JPS5932942A - 冷凍機の水素除去剤 - Google Patents

冷凍機の水素除去剤

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Publication number
JPS5932942A
JPS5932942A JP57143412A JP14341282A JPS5932942A JP S5932942 A JPS5932942 A JP S5932942A JP 57143412 A JP57143412 A JP 57143412A JP 14341282 A JP14341282 A JP 14341282A JP S5932942 A JPS5932942 A JP S5932942A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
hydrogen
copper
alumina
removing agent
impregnated
Prior art date
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Pending
Application number
JP57143412A
Other languages
English (en)
Inventor
Heihachiro Midorikawa
緑川 平八郎
Masahiko Ito
雅彦 伊藤
Akira Minato
湊 昭
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
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Pending legal-status Critical Current

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  • Gas Separation By Absorption (AREA)
  • Solid-Sorbent Or Filter-Aiding Compositions (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明り吸収冷式凍機に係シ、特に冷凍機内で発生する
水素を除去するのに好適な水素除去剤に関する。
吸収式冷凍機は腐食性の強い濃厚臭化リチウム水溶液を
用い、しかも高温で運転されるため、構成材料の腐食が
問題になる。このためインヒビタを吸収液に添加して腐
食防止を図っているが、腐食を完全に防止することは事
実上無理である。したがって減圧状態で作動する冷凍様
は腐食によシ生ずる水素が蓄積されると機内圧力が上昇
して性能が低下する。b’を来、水素の除去剤には金属
パラジウムがあるが、薄膜であるために水素の除去能力
が小さく、徒だ高価であZl。−そこで、先に本光明者
らが金へ酸化物を用いる方法を提案しlζ。この方法は
非常に高い水素除去効率が得られン)。しかし、金M1
!Iil!化物はベレットあるいは線状であるため充填
密度が小さく金属酸化つJ、水素(1)接触を十分大義
くすることが実用上重要な問題てあつf(、。
水素の除去反応においては、水素と金FA酸化物との接
触が重要であシ、そのためにl・ま水素除去剤の表面積
を大きくして充填密度を大きくする必要があった。
本発明の目的は上記した従来技術の間儒点を解消し、水
素除去効率の尚い吸収式0眞を繊用水素除去剤を提供す
る仁とにある。
本発明は上フホした目的を達成ず、6ため、水素と反応
させる酸化銅の表面積を大きくシ、水−にとの接触率を
高める手段と1.7で、多孔質の球状アルミナに酸化銅
全充填することを/r¥c”t 、!、 t、六−水素
除去剤である。酸化鋼を充填する手段としてしLf同イ
オンを含む水溶液に多孔質球状アルミナを浸漬E7て、
銅イオンを含浸し、これ全高温で酸化しても良いし、あ
るいは化学銅めっき液の如く還元剤を用いて多孔質球状
゛アルミナの表UIij及び孔内部に直接銅めっきし、
これを鑞化1−1ても良い。
以下、本発明の実施例を図面を参照して説明する。
〔実施例1〕 第1図に水素除去剤の断面図、第2図に酸化銅(CLl
 O)の生成率を示す。本発明によれば、直径2mで気
孔率35%の球状アルミナ1を濃度5%の硝酸銅溶液中
に1時間浸漬し、アルミナ1中理すると500C以」二
で銅は100%酸化され酸化銅になる。この酸化銅ti
有するアルミナ全水素除去剤とする。第3図に水素ガス
除去反LPi装置の断面図を示す。反応管3に本発明で
得られた水素除ノQ剤4を充填した場合の充填密度tま
70%で従来の酸化銅のベレットおよび線状での充填率
はせいぜい53%であるのに対し充填密度が大きくなる
ので水素との接触率が高nる、反応管3 i−j、全体
なヒータ5で加熱[2、水素除去7i11り30OUに
加熱する。この反応管3に水素ガスを連続(2でMl。
入させることに、しり、0峠(畿内への水牙ガスの蝋・
積を防止でさる。この水素除去削台、・充填しfr、反
応管を冷凍谷it 100冷凍トンのガス使丁ニー4f
jり+l用吸収式冷凍機の凝縮器と抽気タンクσ)間の
抽気’G<に接続し、全負荷で連続1・11転[また1
、る右詰の/こめ、反応管出口からザンプリングし7た
ガス4ガスク「コマトグラフイにより分析したが水素(
・、1.全く検11.1されなかつ/こ。
〔実施例2〕 実施例1と同様な処理力法に」′り冑らiまた直1f2
朋で気孔率60%の球状アルミナの水素除去剤を充填し
た反応管を100冷凍[ンの冷凍+7<に接続し、て連
続運転し、反応管用1コからザングリングしたガスをガ
スクロマトグラフィで分析したが水素は全く検出されな
かった、 上記の例から明らかなようにアルミナに酸化([・〕を
含有させた水素除去剤により、完全に冷凍機内で発生す
る水素ガスが除去できる。
以上のように本発明によれば、多孔質の球状アルミナに
銅を含浸[7、これを酸化して水素除去剤とすれば、吸
収式冷凍機内で発生する水素を高効率、高信頼性で水に
して除去でき、冷凍<;’eの性能糺持ができべ)。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例のアルミナに酸化銅を含浸さ
せた時の断面図、第2図は同じくアルミナに含反させた
銅を酸化した場合のrP、化銅生成率を示すH図、第3
図は同じく水素ガス除去装置唯の断面図である 1・・・球状アルミナ、2・・・銅、3・・・反応’(
−7,4・・・水第1区 $2屑 スLIT遅贋(°G)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、密閉形循環式冷凍機において、機内で発生する水素
    ガス除去するため、水素除去剤として金属酸化物を用い
    る方法において、球状アルミナに金R6R化物を含浸形
    成することを特徴とする冷凍機水素除去剤。
JP57143412A 1982-08-20 1982-08-20 冷凍機の水素除去剤 Pending JPS5932942A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6317367A (ja) * 1986-07-10 1988-01-25 矢崎総業株式会社 吸収冷凍機の水素除去装置
EP1120613A3 (en) * 2000-01-25 2001-12-05 Honda Giken Kogyo Kabushiki Kaisha Absorption type refrigerating apparatus
CN102814146A (zh) * 2012-08-02 2012-12-12 上海交通大学 用于高真空多层绝热低温容器中的高效除氢装置

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