JPS5933185B2 - 化学銅めつき液 - Google Patents

化学銅めつき液

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JPS5933185B2
JPS5933185B2 JP3887480A JP3887480A JPS5933185B2 JP S5933185 B2 JPS5933185 B2 JP S5933185B2 JP 3887480 A JP3887480 A JP 3887480A JP 3887480 A JP3887480 A JP 3887480A JP S5933185 B2 JPS5933185 B2 JP S5933185B2
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JP
Japan
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copper plating
chemical copper
plating solution
chemical
nonionic surfactant
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Expired
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JP3887480A
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JPS56136969A (en
Inventor
邦弘 五十里
修 佐々木
俊樹 雀部
一広 武田
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Toshiba Corp
Original Assignee
Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
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Publication date
Application filed by Tokyo Shibaura Electric Co Ltd filed Critical Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は化学銅めつき液、特に機械的特性にすぐれため
つき皮膜を与え得る化学銅めつき液に関する。
化学銅めつき液は通常たとえば硫酸銅、塩化第2銅など
の銅塩、エチレンジアミン四酢酸、N、N、N、N’−
テトラキスー(2−ヒドロキシプロピル)一エチレンジ
アミンなどのような錯化剤、ホルムアルデヒドなどのよ
うな還元剤および水酸化ナトリウムなどのpH調整剤な
どを含むが、これらのみでなる化学銅めつき液から得ら
れるめつき皮膜は一般に脆く、実用に供するには機械的
特性とくに延展性が不足している。
例えば、印刷配線板の導通回路部を化学銅めつきによつ
て形成するいわゆるアディティブ法印刷配線板の製造に
おいては、印刷配線板の加工や環境変化による熱的応力
や物理的衝撃に起因して回路断線を生じ易い。上記欠点
を改良するために、銅塩、錯化剤、還元剤、pH調整剤
からなる化学銅めつき液にジピリジル類、フエナントロ
リン類あるいは水溶性シアン化合物をさらに添加するこ
とによつて、化学銅めつき皮膜の延展性の向上を図るこ
とが試みられている。しかしながら、上記ジピリジル類
などの添加によつても、化学銅めつき皮膜の延展性の向
上はわずかであり、たとえば印刷配線板の導通回路を形
成する銅皮膜として実用に供し得るに足る機械的特性を
有するめつき皮膜は尚得られない。本発明は、このよう
な点を考慮し、機械的特性、とくに延展性にすぐれため
つき皮膜を与える化学銅めつき液を提供することを目的
とする。本発明の特徴は、銅塩、錯化剤、還元剤および
pH調整剤を含有する化学銅めつき液あるいは銅塩、錯
化剤、還元剤およびpH調整剤の他、2、2′−ジピリ
ジルもしくはその誘導体、1,10フエナントロリンも
しくはその誘導体、水溶性シアン化合物のうちの1種以
上を含有する化学銅めつき液にフエノール樹脂のポリオ
キシエチレン誘導体からなる非イオン界面活性剤を特に
添加配合したものである。
本発明において、フエノール樹脂のポリオキシエチレン
誘導体系非イオン界面活性剤を添加配合する銅塩一錯化
剤一還元剤−PH調整剤系化学銅めつき液は例えば次の
ような組成のものである。
本発明においてベースとなる化学銅めつき液は上記の如
く銅塩一錯化剤一還元剤−PH調整剤の四成分系のみで
もよいが2,2′−ジピリジルもしくはその誘導体、1
,10−フエナントリロンもしくはその誘導体、水溶性
シアン化合物などをさらに添加配合したものでもよい。
尚上記水溶性シアン化合物としては例えばシアン化ナト
リウム、シアン化カリウム、ニトロプルシツドナトリウ
ム塩、ニツケルシアン化カリウム、フエロシアン化カリ
ウム、フエリシアン化カリウムなどが挙げられ、これら
の添加配合量は2W19〜39/l好ましくは0.5W
19〜19程度がよい。
本発明において、化学銅めつき液に特に添加配合するフ
エノール樹脂のポリオキシエチレン誘導体からなる非イ
オン界面活性剤は、例えばフエノール誘導体とフオルマ
リンとの重縮合体フエノール誘導体とフルフリルアルコ
ールの共縮合体、ポリアルキレンポリフエノール縮合体
などのフエノール性水酸基にエチレングリコールもしく
はポリオキシエチレングリコールを適宜エーテル化反応
させることによつて得られる。しかしてこのような非イ
オン界面活性剤は例えば次の一般式(但し式中R,,R
2は水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリル
基、アラルキル基、1,m,nは1以上の整数を示す)
で示されるものである。
しかしてこの非イオン界面活性剤は1種もしくは2種以
上の混合系で用いてもよく、またその添加配合量は化学
銅めつき液11当り0.1〜2.09程度で充分である
。次に本発明を具体例をもつて説明する。硫酸銅(5水
和物)、エチレンジアミン四酢酸、ホルムアルデヒド、
水酸化ナトリウム、2,2′−ジピリジル、2−9−ジ
メチル1,10−フエナントロン、シアン化ナトリウム
およびフエノール樹脂のポリオキシエチレン誘導体から
なる非イオン界面活性剤を水にそれぞれ溶解せしめ表−
1に示す如き組成系の化学銅めつき液14種を調整した
。
尚界面活性剤は次式 (但しRl,R2はノニル基、lは1〜3の数)におい
てm+n=3の場合を種類(A)、m+n=20の場合
を種類(B)、m+n−9の場合を種類(Oで示した。
一方厚さ10μmの圧延銅箔を10%苛性ソーダ水溶液
に30秒間浸漬後水洗し、引続き100!)硝酸水溶液
に浸漬してから水洗し表面を清浄にした。
かくして表面清浄化した銅箔を、塩化錫509/l塩酸
10d/l残部が水よりなる前処理液に2分間浸漬して
から流水で1分間水洗した。
しかる後この前処理した銅箔を、塩化パラジウム0.2
59/11塩酸10m1/11残部が水よりなる感応性
賦与液に1分間浸漬し、流水中で1分間水洗した。上記
処理を施した銅箔を、前記調製した化学銅めつき液(浴
温70℃)にそれぞれ浸漬し、銅箔の両面に厚さ4〜6
μmの銅めつき膜をそれぞれ析出形成させた。
このようにして形成した銅めつき膜の展延性を180゜
の折り曲げ試験により測定した結果を表−2にそれぞれ
示した。尚展延性試験は銅めつき膜を一定方向に180
゜折り曲げて折目を次に元の位置にもどし圧力を加えて
折り目を平坦にする操作を繰返し、折り目の部分で銅め
つき膜が破断するまでの回数(めつき膜が耐え得る折り
曲げ回数)をもつて評価したものである。
また上記実施例7の組成の化学銅めつき液においてシア
ン化ナトリウムの代りに、水溶性シアン化合物である(
a)=ニトロプルシツドナトリウム(50W19/l)
、(b)シアン化ニツケルカリウム(100mg/l)
もしくは(c)フエロシアン化カリウム(50W19/
l)を用いた他は同じ組成のめつき液を用い、同じ条件
で銅めつき膜を析出形成させ、そのめつき膜について展
延性を評価したところ折り曲げ回数は(a)の場合24
回、(b)の場合22回、(c)の場合20回であつた
。
表−1および表−2に本発明の特徴である非イオン界面
活性剤を添加しない化学銅めつきを使用した場合につい
ても比較例として付記してある。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 銅塩、錯化剤、還元剤、pH調整剤およびフェノー
    ル樹脂のポリオキシエチレン誘導体からなる非イオン界
    面活性剤を含有することを特徴とする化学銅めつき液。 2 特許請求範囲第1項においてフェノール樹脂のポリ
    オキシエチレン誘導体からなる非イオン界面活性剤が一
    般式、▲数式、化学式、表等があります▼ (式中R_1、R_2は水素原子、アルキル基、シクロ
    アルキル基、アリル基、アラルキル基、l、m、nは1
    以上の整数を示す)で示される化合物であることを特徴
    とする化学銅めつき液。
JP3887480A 1980-03-28 1980-03-28 化学銅めつき液 Expired JPS5933185B2 (ja)

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JPS56136969A JPS56136969A (en) 1981-10-26
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6352389A (ja) * 1986-08-22 1988-03-05 Takeshi Amamiya 印刷面を備えた録音録画デイスク

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS6352389A (ja) * 1986-08-22 1988-03-05 Takeshi Amamiya 印刷面を備えた録音録画デイスク

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JPS56136969A (en) 1981-10-26

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