JPS5928535U - プラズマ処理装置 - Google Patents
プラズマ処理装置Info
- Publication number
- JPS5928535U JPS5928535U JP12160982U JP12160982U JPS5928535U JP S5928535 U JPS5928535 U JP S5928535U JP 12160982 U JP12160982 U JP 12160982U JP 12160982 U JP12160982 U JP 12160982U JP S5928535 U JPS5928535 U JP S5928535U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plasma
- reaction chamber
- plasma processing
- processing equipment
- wall
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第1図は本考案のプラズマ処理装置の概略断面図、第2
図は従来のプラズマ処理装置の概略断面図、第3図a、
bは本考案のプラズマ処理装置の全体を示す長手方
向断面図および横断面図、第4−は本考案の装置におけ
る排気口の開閉作動のタイムチャート、第5図a、
bは本考案と従来のプラズマ処理装置を用いて処理した
実験結果を示す図である。 第1図において、1・・・・・・プラズマ処理槽、2・
・・・・・ジャワ管、3・・・・・・発生炉、4・・・
・・・プラズマ導入口、5−、〜。・・・・・・排気口
、7・・・・・・被処理物、8・・・・・・被処理物支
持台、9・・・・・・反応室。
図は従来のプラズマ処理装置の概略断面図、第3図a、
bは本考案のプラズマ処理装置の全体を示す長手方
向断面図および横断面図、第4−は本考案の装置におけ
る排気口の開閉作動のタイムチャート、第5図a、
bは本考案と従来のプラズマ処理装置を用いて処理した
実験結果を示す図である。 第1図において、1・・・・・・プラズマ処理槽、2・
・・・・・ジャワ管、3・・・・・・発生炉、4・・・
・・・プラズマ導入口、5−、〜。・・・・・・排気口
、7・・・・・・被処理物、8・・・・・・被処理物支
持台、9・・・・・・反応室。
Claims (1)
- プラズマ反応室内で被処理物の表面に/ラズマを照射し
て処理する装置において、円筒型反応室内部にプラズマ
を導入するように反応室円筒壁部にプラズマ導入口を設
け、該導入口と対向する反応室壁部の位置からO〜90
°回転移動した範囲内の反応室長手方向壁部の任意の位
置に、反応室内部減圧用の排気口を複数個設置し、これ
らの排気口を同時にあるいは互いに時間的にずらせて間
けつ動作させるようにしたことを特徴とするプラズマ処
理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12160982U JPS5928535U (ja) | 1982-08-12 | 1982-08-12 | プラズマ処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12160982U JPS5928535U (ja) | 1982-08-12 | 1982-08-12 | プラズマ処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5928535U true JPS5928535U (ja) | 1984-02-22 |
| JPS629302Y2 JPS629302Y2 (ja) | 1987-03-04 |
Family
ID=30278261
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12160982U Granted JPS5928535U (ja) | 1982-08-12 | 1982-08-12 | プラズマ処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5928535U (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61180140U (ja) * | 1985-04-30 | 1986-11-10 |
-
1982
- 1982-08-12 JP JP12160982U patent/JPS5928535U/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61180140U (ja) * | 1985-04-30 | 1986-11-10 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS629302Y2 (ja) | 1987-03-04 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| SE8505616D0 (sv) | Ventilationsanleggning | |
| JPS60140764U (ja) | プラズマ処理装置 | |
| JPS6013960U (ja) | プラズマ処理装置 | |
| JPS5820898U (ja) | 乾燥装置 | |
| JPH0165854U (ja) | ||
| JPS59100852U (ja) | 筒状体のイオン窒化処理装置 | |
| JPS6057125U (ja) | 半導体気相成長装置 | |
| JPS5379121A (en) | Egr device | |
| JPS6031331U (ja) | 対流かく拌装置 | |
| JPS5583525A (en) | Reaming maching for cylindrical body | |
| JPS5814947U (ja) | ドラフト・チャンバ−装置 | |
| JPS5897163U (ja) | スパツタ装置 | |
| JPS59132738U (ja) | 微小ワ−クの吸引チヤツク装置 | |
| JPS60115529U (ja) | 排気ガスの処理装置 | |
| JPS6291433U (ja) | ||
| JPS58155508U (ja) | 電子レンジ | |
| JPS5950440U (ja) | マイクロ波プラズマ処理装置 | |
| JPS5834956U (ja) | 真空蒸着における排気装置 | |
| JPS6312152U (ja) | ||
| JPS5834957U (ja) | 真空蒸着装置 | |
| JPS59121657U (ja) | 現像装置 | |
| JPS5926238U (ja) | Cvd装置 | |
| JPS6449675U (ja) | ||
| JPS5993627U (ja) | 乾式排ガス処理装置 | |
| JPS613375U (ja) | 吸収冷凍機の不凝縮ガス排出装置 |