JPS593542U - 半導体真空処理装置のゲ−ト弁 - Google Patents
半導体真空処理装置のゲ−ト弁Info
- Publication number
- JPS593542U JPS593542U JP1982098870U JP9887082U JPS593542U JP S593542 U JPS593542 U JP S593542U JP 1982098870 U JP1982098870 U JP 1982098870U JP 9887082 U JP9887082 U JP 9887082U JP S593542 U JPS593542 U JP S593542U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gate valve
- vacuum processing
- processing equipment
- semiconductor
- semiconductor vacuum
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第１図はスパッタ装置の構成図、第２図と第３図は本考
案に係るゲート弁の断面図で第２図は閉鎖状態また第３
図は開口状態を示すものである。 図において、９はゲート弁、１０はゲート弁保持部、１
１は可動弁体、１２は導入部、１４はウェハ、１６．１
７はベルト、１９はアイドラ、２０はスリット。
案に係るゲート弁の断面図で第２図は閉鎖状態また第３
図は開口状態を示すものである。 図において、９はゲート弁、１０はゲート弁保持部、１
１は可動弁体、１２は導入部、１４はウェハ、１６．１
７はベルト、１９はアイドラ、２０はスリット。
Claims (1)
- 半導体の被処理基板に対し真空の下でインライン方式に
より集積回路を形成する真空処理装置において、真空度
の異る各空間を仕切るゲート弁の可動弁体に半導体の被
処理基板を案内する回転機構又は摺動保持機構を設けて
なることを特徴とする半導体真空処理装置のゲート弁。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1982098870U JPS593542U (ja) | 1982-06-30 | 1982-06-30 | 半導体真空処理装置のゲ−ト弁 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1982098870U JPS593542U (ja) | 1982-06-30 | 1982-06-30 | 半導体真空処理装置のゲ−ト弁 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS593542U true JPS593542U (ja) | 1984-01-11 |
| JPS6317253Y2 JPS6317253Y2 (ja) | 1988-05-16 |
Family
ID=30234552
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1982098870U Granted JPS593542U (ja) | 1982-06-30 | 1982-06-30 | 半導体真空処理装置のゲ−ト弁 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS593542U (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008075135A (ja) * | 2006-09-21 | 2008-04-03 | Nippon Dempa Kogyo Co Ltd | 真空処理装置および大気開放方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56169345A (en) * | 1980-04-30 | 1981-12-26 | Ibm | Rotary device for pneumatic track |
-
1982
- 1982-06-30 JP JP1982098870U patent/JPS593542U/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56169345A (en) * | 1980-04-30 | 1981-12-26 | Ibm | Rotary device for pneumatic track |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008075135A (ja) * | 2006-09-21 | 2008-04-03 | Nippon Dempa Kogyo Co Ltd | 真空処理装置および大気開放方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6317253Y2 (ja) | 1988-05-16 |
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