法またはそれと化学的に均等な
方法によつて製造された、Ｒ１が−ＣＯＲ２であり、Ｒ
２がメチルであり、そしてＲ３がエチニルである上記３
５の化合物。
方法によつて製造された、Ｒ１が−ＣＯＲ２であり、Ｒ
２がメチルであり、そしてＲ３がエチニルである上記３
５の化合物。
３７．上記態様１３の方法またはそれと化学的に均等な
方法によつて製造された、Ｒ１が水素でありそしてＲ３
がエチニルである上記３５の化合物。
方法によつて製造された、Ｒ１が水素でありそしてＲ３
がエチニルである上記３５の化合物。
３８．上記態様１４の方法またはそれと化学的に均等な
方法によつて製造された、Ｒ１が−ＣＯＲ２であり、Ｒ
２がメチルでありそしてＲ３がエチニルである上記２５
の化合物。
方法によつて製造された、Ｒ１が−ＣＯＲ２であり、Ｒ
２がメチルでありそしてＲ３がエチニルである上記２５
の化合物。
３９．上記態様１５の方法またはそれと化学的に均等な
方法によつて製造された、Ｒ１が水素であり、Ｒ３がプ
ロピニルでありそしてＲ５がメチルである上記態様１の
化合物。
方法によつて製造された、Ｒ１が水素であり、Ｒ３がプ
ロピニルでありそしてＲ５がメチルである上記態様１の
化合物。
４０．上記態様１６の方法またはそれと化学的に均等な
方法によつて製造された、Ｒ１が水素であり、Ｒ３がプ
ロピニルでありそしてＲ５がメチルである上記態様１の
化合物。
方法によつて製造された、Ｒ１が水素であり、Ｒ３がプ
ロピニルでありそしてＲ５がメチルである上記態様１の
化合物。
４１．上記態様１７の方法またはそれと化学的に均等な
方法によつて製造された、Ｒ１が水素であり、Ｒ３がエ
チニルでありそしてＲ５がメチルである上記態様１の化
合物ＶＯ４２．上記態様１８の方法またはそれと化学的
に均等な方法によつて製造された、式（式中、Ｒ２は低
級アルキル、フエニル、シクロアルキル、アダマンチル
またはトリハロ低級アルキルでありそしてＲ８は低級ア
ルキニル、低級アルカジエニルまたはシクロアルキルで
あり、ただしＲ２がメチルのときＲ３はエチニルでない
）を有する化合物。
方法によつて製造された、Ｒ１が水素であり、Ｒ３がエ
チニルでありそしてＲ５がメチルである上記態様１の化
合物ＶＯ４２．上記態様１８の方法またはそれと化学的
に均等な方法によつて製造された、式（式中、Ｒ２は低
級アルキル、フエニル、シクロアルキル、アダマンチル
またはトリハロ低級アルキルでありそしてＲ８は低級ア
ルキニル、低級アルカジエニルまたはシクロアルキルで
あり、ただしＲ２がメチルのときＲ３はエチニルでない
）を有する化合物。
４３．式
（式中、Ｒ１は水素または−ＣＯＲ２であり、ここでＲ
２は低級アルキル、フエニル、シクロアルキル、アダマ
ンチルまたはトリハロアルキルであり、Ｒ３は低級アル
キニル、低級アルカジエニルまたはシクロアルキルであ
り、Ｒ４は水素、低級アルキル、低級アルキルカルバモ
イルまたはシクロアルキルであり、そしてＲ５は炭素数
１〜５の低級アルキルであり、ただし化合物の場合Ｒ２
がメチルであるときＲ４は水素でなく、またＲ１が水素
であると，きＲ４は水素でない）を有する化合物。
２は低級アルキル、フエニル、シクロアルキル、アダマ
ンチルまたはトリハロアルキルであり、Ｒ３は低級アル
キニル、低級アルカジエニルまたはシクロアルキルであ
り、Ｒ４は水素、低級アルキル、低級アルキルカルバモ
イルまたはシクロアルキルであり、そしてＲ５は炭素数
１〜５の低級アルキルであり、ただし化合物の場合Ｒ２
がメチルであるときＲ４は水素でなく、またＲ１が水素
であると，きＲ４は水素でない）を有する化合物。
４４．Ｒ１が−ＣＯＲ２であり、Ｒ２がペンチルであり
、Ｒ３がエチニルでありそしてＲ４が水素である上記態
様１の化合物。
、Ｒ３がエチニルでありそしてＲ４が水素である上記態
様１の化合物。
４５．Ｒ１が−ＣＯＲ２であり、Ｒ２がフエニルであり
、Ｒ３がエチニルでありそしてＲ４が水素である上記態
様１の化合物。
、Ｒ３がエチニルでありそしてＲ４が水素である上記態
様１の化合物。
４６．Ｒ１が−ＣＯＲ２であり、Ｒ２がシクロヘキシル
であり、Ｒ３がエチニルでありそしてＲ４が水素である
上記態様１の化合物。
であり、Ｒ３がエチニルでありそしてＲ４が水素である
上記態様１の化合物。
４７．Ｒ１が−ＣＯＲ２であり、Ｒ２がシクロプロピル
であり、Ｒ３がエチニルでありそしてＲ４が水素である
上記態様１の化合物。
であり、Ｒ３がエチニルでありそしてＲ４が水素である
上記態様１の化合物。
４８．Ｒ１が−ＣＯＲ２であり、Ｒ２がシクロペンチル
であり、Ｒ３がエチニルでありそしてＲ４が水素である
上記態様１の化合物。
であり、Ｒ３がエチニルでありそしてＲ４が水素である
上記態様１の化合物。
４９．Ｒ１が−ＣＯＲ２であり、Ｒ２がトリクロロメチ
ルであり、Ｒ３がエチニルでありそしてＲ４が水素であ
る上記態様１の化合物。
ルであり、Ｒ３がエチニルでありそしてＲ４が水素であ
る上記態様１の化合物。
５０．式
（式中、Ｒ１は水素または−ＣＯＲ２であり、ここでＲ
２は低級アルキル、フエニル、シクロアルキル、アダマ
ンチルまたはトリハロアルキルでありそしてＲ３は低級
アルキニル、低級アルカジエニルまたはシクロアルキル
である）を有するエチステロンシンオキシム。
２は低級アルキル、フエニル、シクロアルキル、アダマ
ンチルまたはトリハロアルキルでありそしてＲ３は低級
アルキニル、低級アルカジエニルまたはシクロアルキル
である）を有するエチステロンシンオキシム。
５１．Ｒ１が−ＣＯＲ２であり、Ｒ２がメチルであり、
そしてＲ３がエチニルである上記５０の化合物。
そしてＲ３がエチニルである上記５０の化合物。
５２．Ｒ１が水素でありそしてＲ３がエチニルである上
記５０の化合物。
記５０の化合物。
５３．式
（式中、Ｒ１は水素または−ＣＯＲ２であり、ここでＲ
２は低級アルキル、フエニル、シクロアルキル、アダマ
ンチルまたはトリハロアルキルであり、そしてＲ３は低
級アルキニル、低級アルカジエニルまたはシクロアルキ
ルである）を有するエチステロンアンチオキシム。
２は低級アルキル、フエニル、シクロアルキル、アダマ
ンチルまたはトリハロアルキルであり、そしてＲ３は低
級アルキニル、低級アルカジエニルまたはシクロアルキ
ルである）を有するエチステロンアンチオキシム。
５４．Ｒ１が−ＣＯＲ２であり、Ｒ２がメチルでありそ
してＲ３がエチニルである上記５３の化合物。
してＲ３がエチニルである上記５３の化合物。
５５．Ｒ１が水素であり、Ｒ３がエチニルである上記５
３の化合物。
３の化合物。
５６．Ｒ１が−ＣＯＲ２であり、Ｒ２がメチルでありそ
してＲ３がエチニルである上記４３の化合物。
してＲ３がエチニルである上記４３の化合物。
５７．Ｒ１が水素であり、Ｒ３がプロピニルでありそし
てＲ５がメチルである上記４３の化合物。
てＲ５がメチルである上記４３の化合物。
５８，Ｒ１が水素であり、Ｒ３がプロピニルでありそし
てＲ５がメチルである上記４３の化合物。
てＲ５がメチルである上記４３の化合物。
５９．Ｒ１が水素であり、Ｒ３がエチニルでありそして
Ｒ５がメチルである上記４３の化合物ＶＯ６Ｏ．式（式
中、Ｒ２は低級アルキル、フエニル、シクロアルキル、
アダマンチルまたはトリハロ低級アルキルであり、そし
てＲ３は低級アルキニル、低級アルカジエニルまたはシ
クロアルキルであり、ただしＲ２がメチルであるときＲ
３はエチニルでない）を有する化合物。
Ｒ５がメチルである上記４３の化合物ＶＯ６Ｏ．式（式
中、Ｒ２は低級アルキル、フエニル、シクロアルキル、
アダマンチルまたはトリハロ低級アルキルであり、そし
てＲ３は低級アルキニル、低級アルカジエニルまたはシ
クロアルキルであり、ただしＲ２がメチルであるときＲ
３はエチニルでない）を有する化合物。
６１．本明細書および実施例に実質的に記載ある、式１
、、、またはｖを有する化合物の製造方法。
、、、またはｖを有する化合物の製造方法。
６２．上記６１の方法によつて製造された、式１１、、
またはＶを有する化合物。
またはＶを有する化合物。
６３．活性成分が式、、、またはを有す
る性交後の咄乳動物生殖抑制剤。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （ I 、IV、Ｖ） （式中、ｎは０もしくは１であつて、ｎ＝１の場合には
、Ｒ＿５は６−位もしくは７−位にあり且つＲ＿４は水
素であり、Ｒ＿４は水素または−ＣＯＲ＿２であり、こ
こでＲ＿２は低級アルキル、フェニル、シクロアルキル
、アダマンチルまたはトリハロアルキルであり、Ｒ＿３
は低級アルキニル、低級アルカジエニルまたはシクロア
ルキルであり、Ｒ＿４は水素、低級アルキル、低級アル
キルカルバモイルまたはシクロアルキルであり、そして
Ｒ＿５は炭素数１〜５の低級アルキルであり、ただしｎ
＝０の場合には、Ｒ＿２がメチルのときＲ＿４は水素で
ない）を有する化合物の製造方法であつて、 塩基の存在下で、対応する３−オンと適当なヒドロキシ
ルアミン塩とを反応せしめ、そして必要に応じて適当な
溶媒からの再結晶またはカラムクロマトグラフによつて
幾何異性体を単離することを特徴とする方法。 ２ 式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （ I 、IV、Ｖ） （式中、ｎは０もしくは１であつて、ｎ＝１の場合には
、Ｒ＿５は６−位もしくは７−位にあり且つＲ＿４は水
素であり、Ｒ＿１は−ＣＯＲ＿２であり、ここでＲ＿２
は低級アルキル、フェニル、シクロアルキル、アダマン
チルまたはトリハロアルキルであり、Ｒ＿３は低級アル
キニル、低級アルカジエニルまたはシクロアルキルであ
り、Ｒ＿４は水素、低級アルキル、低級アルキルカルバ
モイルまたはシクロアルキルであり、そしてＲ＿５は炭
素数１〜５の低級アルキルであり、ただしｎ＝０の場合
には、Ｒ＿２がメチルのときＲ＿４は水素でない）を有
する化合物の製造方法であつて、 塩基の存在下で、Ｃ−１７位置にヒドロキシル基を有す
る対応する３−オンと適当なヒドロキシルアミン塩とを
反応せしめ、次いでＣ−１７位置のヒドロキシル基をエ
ステル化し、そして必要に応じて適当な溶媒からの再結
晶またはカラムクロマトグラフによつて幾何異性体を単
離することを特徴とする方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US33723673A | 1973-03-01 | 1973-03-01 | |
| US337236 | 1973-03-01 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5029550A JPS5029550A (ja) | 1975-03-25 |
| JPS5926640B2 true JPS5926640B2 (ja) | 1984-06-29 |
Family
ID=23319690
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP49023481A Expired JPS5926640B2 (ja) | 1973-03-01 | 1974-03-01 | 生殖抑制活性を有するエチステロン誘導体の製造方法 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5926640B2 (ja) |
| AT (1) | AT343292B (ja) |
| CA (1) | CA1034942A (ja) |
| CH (1) | CH606108A5 (ja) |
| DE (1) | DE2409648A1 (ja) |
| FR (1) | FR2219783B1 (ja) |
| GB (1) | GB1452179A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0568898U (ja) * | 1992-02-19 | 1993-09-17 | 株式会社明和スクリーン | プルトップ部オープナ |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2664895B1 (fr) * | 1990-07-20 | 1992-10-30 | Theramex Laboratoire | Nouveaux derives de la 6-methyl 19-nor progesterone, substitues en 3 et leur procede d'obtention. |
| WO1993013122A1 (de) * | 1991-12-22 | 1993-07-08 | Schering Aktiengesellschaft | 3-methylsulfonylhydrazono- und 3-oxyimino-steroide, ein verfahren zu deren herstellung, diese steroide enthaltende pharmazeutische präparate sowie ihre verwendung zur herstellung von arzneimitteln |
| HUP0301981A2 (hu) * | 2003-06-30 | 2005-04-28 | Richter Gedeon Vegyészeti Gyár Rt. | Tiszta d-(17alfa)-13-etil-17-hidroxi-18,19-dinor-pregn-4-én-20-in-3-on-3E- és 3Z-oxim izomerek, valamint eljárás az izomer keverékek és a tiszta izomerek előállítására |
| US7576226B2 (en) | 2003-06-30 | 2009-08-18 | Richter Gedeon Vegyeszeti Gyar Rt. | Process of making isomers of norelgestromin and methods using the same |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3299107A (en) * | 1965-02-12 | 1967-01-17 | Searle & Co | 17-(unsaturated hydrocarbon-substituted)-3-hydroxyimino-5alpha-androstan-17beta-ols,alkyl and acyl derivatives thereof |
| US3686237A (en) * | 1969-12-04 | 1972-08-22 | Ortho Pharma Corp | O-(nitroaryl)oximes of 3-keto steroids |
-
1974
- 1974-02-28 AT AT165374A patent/AT343292B/de not_active IP Right Cessation
- 1974-02-28 FR FR7406871A patent/FR2219783B1/fr not_active Expired
- 1974-02-28 GB GB916974A patent/GB1452179A/en not_active Expired
- 1974-02-28 CA CA193,688A patent/CA1034942A/en not_active Expired
- 1974-02-28 DE DE19742409648 patent/DE2409648A1/de not_active Withdrawn
- 1974-03-01 JP JP49023481A patent/JPS5926640B2/ja not_active Expired
- 1974-03-01 CH CH294474A patent/CH606108A5/xx not_active IP Right Cessation
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0568898U (ja) * | 1992-02-19 | 1993-09-17 | 株式会社明和スクリーン | プルトップ部オープナ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5029550A (ja) | 1975-03-25 |
| GB1452179A (en) | 1976-10-13 |
| CA1034942A (en) | 1978-07-18 |
| FR2219783A1 (ja) | 1974-09-27 |
| FR2219783B1 (ja) | 1977-06-03 |
| DE2409648A1 (de) | 1974-09-12 |
| ATA165374A (de) | 1977-09-15 |
| CH606108A5 (ja) | 1978-10-13 |
| AT343292B (de) | 1978-05-26 |
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