JPS5928571A - 蒸着装置 - Google Patents
蒸着装置Info
- Publication number
- JPS5928571A JPS5928571A JP13789182A JP13789182A JPS5928571A JP S5928571 A JPS5928571 A JP S5928571A JP 13789182 A JP13789182 A JP 13789182A JP 13789182 A JP13789182 A JP 13789182A JP S5928571 A JPS5928571 A JP S5928571A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vapor deposition
- vacuum chamber
- observation
- deposition apparatus
- reflective
- Prior art date
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- Pending
Links
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- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 3
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 5
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- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
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- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 4
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- 238000005019 vapor deposition process Methods 0.000 description 2
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/52—Means for observation of the coating process
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
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- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
観察用の反射、幌を回動可能に構成しておくことにより
、真空槽内を観察する必要のある場合のみ反射鏡を所定
角度に回動保持し、その他の場合には蒸着物質が反射鏡
の反射面に蒸着しく（＜いような回動角度に保持してお
けば、真空槽内の観察が効果的に行なえるようになり、
すなわち蒸着作業中に蒸着物質が反射鏡の鏡面に付着し
にくいものであるので、反射鏡が使用不能になるといっ
たことが極めて少ないものとなり、極めて便利なものと
なる蒸着装置を提供することを目的とする。
、真空槽内を観察する必要のある場合のみ反射鏡を所定
角度に回動保持し、その他の場合には蒸着物質が反射鏡
の反射面に蒸着しく（＜いような回動角度に保持してお
けば、真空槽内の観察が効果的に行なえるようになり、
すなわち蒸着作業中に蒸着物質が反射鏡の鏡面に付着し
にくいものであるので、反射鏡が使用不能になるといっ
たことが極めて少ないものとなり、極めて便利なものと
なる蒸着装置を提供することを目的とする。
例えば磁気記録媒体の製造に際しては、支持体上に大量
の磁性材料、非磁性材料等を連続蒸着によって短時間の
うちに真空蒸着させることがしばしば用いられるように
なっている。
の磁性材料、非磁性材料等を連続蒸着によって短時間の
うちに真空蒸着させることがしばしば用いられるように
なっている。
しかし、従来の蒸着装置では、その真空槽内の視察を行
なうに際しては、覗窓より固定された反射鏡を介して行
なっているのであるが、蒸着作業中に反射鏡の反射面に
も蒸着源の物質が蒸着してしまい、蒸着作業開始より短
時間のうちに反射鏡の鏡面反射面が正常な反射不能なも
のとなり、内部観察を行なえないものとなってしまう。
なうに際しては、覗窓より固定された反射鏡を介して行
なっているのであるが、蒸着作業中に反射鏡の反射面に
も蒸着源の物質が蒸着してしまい、蒸着作業開始より短
時間のうちに反射鏡の鏡面反射面が正常な反射不能なも
のとなり、内部観察を行なえないものとなってしまう。
本発明は上記欠点を除去したものであり、以下その実施
例について説明する。
例について説明する。
図面は、本発明に係る蒸着装置の概略説明図である。
同図中、１は蒸着装置の真空槽、２Ｉ−ｉ真空ポンプ、
３は蒸着源物質が置かれるるつぼ、４は磁性材料又は非
磁性材料等の蒸着源物質、５は蒸着源物質からの 一
蒸発物質が蒸着する基板であり、これらの構成
は従来の蒸着装置において蒸着が行なわれるものと同じ
である。
３は蒸着源物質が置かれるるつぼ、４は磁性材料又は非
磁性材料等の蒸着源物質、５は蒸着源物質からの 一
蒸発物質が蒸着する基板であり、これらの構成
は従来の蒸着装置において蒸着が行なわれるものと同じ
である。
６，７．８は、真空槽内の所定の位置に内部観察用の為
（Ｃ設けられた反射鏡であり、この反射鏡６，７゜８け
、その回動軸９，１０．ＩＩを中心として矢印方向に回
動可能なように取り付けられており、その回動及び所定
の回動角度位置での保持は真空槽外からの作業によって
簡単に行なえるように構成されている。
（Ｃ設けられた反射鏡であり、この反射鏡６，７゜８け
、その回動軸９，１０．ＩＩを中心として矢印方向に回
動可能なように取り付けられており、その回動及び所定
の回動角度位置での保持は真空槽外からの作業によって
簡単に行なえるように構成されている。
１２は覗窓、１３は覗窓コ２に蒸着が行なわれないよう
にする為の遮蔽板であり、この遮蔽板１３の代りに、例
えばシャッターが覗窓１２の内側に設けられているもの
でもよい。
にする為の遮蔽板であり、この遮蔽板１３の代りに、例
えばシャッターが覗窓１２の内側に設けられているもの
でもよい。
上記のように蒸着装置が構成されていると、蒸着作業中
において、例えば蒸着源物質の部分を観察するには、反
射４７及び８を所定の角度に回動保持し、覗窓部分より
反射鏡７，８の鏡面を介して観察すればよく（図面中、
点線矢印で示すように光が進んで観察。従って矢印で反
射する側が鏡面）父、基板にどのように蒸着しているか
を観察するには、反射鏡６，７．８を所定の角度に回動
保持しておけば観察できるものとなる。
において、例えば蒸着源物質の部分を観察するには、反
射４７及び８を所定の角度に回動保持し、覗窓部分より
反射鏡７，８の鏡面を介して観察すればよく（図面中、
点線矢印で示すように光が進んで観察。従って矢印で反
射する側が鏡面）父、基板にどのように蒸着しているか
を観察するには、反射鏡６，７．８を所定の角度に回動
保持しておけば観察できるものとなる。
そして、真空槽内の観察を必要としない蒸着作業中にお
いては、蒸着源物質からの蒸発１勿質か反射鏡６，７．
８の鏡面反射面に蒸着しにくいあるいばしないよっな回
動角度位置に保持しておけば、蒸着作業中に反射鏡の鏡
面反射面が損なわれることはなく、従って真空槽内の観
察を効果的に行なえるものとなる。
いては、蒸着源物質からの蒸発１勿質か反射鏡６，７．
８の鏡面反射面に蒸着しにくいあるいばしないよっな回
動角度位置に保持しておけば、蒸着作業中に反射鏡の鏡
面反射面が損なわれることはなく、従って真空槽内の観
察を効果的に行なえるものとなる。
尚、蒸着作業中に観察を行なう場合には、用いている反
射鏡の鏡面反射面に蒸着源物質が少し蒸着する恐れはあ
るが、観察は短時間のものであり、反射鏡の鏡面反射面
が損なわれる程のものではない。
射鏡の鏡面反射面に蒸着源物質が少し蒸着する恐れはあ
るが、観察は短時間のものであり、反射鏡の鏡面反射面
が損なわれる程のものではない。
上述の如く、本発明に係る蒸着装＃は、蒸着装置の真空
槽内に配設された反射鏡を回動可能に構成し、必要に応
じて反射鏡を回動し、回動された反射鏡及び覗窓を通し
て真空槽内を観察できるようにしたので、蒸着作業中に
内部観察用の反射鏡の反射面に蒸着源物質の蒸も物質が
蒸着することなく、反射面が損なわれてしまうといった
ことがなくなり、すなわち内部観察の必要がない場合に
は反射鏡の反射面に蒸着がほとんどないような角度位装
置（保持しておけばよく、内部観察の必要がある場合の
み反射鏡の反射面を所定の角度位置に保持すればよく、
真空槽内の観察が効果的に行なえるものとなり、父、従
来の蒸着装置の構成変更はほとんど要らず、極めて低コ
ストで実施できる等の特長を有する。
槽内に配設された反射鏡を回動可能に構成し、必要に応
じて反射鏡を回動し、回動された反射鏡及び覗窓を通し
て真空槽内を観察できるようにしたので、蒸着作業中に
内部観察用の反射鏡の反射面に蒸着源物質の蒸も物質が
蒸着することなく、反射面が損なわれてしまうといった
ことがなくなり、すなわち内部観察の必要がない場合に
は反射鏡の反射面に蒸着がほとんどないような角度位装
置（保持しておけばよく、内部観察の必要がある場合の
み反射鏡の反射面を所定の角度位置に保持すればよく、
真空槽内の観察が効果的に行なえるものとなり、父、従
来の蒸着装置の構成変更はほとんど要らず、極めて低コ
ストで実施できる等の特長を有する。
図面は、本発明に係る蒸着装置の１実施例の概；略説明
図である。 ｊ７．８・・・反射鏡、 ９，１０．１１・・・回動軸
、１２・・・覗窓
図である。 ｊ７．８・・・反射鏡、 ９，１０．１１・・・回動軸
、１２・・・覗窓
Claims (1)
- 蒸着装置の真空槽内に配設された反射鏡を回動可能に構
成し、必要に応じて反射鏡を回動し、回 １動された
反射鏡及び覗窓を通して真空槽内を観察 ′できるよ
うにしたことを特徴とする蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13789182A JPS5928571A (ja) | 1982-08-10 | 1982-08-10 | 蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13789182A JPS5928571A (ja) | 1982-08-10 | 1982-08-10 | 蒸着装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5928571A true JPS5928571A (ja) | 1984-02-15 |
Family
ID=15209088
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13789182A Pending JPS5928571A (ja) | 1982-08-10 | 1982-08-10 | 蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5928571A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4949144B1 (ja) * | 1970-08-12 | 1974-12-25 |
-
1982
- 1982-08-10 JP JP13789182A patent/JPS5928571A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4949144B1 (ja) * | 1970-08-12 | 1974-12-25 |
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