JPS593343A - Ｘ線トポグラフ撮影装置 - Google Patents
Ｘ線トポグラフ撮影装置Info
- Publication number
- JPS593343A JPS593343A JP11282382A JP11282382A JPS593343A JP S593343 A JPS593343 A JP S593343A JP 11282382 A JP11282382 A JP 11282382A JP 11282382 A JP11282382 A JP 11282382A JP S593343 A JPS593343 A JP S593343A
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- JP
- Japan
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- crystal
- film
- ray
- intensity
- rays
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/20—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by using diffraction of the radiation by the materials, e.g. for investigating crystal structure; by using scattering of the radiation by the materials, e.g. for investigating non-crystalline materials; by using reflection of the radiation by the materials
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
＋ａ） 発明の技術分野
本発明は測定中の温度変化や試料面のそりによる回折角
の変化に対して修正機能をもつＸ線トポグラフ撮影装置
に関する。
の変化に対して修正機能をもつＸ線トポグラフ撮影装置
に関する。
（ｂ） 技術の背景
単結晶中に含まれる格子欠陥や格子歪みの場所方法はＸ
線回折顕微法或いはＸ線トポグラフと呼ばれている。
線回折顕微法或いはＸ線トポグラフと呼ばれている。
ここでＸ線トポグラフィは成る指数の回折だけに注目し
、試料中の欠陥によって回折像に生じた微細なコントラ
ストを観察するもので単結晶の中の転位２積層欠陥、双
晶面偏折などの欠陥の観察が可能である。
、試料中の欠陥によって回折像に生じた微細なコントラ
ストを観察するもので単結晶の中の転位２積層欠陥、双
晶面偏折などの欠陥の観察が可能である。
ここで本発明の係る２結晶型Ｘ線トポグラフイは平行度
のずれが数秒以内で断面が線状のＸ線ビームで測定せん
とする結晶面を横方向或いは縦方向に走査することによ
り結晶中の欠陥により生じた微細なコントラストを観察
するものであって。
のずれが数秒以内で断面が線状のＸ線ビームで測定せん
とする結晶面を横方向或いは縦方向に走査することによ
り結晶中の欠陥により生じた微細なコントラストを観察
するものであって。
この場合の必要条件は線状のＸ線ビームを構成す査を行
う場合Ｘ線回折条件が変化しないことなどである。
う場合Ｘ線回折条件が変化しないことなどである。
本発明はこのような必要条件を満したＸ線トポグラフ撮
影機構に関するものである。
影機構に関するものである。
（Ｃ１従来技術と問題点
第１図はＸ線トポグラフ撮影装置の従来構成を示すもの
である。ここでＸ線源１はｌ’Ｊ（ｃｕ）或衡突させる
ことによりＸ線を発生させている。
である。ここでＸ線源１はｌ’Ｊ（ｃｕ）或衡突させる
ことによりＸ線を発生させている。
この場合Ｘ線はＸ線源Ｉより扇状に発生するが５これを
スリットにより縦線状のビームとし第１の結晶２に投射
することにより極めて平行な縦線状の回折Ｘ線３となる
。
スリットにより縦線状のビームとし第１の結晶２に投射
することにより極めて平行な縦線状の回折Ｘ線３となる
。
次にかかるＸ線３を観察せんとする第２の結晶４に投射
し、特定の指数の回折光５だけをフィルム６に撮影する
もので、この際第２の結晶４とフィルム６とを同時にシ
フト（この場合紙面と直角方向）することにより二次元
的な回折像を得ることができる。
し、特定の指数の回折光５だけをフィルム６に撮影する
もので、この際第２の結晶４とフィルム６とを同時にシ
フト（この場合紙面と直角方向）することにより二次元
的な回折像を得ることができる。
ここで明瞭な回折像をフィルム６上に得るためには毎分
約２１１の速度で行なわれるＸ線走査を数１０回にわた
って繰り返す必要があり、また走査を行なう、第２の結
晶４の表面は完全な平面である必要がある。
約２１１の速度で行なわれるＸ線走査を数１０回にわた
って繰り返す必要があり、また走査を行なう、第２の結
晶４の表面は完全な平面である必要がある。
然し実際には多少のうねり或いはそりの存在は免かれず
、また数時間にわたるＸ線走査中に室温の変動による格
子常数の変化のためＸ線回折角が変り、そのため正確な
Ｘ線トポグラフィ観察は困難であった。
、また数時間にわたるＸ線走査中に室温の変動による格
子常数の変化のためＸ線回折角が変り、そのため正確な
Ｘ線トポグラフィ観察は困難であった。
それで温度変動による影響を補正する方法として別のＸ
線源を用い回折角の変化を周期的に観測し、これにより
第２結晶４とフィルム６の傾斜角を補正する方法が提供
さているが、これを実行するには多大の費用を要すると
云う欠点があった。
線源を用い回折角の変化を周期的に観測し、これにより
第２結晶４とフィルム６の傾斜角を補正する方法が提供
さているが、これを実行するには多大の費用を要すると
云う欠点があった。
（ｄ） 発明の目的
本発明の目的は上記問題点を解決し、長時間にわたって
撮影可能で且つ正確な観察が行なえるＸ線トポグラフィ
撮影装置を提供するにある。
撮影可能で且つ正確な観察が行なえるＸ線トポグラフィ
撮影装置を提供するにある。
（ｅｌ 発明の構成
本発明の目的は撮影フィルムを２分割してそのスリット
部を通過するＸ線光の強度を測定し、試料結晶面とフィ
ルムとが連動してスライドする摺動機構が入射してくる
並行Ｘ線の強度に追随して修正回転するように構成され
ているＸ線トポグラフ撮影装置により達成することがで
きる。
部を通過するＸ線光の強度を測定し、試料結晶面とフィ
ルムとが連動してスライドする摺動機構が入射してくる
並行Ｘ線の強度に追随して修正回転するように構成され
ているＸ線トポグラフ撮影装置により達成することがで
きる。
（ｆｌ 発明の実施例
第２図は本発明に係る透過型Ｘ線トポグラフ撮影の装置
の構成図、第３図は試料及びフィルムが移動する関係の
説明図、第４図はフィルムホルダとフィルムとの関係を
示す正面図である。
の構成図、第３図は試料及びフィルムが移動する関係の
説明図、第４図はフィルムホルダとフィルムとの関係を
示す正面図である。
第２図において従来構造を示す第１図と異なるところは
第２の結晶４より出てきた回折光５を撮影するために設
けであるフィルム７が２分割され。
第２の結晶４より出てきた回折光５を撮影するために設
けであるフィルム７が２分割され。
その間にスリット８があり、またフィルム７の背後に測
定器９があり、追随機構１０によりて第２結晶４とフィ
ルム７および測定器９が置かれた台１１が微少回転する
点が異っている。尚、第２結晶４及びフィルム７は台１
１に垂直に配置されている。
定器９があり、追随機構１０によりて第２結晶４とフィ
ルム７および測定器９が置かれた台１１が微少回転する
点が異っている。尚、第２結晶４及びフィルム７は台１
１に垂直に配置されている。
又、フィルムを保持する第４のフィルムホルダ１２はそ
の中央部に本実施例の場合約０．５ ｎ幅のスリット８
があり、フィルム７に入射する回折光５の一部は直接に
測定器９に入射され計測されるようになっている。
の中央部に本実施例の場合約０．５ ｎ幅のスリット８
があり、フィルム７に入射する回折光５の一部は直接に
測定器９に入射され計測されるようになっている。
さて測定せんとする第２結晶４の表面に僅かのそり或い
はうねりがあるか或いは温度変動があると回折角が変り
そのため第２結晶４とフィルム７との相対位置を一定と
して摺動される場合はフィルム７への回折光５の強度は
Ｏとなるのが通常であるが本発明に係る追随機構は常に
回折光５の最大強度を求めて少なくとも第２結晶４とフ
ィルム７のどちらか一方を微細に移動する為回折光５が
フィルム７より飛び出すことはなく正確なＸ線トポグラ
フ写真を得ることができる。
はうねりがあるか或いは温度変動があると回折角が変り
そのため第２結晶４とフィルム７との相対位置を一定と
して摺動される場合はフィルム７への回折光５の強度は
Ｏとなるのが通常であるが本発明に係る追随機構は常に
回折光５の最大強度を求めて少なくとも第２結晶４とフ
ィルム７のどちらか一方を微細に移動する為回折光５が
フィルム７より飛び出すことはなく正確なＸ線トポグラ
フ写真を得ることができる。
例えばＸ線源１としてＭＯツタ−ット第１結晶２として
シリコン結晶をまた測定する第２結晶４として（１１１
）面方位をもつ厚さ２００ 〔μｍ〕のシリコン（Ｓｉ
）ウェハを用いこの（４４０）面を回折角としてＸ線ト
ポグラフ撮影する実６ 施例について云えばＳｌの熱膨張係数は４×１０ｌ ｋ でありまた一般に約４℃の室温変動があるため回折
角が変化し、そのため２時間以上にわたって露光を続け
ることは困難である。
シリコン結晶をまた測定する第２結晶４として（１１１
）面方位をもつ厚さ２００ 〔μｍ〕のシリコン（Ｓｉ
）ウェハを用いこの（４４０）面を回折角としてＸ線ト
ポグラフ撮影する実６ 施例について云えばＳｌの熱膨張係数は４×１０ｌ ｋ でありまた一般に約４℃の室温変動があるため回折
角が変化し、そのため２時間以上にわたって露光を続け
ることは困難である。
然し本実施例に依る場合はスリット８を通って測定器９
に計測される回折光５は最大光度を求めて第２結晶４．
フィルム７および測定器９が固定されて配置された測定
台１１を回転するだけでよい。
に計測される回折光５は最大光度を求めて第２結晶４．
フィルム７および測定器９が固定されて配置された測定
台１１を回転するだけでよい。
第３図はこの可動機構を説明する側面図であっにおいて
は矢印１３の方向に移動することによりＸ線ビーム３に
よる走査が行われているが９本発明に係る撮影装置にお
いては追随機構ｌＯにより第２図の矢印１４の方向に測
定台１１が１回転することにより温度変化による結晶板
のそり等を補正することができる。
は矢印１３の方向に移動することによりＸ線ビーム３に
よる走査が行われているが９本発明に係る撮影装置にお
いては追随機構ｌＯにより第２図の矢印１４の方向に測
定台１１が１回転することにより温度変化による結晶板
のそり等を補正することができる。
ここでＸ線ビーム３の第２結晶４への入射角が変化する
場合は回折角も変化し、そのため第２結晶４とフィルム
７との交叉角も変化させる必要があるように思われるが
、現実には第２結晶４とフィルムとの距離は５鰭程度に
接近してとられており数秒の回折角変化の影響は無視で
きる。
場合は回折角も変化し、そのため第２結晶４とフィルム
７との交叉角も変化させる必要があるように思われるが
、現実には第２結晶４とフィルムとの距離は５鰭程度に
接近してとられており数秒の回折角変化の影響は無視で
きる。
このように回折光程度の最大を求めて測定台が回転する
追随機構を備えることにより２４時間以上にわたって連
続撮影が可能となった。
追随機構を備えることにより２４時間以上にわたって連
続撮影が可能となった。
（ｇ） ｉｆ発明の効果
本発明の実施により長時間撮影が可能となったのみなら
ずそりのある結晶面についてもＸ線トポグラフ撮影が可
能となり、結晶の転伝、積層欠陥などについても正確な
撮影が可能となった。
ずそりのある結晶面についてもＸ線トポグラフ撮影が可
能となり、結晶の転伝、積層欠陥などについても正確な
撮影が可能となった。
第１図は従来の透過型Ｘ線トポグラフ撮影装置の説明図
、第２図は本発明に係るＸ線トポグラフ撮影装置の説明
図、第３図は測定台の可動機構の説明図また第４図はフ
ィルムホルダの正面図である。 図において ■は′Ｘ線源、２は第１の結晶、３は並行Ｘ線。 ４は第２の結晶、５は回折Ｘ線、６．７はフィルム、８
はスリット ９は測定器、１０は追随機構。
、第２図は本発明に係るＸ線トポグラフ撮影装置の説明
図、第３図は測定台の可動機構の説明図また第４図はフ
ィルムホルダの正面図である。 図において ■は′Ｘ線源、２は第１の結晶、３は並行Ｘ線。 ４は第２の結晶、５は回折Ｘ線、６．７はフィルム、８
はスリット ９は測定器、１０は追随機構。
Claims (1)
- 第１結晶の表面で回折して得られた平行な入射Ｘ線を試
料結晶面に投射し回折せしめ試料中の欠陥より生した微
細なコントラストをフィルム上に撮影する２結晶型Ｘ線
回折トポグラフ撮影装置において、撮影フィルムを２分
割してその間隙部を通過する回折光の強度を測定し、試
料結晶面とフィルムとが連動する摺動機構が、該回折光
強度に追随して修正回転するよう構成されていることを
特徴とするＸ線トポグラフ撮影装置
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11282382A JPS593343A (ja) | 1982-06-30 | 1982-06-30 | Ｘ線トポグラフ撮影装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11282382A JPS593343A (ja) | 1982-06-30 | 1982-06-30 | Ｘ線トポグラフ撮影装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS593343A true JPS593343A (ja) | 1984-01-10 |
Family
ID=14596424
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11282382A Pending JPS593343A (ja) | 1982-06-30 | 1982-06-30 | Ｘ線トポグラフ撮影装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS593343A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1063519C (zh) * | 1994-03-02 | 2001-03-21 | 埃米特放射技术股份有限公司 | 多组凸轮 |
| JP2015188003A (ja) * | 2014-03-26 | 2015-10-29 | 新日鐵住金株式会社 | ＳｉＣ板状体における転位の面内分布評価方法 |
-
1982
- 1982-06-30 JP JP11282382A patent/JPS593343A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1063519C (zh) * | 1994-03-02 | 2001-03-21 | 埃米特放射技术股份有限公司 | 多组凸轮 |
| JP2015188003A (ja) * | 2014-03-26 | 2015-10-29 | 新日鐵住金株式会社 | ＳｉＣ板状体における転位の面内分布評価方法 |
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