JPS5930842A - 安定化ポリオレフイン樹脂組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は光に対して優れた安定性を有するポリオレフィ
ン樹脂組成物に関する。

ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン樹
脂は優れた物理的、化学的、電気的性質を有しているた
め、吹込成形、押出成形、射出成形またはカレンダー加
工などの各種の方法により成形品、パイプ、シート、フ
ィルムなどに加工され、多くの分野で使用されている。

しかし、このようなポリオレフィン樹脂は光の作用によ
り劣化し、軟化、脆化または変色などの現象を伴ってそ
の物性か著しく低下することもよく知られている。

このような光による劣化を防止する目的で、従来より各
種の光安定剤、たとえば２−ヒドロキシ−４−メトキシ
ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシ
ベンゾフェノン、２（２−ヒドロキシ−５−メチルフェ
ニル）ベンゾトリアゾール、２（２−ヒドロキシ−３−
ｔ−ブチル−５−メチルフェニルシー５−クロロ−ベン
ゾトリアゾール、　２（２−ヒドロキシ−８，５−ジペ
ンチルフェニル：ベンゾトリアゾール、エチル−２−シ
アノ−３，３−ジフェニルアクリレート、２．４−ジー
ｔ−ブチルフェニル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒ
ドロキメ迄ンゾエート、〔２゜２’　−ｆ−；ｔビス（
４−【−オクチルフェノラド））−ｎ−ブチルアミン・
ニラゲル（ロ）、ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−
ヒドロキシベンジルホスホリックアシド）モノエチルエ
ステルのニッケル塩、４−ベンゾイルオキシ−２＋　２
　＋　６　、６−チトラメチルピペリジンなどを配合す
ることもよく知られているが、これらの光安定剤は耐光
性の点でまだ充分満足すべきものではない。

本発明者らはこれらの点に解決を与えるべく種々検討し
た結果、特定のヒンダード型ピペリジン系化合物とホス
ファイト系化合物との特定割合からなる組み合せにおい
ては従来：　　の組み合せ技術からはとうてい予測でき
な０極めてすぐれた耐光性が得られることを見出）　　
し、本発明に至った。

すなわち本発明は、ポリオレフィン樹脂に下記一般式（
Ｉｌで示されるヒンダード型ピペリジン系化合物（Ｉ）
と下記一般式（［ｌ−１）および（［１−２）で示され
る化合物から選ばれる少なくとも１種のホスファイト系
化合物（［Ｉ）とを、＋Ｉｌ　：　（ロ）＝１：０．２
〜１０（重量比）の割合で配合してなる安定化ポリオレ
フィン樹脂組成物ｔＪＬ楳す々−’ｔｔのｔ−；／）ｈ
。

（式中、ｌ（Ｉ　は炭素数２〜８のアルキレン基または
炭素数５〜６のシクロアルキレン基を表わし、Ｒ２およ
びに、は各々炭素数【〜８のアルキル基を表わし、Ｒ４
は水素原子、ヒドロキシル基、炭素数１〜８のアルコキ
シル基または炭素数１〜８のアシロキシ基を表わし、Ｒ
１１は炭素数１〜８のアルキル基または炭素数５〜６の
シクロアルキル基を表わし、ｎは４〜１０の整数を表わ
す。） １ ｓ （式中、Ｒ，、Ｒ７、Ｒ，は水素原子または炭素数１〜
９のアルキル基を示す。但し、ｋ、とＲ８がともに分岐
アルキル基であることはない。） （式中、ｋ、は炭素数８〜１８のアルキル基または炭素
数６〜１５のアリール基を示す。） 本発明に用いられる上記一般式（Ｉ）で示されるヒンダ
ード型ピペリジン系化合物（こおいて、置換基Ｒ１〜Ｒ
５の意味は先に述べたとおりであるが、好ましくはに１
は炭素数２〜４のアルキレン基であり、Ｒ２およびに３
は炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｒ４は水素原子、
ヒドロキシル基であり、Ｒ５は炭素数１〜８のアルキル
基であり、ｎは約６〜８の整数である。さらに好ましく
は、ｋｌはエチレン基であり、Ｒ２およびｋｌｌはメチ
ル基であり、Ｒ４はヒドロキシル基であり、ＲＦ、はメ
チル基である。かかるヒンダード型ピペリジン系化合物
としては などが例示される。

このようなヒンダード型ピペリジン系化合物は一般式 （式中、Ｒ，、％、Ｒ，は前記と同じ意味を有する。） で示されるエステル化合物を、たとえば米国特許第４．
２６５．８　’０５号明細書に記載されるような公知の
方法により、高温、重合触媒存在下で縮合重合すること
によって容易に製造することができる。

また、本発明に用いる前記一般式（［１−ｔ）および（
ロー２）で示されるホスファイト系化合物は、ポリオレ
フィン業界で主として着色防止剤として使用されている
ような種々の有機ホスファイト系化合物であるが、これ
らの代表例としてはトリフェニル−ホスファイト、トリ
スノニルフェニル−ホスファイト、トリー（２−１−ブ
チルフェニル）ホスファイト、トリー（２−【−ブチル
−４−メチルフェニル）ホスファイト、トリ（２＋４−
シーｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリー（２，
４−ジー【−ブチル−５−メチルフェニル）ホスファイ
ト、ジオクチル−ペンタエリスリトール−ジホスファイ
ト、ジノニル−ペンタエリスリトール−ジホスファイト
、ジラウリル−ペンタエリスリトール−ジホスファイト
、シミリスチル−ペンタエリスリトール−ジホスファイ
ト、ジステアリルーヘンタエリスリトールージホスファ
イト、ジー（メチルフェニル）−ペンタエリスリトール
−ジホスファイト、’）−（ブチルフェニル）−ペンタ
エリスリトール−ジホスファイト、ジー（オクチルフェ
ニル）−ペンタエリスリトール−ジホスファイト、ジー
（ノニルフェニノリーペンタエリスリトールージホスフ
ァイトなどが挙げられ、これらの単独もしくは２種以上
が用いられる。

本発明において、ヒンダード型ピペリジン系化合物（Ｉ
）とホスファイト系化合物（山の割合は、重量比で（Ｉ
）　：　ｆ［Ｉ）＝　ｌ：　０．２〜１０好ましくはｌ
：０．５〜５である。

ここで化合物（［Ｉ）が化合物（Ｉｌｆこ対して０．２
重量倍未満では目的とする効果が十分に得られ雛く、ま
た化合物（川が１０重量倍を越えてもそれに見合うだけ
の効果が得難く、経済的にも不利となる。

本発明の安定化ポリオレフィン樹脂組成物は、ポリオレ
フィン樹脂に上記割合の前記化合物（Ｉｌおよび（ロ）
を配合してなるものであるが、その配合址は化合物ｆｉ
ｌおよび（ロ）の合計量として、ポリオレフィン樹脂ｉ
ｏｏ直量部あたり通常０．０１〜５重量部、好ましくは
０．１〜１亀屋部である。

化合物はｌ　、　（１１をポリオレフィン樹脂に配合す
る方法としては、ポリオレフィン！　脂中に安定剤、顔
料、充てん剤等を混和配合する従来より公知の装置およ
び操作法をそのまま適用することができる。

本発明のポリオレフィン樹脂組成物には他の添加剤、た
とえば酸化防止剤、光安定剤、金属不活性化剤、金属石
けん類、造核剤、滑剤、帯電防止剤、難燃剤、顔料およ
び充填剤などを含有してもよい。

とりわけフェノール系酸化防止剤を添加することによっ
て熱および酸化安定性を改善することができる。これら
のフェノール系酸化防止剤としては、例えば２．６−ジ
ー（−ブチル−４−メチルフェノール、ｎ−オクタデシ
ル−β−（３，５−ジー（−ブチル−４−ヒドロキシフ
ェニル）プロピオネート、ｌ。

ｔ　、　８−）リス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５
−ｔ−７’チルフエニル）ブタン、ｌ１８　　、　５−
１　　リ　メ　チ　ル　−２，４，６−ト　リ　ス（８
゜５−ジーｔ−−ｉチルー４−ヒドロキシベンジル）ベ
ンゼン、１．８．５−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル
−４−ヒドロキシベンジル）インシアヌレート、１．８
．５−）リス〔β−（８，５−ジー【−ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）プロピオ岑ルオキシエチル〕インシ
アヌレート、ｌ　、　８　、５−）リス（２，６−ジ−
メチル−８−ヒドロキシ−４−ｔ−ブチルベンジル）イ
ンシアヌレート、テトラキス−〔メチレン−８−（８，
５−ジー【−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピ
オネートコメタンなどがあげられる。

また、本発明のポリオレフィン樹脂組成物に、イオウ系
酸化防止剤を添加することもできる。これらのイオウ系
酸化防止剤としては一ルーテトラキス（β−へキシルチ
オプロピオネート）、ペンタエリスリトール−テトラキ
ス（β−ドデシルチオプロピオネート）、ペンタエリス
リトール−テトラキス（β−オクタデシルチオプロピオ
ネート）などが例示される。

本発明により安定化されるポリオレフィン樹脂としては
、低密度ポリエチレン、中高密度ポリエチレン、リニヤ
−低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン−
１などのポリα−オレフィン、プロピレン−エチレンラ
ンダムまたはブロック共重合体、エチレン−ブテン−１
ランダム共重合体などのポリα−オレフィン共重合体、
無水マレイン酸変性ポリプロピレンなどのポリα−オレ
フィンとビニルモノマーの共重合体およびこれらの混、
　　合物が例示されるが、この中で特（こポリプロピレ
ンに対して有効である。

次に実施例を挙げて本発明の詳細な説明するが、本発明
はこれにより限定されるものではない。

実施例１ 下記配合物をミキサーで５分間混和した後、１８０℃ミ
キシングロールで溶融混練する。得られたコンパウンド
を２１０℃の熱プレスで厚さｌａｗのシートに成形し、
１５０Ｘ８０Ｘｌｆｌの試験片を作成した。

この試験片をサンシャインウェーザーメーター（光源：
カーボンアーク、ブラックパネル温度：８８十８℃、ス
プレー周期：１２０分、スプレ一時間＝１８分）中で光
照射させ、６０時間毎にエビ状に折り曲げ、折れ切れる
までの時間を測定し、耐光性を評価した。その結果を表
−２に示す。

く配合〉 未安定化ポリプロピレン　　　　　　１００．ｍステア
リン酸カルシウム　　　　　　　０．１２．６−ジー【
−ブチル−４− メチルフェノール　　０．２ 供試化合物　　　　　　　　　表−２に記載なお、表−
２における供試化合物において、記号Ｉ−ｒ〜Ｉ−５は
表−Ｉｆこ示すヒンダード型ピペリジン系化合物を示し
、その他は下記のとおりである。

■−６４−ベンゾイルオキシ−２，２゜６．６−チトラ
メチルピペリジン Ｉ−７キマソーブ９４４（キモサ社品、ヒンダード型ピ
ペリジン系光安定 剤） Ｉ−８ホスタヒ：／ＴＭ　　Ｎ−２０（ヘ−１−スト社
品、ヒンダード型ピヘリシ ン系光安定剤） ＩＩ−１トリフェニル−ボスファイト ［Ｉ−２トＩＪスノニルフェニルーホスフ１イト ロー３　トリー（２−Ｌ−ブチル−４−メチルフヱニル
）ホスファイト ［１−４トリー（２，４−ジー【−ブチルフェニル）ホ
スファイト ［１−５ジノニル−ペンタエリスリトール−ジホスファ
イト ［Ｉ−６ジステアリル−ペンタエリスリトール−ジホス
ファイト ［１−７’ジフェニル−ペンタエリスリトール−ジホス
ファイト ロー８　　ジー（ノニルフェニル）−ペンタエリスリト
ールージホスファイト

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１１ポリオレフィン樹脂に、下記一般式（Ｉｌで示さ
   れるヒンダード型ピペリジン系化合物［Ｉ）と下記一般
   式（ローｌ）および（ロー２）で示される化合物から選
   ばれる少なくとも１種のホスファイト系化合物（［［）
   とを、（Ｉｔ　：　（［ｌ＝　ｌ：０、２〜１０（重量
   比）の割合で配合してなる安定化ポリオレフィン樹脂組
   成物。 （式中、Ｒ１は炭素数２〜８のアルキレン基または炭素
   数５〜６のシクロアルキレン基を表わし、ｋ２およびに
   ３は各々炭素数１〜８のアルキル基を表わし、Ｒ４は水
   素原子、ヒドロキシル基、炭素数１〜８のアルコキシル
   基または炭素数１〜８のアシロキシ基を表わし、Ｒ５は
   炭素数１〜８のアルキル基または炭素数５〜６のシクロ
   アルキル基を表わし、ｎは４〜１０の整数を表わす。） へ （式中、Ｒ，、Ｒ，、Ｒ，は水素原子または炭素数１〜
   ９のアルキル基を示す。但し、Ｒ７とＲ８がともに分岐
   アルキル基であることはない。） （式中、Ｒ９は炭素数８〜１８のアルキル基または炭素
   数６〜１５のアリール基を示す。） （２）　　ポリオレフィン樹脂がポリプロピレンである
   特許請求の範囲第１項に記載の安定化ポリオレフィン樹
   脂組成物。 （８）　　一般式（Ｉ）で示されるヒンダード型ピペリ
   ジン系化合物において、置換基Ｒ１が炭素数２〜４のア
   ルキレン基、Ｒ２およびＲ３がメチル基、Ｒ４が水素原
   子またはヒドロキシル基、Ｒ６が炭素数１〜３のアルキ
   ル基であって、ｎが６〜８の整数である特許請求の範囲
   ＄１〜第２項に記載の安定化ポリオレフィン樹脂組成物
   。 （４）　　ヒンダード型ピペリジン系化合物において、
   置換基Ｒ１がエチレン基、”２およびに１がメチル基、
   Ｒ４がヒドロキシル基、Ｒ６がメチル基である特許請求
   の範囲第８項に記載の安定化ポリオレフィン樹脂組成物
   。 （５）　　ホスファイト系化合物がトリー（２，４−ジ
   ーｔ−プチルフヱニル）ホスファイトである特許請求の
   範囲第１〜第４項に記載のポリオレフィン樹脂組成物。 （６）　　ホスファイト系化合物がジステアリル−ヘン
   タエリスリトールージホスファイトである特許請求の範
   囲第１〜第４項に記載のポリオレフィン樹脂組成物。