JPS5928563U - イオン注入装置 - Google Patents
イオン注入装置Info
- Publication number
- JPS5928563U JPS5928563U JP12355082U JP12355082U JPS5928563U JP S5928563 U JPS5928563 U JP S5928563U JP 12355082 U JP12355082 U JP 12355082U JP 12355082 U JP12355082 U JP 12355082U JP S5928563 U JPS5928563 U JP S5928563U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ion
- section
- chamber
- beam line
- ion implanter
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 claims 1
- 238000002513 implantation Methods 0.000 claims 1
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 claims 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 claims 1
- 238000004949 mass spectrometry Methods 0.000 claims 1
Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第1図はこの考案の実施例縦断面図、第2図は同横断面
図である。 1・・・ターゲットチャンバ、2・・・ビームラインチ
ャンバ、3・・・ベローズ(可撓管)。
図である。 1・・・ターゲットチャンバ、2・・・ビームラインチ
ャンバ、3・・・ベローズ(可撓管)。
Claims (1)
- イオン生成部、質量分析部、加速部、走査系およびウェ
ハ処理部等とから構成されるイオン注入装置において、
走査系を構成するビームラインチャンバとウェーハ処理
部を構成するターゲットチャンバとを可撓管により連接
するとともに、ターゲットチャンバをビームラインチャ
ンバに対シて俯仰自在に設け、ビームラインチャンバ内
からのイオンビームがターゲットチャンバ内のウェーハ
に角度自在に注入できるように構成してなるイオン注入
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12355082U JPS5928563U (ja) | 1982-08-12 | 1982-08-12 | イオン注入装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12355082U JPS5928563U (ja) | 1982-08-12 | 1982-08-12 | イオン注入装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5928563U true JPS5928563U (ja) | 1984-02-22 |
Family
ID=30281987
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12355082U Pending JPS5928563U (ja) | 1982-08-12 | 1982-08-12 | イオン注入装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5928563U (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0252680U (ja) * | 1988-10-07 | 1990-04-16 |
-
1982
- 1982-08-12 JP JP12355082U patent/JPS5928563U/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0252680U (ja) * | 1988-10-07 | 1990-04-16 |
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