JPS593731A - 情報原盤の製造方法 - Google Patents
情報原盤の製造方法Info
- Publication number
- JPS593731A JPS593731A JP11238882A JP11238882A JPS593731A JP S593731 A JPS593731 A JP S593731A JP 11238882 A JP11238882 A JP 11238882A JP 11238882 A JP11238882 A JP 11238882A JP S593731 A JPS593731 A JP S593731A
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- Japan
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- layer
- information
- metal layer
- forming
- auxiliary
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B23/00—Record carriers not specific to the method of recording or reproducing; Accessories, e.g. containers, specially adapted for co-operation with the recording or reproducing apparatus ; Intermediate mediums; Apparatus or processes specially adapted for their manufacture
- G11B23/0057—Intermediate mediums, i.e. mediums provided with an information structure not specific to the method of reproducing or duplication such as matrixes for mechanical pressing of an information structure ; record carriers having a relief information structure provided with or included in layers not specific for a single reproducing method; apparatus or processes specially adapted for their manufacture
Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の技術分野
本発明は光ディスク、ビデオディスク等の基板、特に凹
凸の形で情報を記録した基板を製造するために使用され
る情報原盤の製造方法に関するものである。
凸の形で情報を記録した基板を製造するために使用され
る情報原盤の製造方法に関するものである。
従来技術と問題点
従来、この種の情報原盤の製造に際しては、ガラス基板
上にフォトレジストを塗布しこれを回転させながら該フ
ォトレジスト上（二情報（−よって強度変調された集束
光ビームを照射し、その後原像液により原像しフォトレ
ジストの凹凸を形成して情報原盤を得ていた。
上にフォトレジストを塗布しこれを回転させながら該フ
ォトレジスト上（二情報（−よって強度変調された集束
光ビームを照射し、その後原像液により原像しフォトレ
ジストの凹凸を形成して情報原盤を得ていた。
ところが、この方法には、次のような各種の欠点があっ
た。
た。
（１） レジストを基板上に均一の厚さく通常光波長
の１Ａまたは１／４程度）で塗布しなければならず、い
わゆるスピンコード法によらざるを得ないが、均一な厚
みを得ることは困難である。
の１Ａまたは１／４程度）で塗布しなければならず、い
わゆるスピンコード法によらざるを得ないが、均一な厚
みを得ることは困難である。
（２） フォトレジストは強度的に弱く傷つき易い。
（３） フォトレジストの光反射率が４％程度と非常
に小さいため、集光ビームをレジスト面に正確に焦点合
せするいわゆるフォーカスサーボ用の反射光が弱く、フ
ォーカスサーボを安定維持することができない。
に小さいため、集光ビームをレジスト面に正確に焦点合
せするいわゆるフォーカスサーボ用の反射光が弱く、フ
ォーカスサーボを安定維持することができない。
発明の目的
本発明は上述の各種の欠点を解決するためのもので、凹
凸情報の高さを安定してそろえることができかつ情報を
記録する操作が容易で、しかも機械的強度の優れた情報
原盤の製造方法を提供することを目的としている。
凸情報の高さを安定してそろえることができかつ情報を
記録する操作が容易で、しかも機械的強度の優れた情報
原盤の製造方法を提供することを目的としている。
発明の実施例
以下、図面に関連して本発明の詳細な説明する。
本発明によれば、情報原盤は、ガラス基板上にシリコン
酸化物よりなる凹凸情報形成層を形成し、その上（二容
易にエツチング可能な有機物質よりなる補助層、および
金属層を順次形成した後、該金属層に情報（二より強度
変調された集束光を照射して該金属層の所定部分を穿孔
、除去し、次にこの金属層が除去された部分を窓として
補助層をエツチングし、次にこの補助層が除去された部
分を窓として補助層は実質的にエツチングせずに凹凸情
報形成層のみをエツチングして該凹凸情報形成層に凹凸
よりなる情報を形成し、最後（＝補助層および金属層を
除去して製造される。
酸化物よりなる凹凸情報形成層を形成し、その上（二容
易にエツチング可能な有機物質よりなる補助層、および
金属層を順次形成した後、該金属層に情報（二より強度
変調された集束光を照射して該金属層の所定部分を穿孔
、除去し、次にこの金属層が除去された部分を窓として
補助層をエツチングし、次にこの補助層が除去された部
分を窓として補助層は実質的にエツチングせずに凹凸情
報形成層のみをエツチングして該凹凸情報形成層に凹凸
よりなる情報を形成し、最後（＝補助層および金属層を
除去して製造される。
このようにして製造された凹凸情報を有する情報原盤は
、電鋳法や成形法等の公知の方法によって光ディスク、
ビデオディスク等の基板を製造するのに利用できる。具
体的（二は、例えば上述の工程により得られた情報原盤
の情報形成面上にＱ 、３ｍｍ程度の厚さのＮｉ層を形
成し、このＮｉ層を情報原盤から取り出し基台上（：接
着してスタンパ−とし、このスタンパ−を用いプレスま
たはインジェクションを行って光ディスク、ビデオディ
スク等の基板を製造する。
、電鋳法や成形法等の公知の方法によって光ディスク、
ビデオディスク等の基板を製造するのに利用できる。具
体的（二は、例えば上述の工程により得られた情報原盤
の情報形成面上にＱ 、３ｍｍ程度の厚さのＮｉ層を形
成し、このＮｉ層を情報原盤から取り出し基台上（：接
着してスタンパ−とし、このスタンパ−を用いプレスま
たはインジェクションを行って光ディスク、ビデオディ
スク等の基板を製造する。
次に上述の工程の具体的な実施例について説明する。
まず、第１図（α）に示すように、外径３５６ｍ７７Ｌ
、内径２０ＷＬ１ｎ、厚さ６ｒｒＬｒｒＬの円板状ガラ
ス基板１の表面に２酸化シリコン（Ｓｉｎ、）を電子ビ
ーム加熱により真空蒸着して凹凸情報形成Ｎｉ２を形成
する。その膜厚は４００〜１４００Ａの一定値とする。
、内径２０ＷＬ１ｎ、厚さ６ｒｒＬｒｒＬの円板状ガラ
ス基板１の表面に２酸化シリコン（Ｓｉｎ、）を電子ビ
ーム加熱により真空蒸着して凹凸情報形成Ｎｉ２を形成
する。その膜厚は４００〜１４００Ａの一定値とする。
この膜形成は、真空蒸着法Ｃ二よるため、膜厚の均一度
を高精度に保つことができる。次にその上に、第１図（
ｈ） ｌ−示すよう（−、フォトレジスト（ＡＺ１３５
０Ｊ）をスピ°ンコートして有機物補助層６を形成しさ
らにテルル（Ｔ−）を真空蒸着して金属層４を形成する
。
を高精度に保つことができる。次にその上に、第１図（
ｈ） ｌ−示すよう（−、フォトレジスト（ＡＺ１３５
０Ｊ）をスピ°ンコートして有機物補助層６を形成しさ
らにテルル（Ｔ−）を真空蒸着して金属層４を形成する
。
補助層３の膜厚は凹凸情報形成層２の厚みの０．５〜２
倍程度とし、金属層４の膜厚は１００Ａとする。
倍程度とし、金属層４の膜厚は１００Ａとする。
次にこれをガス基板１の円板の中心軸を中心として回転
させながら金属層４にアルゴンレーザビームを０．８μ
扉φ（二乗光照射し該照射部分の金属層を除去して第１
図（Ｃ）（二示すように窓５を形成する。
させながら金属層４にアルゴンレーザビームを０．８μ
扉φ（二乗光照射し該照射部分の金属層を除去して第１
図（Ｃ）（二示すように窓５を形成する。
この場合、レーザ光の光強度は記録すべき情報に従って
強度変調され、かつレーザ光は基板回転数が１８０Ｏｒ
ｐｍのとき直径３００ｍｍの位置で約８ｍＷ以上であれ
ば照射部分のＴ−膜を融解除去できる。また、Ｔ−面の
反射率は３０％あるので、反射光を利用して対物レンズ
の位置補正いわゆるフォーカスサーボを容易に行うこと
ができる。このようにして形成される窓５の寸法（孔ま
たは溝の径９幅等）は照射するレーザ光のパワーによっ
て決定される。
強度変調され、かつレーザ光は基板回転数が１８０Ｏｒ
ｐｍのとき直径３００ｍｍの位置で約８ｍＷ以上であれ
ば照射部分のＴ−膜を融解除去できる。また、Ｔ−面の
反射率は３０％あるので、反射光を利用して対物レンズ
の位置補正いわゆるフォーカスサーボを容易に行うこと
ができる。このようにして形成される窓５の寸法（孔ま
たは溝の径９幅等）は照射するレーザ光のパワーによっ
て決定される。
次にこれを平行平板電極型プラズマエツチング装置内に
置き、窓５を通して補助層３および凹凸情報形成層２の
エツチングを行って第１図（ｄ）に示すように孔６，７
を形成する。この場合、始めに真空度５Ｑ ｍＴｏｒｒ
の０２ガスを導入し窓５の下の補助層６を除去して孔６
を形成し、次（二続けて真空度１００ｍＴｏｒｒのＣＦ
４ガスを導入し孔６の下の凹凸情報形成層２をガラス基
板１が露出するまでエツチングを行って孔７を形成する
。なお、凹凸情報形成層２工ツチング時に、ガラス基板
が露出するまでエツチングを行わず、Ｓｚ Ｏ２に掘ら
れる孔または溝の深さが適当になるまでエツチングを行
うようにしても良い。前者の場合（ガラス基板が見える
までエツチングを行う場合）は、最初（＝形成した凹凸
情報形成層２のＳｉｎ、の厚みが孔７の最終深さを決定
する。最後に、第１図（ｅ）に示すように、残っている
補助層３および金属層４を０２プラズマにより除去して
情報原盤１０が完成する。この情報原盤１０は、ガラス
基板１上に５ｉｏｔの凹凸情報を備えたものである。
置き、窓５を通して補助層３および凹凸情報形成層２の
エツチングを行って第１図（ｄ）に示すように孔６，７
を形成する。この場合、始めに真空度５Ｑ ｍＴｏｒｒ
の０２ガスを導入し窓５の下の補助層６を除去して孔６
を形成し、次（二続けて真空度１００ｍＴｏｒｒのＣＦ
４ガスを導入し孔６の下の凹凸情報形成層２をガラス基
板１が露出するまでエツチングを行って孔７を形成する
。なお、凹凸情報形成層２工ツチング時に、ガラス基板
が露出するまでエツチングを行わず、Ｓｚ Ｏ２に掘ら
れる孔または溝の深さが適当になるまでエツチングを行
うようにしても良い。前者の場合（ガラス基板が見える
までエツチングを行う場合）は、最初（＝形成した凹凸
情報形成層２のＳｉｎ、の厚みが孔７の最終深さを決定
する。最後に、第１図（ｅ）に示すように、残っている
補助層３および金属層４を０２プラズマにより除去して
情報原盤１０が完成する。この情報原盤１０は、ガラス
基板１上に５ｉｏｔの凹凸情報を備えたものである。
上述の工程の中で、補助層３形成に際し、ＡＺ１３５（
１７等のように溶液の形で塗布する有機物以外に、蒸着
法を利用できる材料、例えば銅フタロシアニンを使用す
ることも可能である。この材料による各層形成要領を第
２図に示す。図中、３′は銅フタロシアニンの補助層、
８はその上に形成されたカーボンの非晶質膜よりなる安
定化層で、補助の膜厚でそれぞれ形成されている。安定
化層８は、Ｔｙの金属層４に集束光を照射して窓を形成
する際に銅フタロシアニンの表面の乱れを防ぐために形
成されたものである。この場合も、第１図で説明した工
程と同一の手順により、集束光照射による金属層４の孔
あけ、Ｏ！プラズマによる安定化層８、補助層５′のエ
ツチング、ＣＦ、プラズマ；二よる凹凸情報形成層２の
エツチング、さらに残った金属て情報原盤を得ることが
できる。
１７等のように溶液の形で塗布する有機物以外に、蒸着
法を利用できる材料、例えば銅フタロシアニンを使用す
ることも可能である。この材料による各層形成要領を第
２図に示す。図中、３′は銅フタロシアニンの補助層、
８はその上に形成されたカーボンの非晶質膜よりなる安
定化層で、補助の膜厚でそれぞれ形成されている。安定
化層８は、Ｔｙの金属層４に集束光を照射して窓を形成
する際に銅フタロシアニンの表面の乱れを防ぐために形
成されたものである。この場合も、第１図で説明した工
程と同一の手順により、集束光照射による金属層４の孔
あけ、Ｏ！プラズマによる安定化層８、補助層５′のエ
ツチング、ＣＦ、プラズマ；二よる凹凸情報形成層２の
エツチング、さらに残った金属て情報原盤を得ることが
できる。
蒸着法を利用できる銅フタロシアニン以外の有機材料と
しては、他の金属フタロシアニン、スチレン、アクリル
（ＰＭＭＡ ）等がある。
しては、他の金属フタロシアニン、スチレン、アクリル
（ＰＭＭＡ ）等がある。
上述の説明ではＴｇを用いて金属膜を形成する例につい
て述べたが、金属膜形成には、Ｔ＊５ｄ外のＢｉ、Ｂｅ
、Ａｓ等の単体９合金、あるいはＡｌ 、 ＡｌＬ。
て述べたが、金属膜形成には、Ｔ＊５ｄ外のＢｉ、Ｂｅ
、Ａｓ等の単体９合金、あるいはＡｌ 、 ＡｌＬ。
Ｃｒ 、Ｔｉ 、Ｓｎ 、Ｐｈ等の単体または合金を使
用することができる。
用することができる。
発明の効果
以上述べたように、本発明によれば、均一性が良くかつ
強度の優れた凹凸情報を表面に備えた情報原盤を再現性
良く容易に製造することが可能である。
強度の優れた凹凸情報を表面に備えた情報原盤を再現性
良く容易に製造することが可能である。
図面は本発明に係る情報原盤の製造方法の実施例を示す
もので、第１図（α）〜（−）は工程順に示した製造工
程図、第２図は蒸着法を利用できる有機材料を使用した
場合の各層形成要領図である。 図中、１はガラス基板、２は凹凸情報形成層、３．３′
は有機物の補助層、４は金属層、５は窓、６．７は孔、
８は安定化層、１０は情報原盤である。 特許出願人 富士通株式会社 代理人 弁理士 玉蟲久五部（外３名）第１図 第２図
もので、第１図（α）〜（−）は工程順に示した製造工
程図、第２図は蒸着法を利用できる有機材料を使用した
場合の各層形成要領図である。 図中、１はガラス基板、２は凹凸情報形成層、３．３′
は有機物の補助層、４は金属層、５は窓、６．７は孔、
８は安定化層、１０は情報原盤である。 特許出願人 富士通株式会社 代理人 弁理士 玉蟲久五部（外３名）第１図 第２図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （１） ガラス基板上（＝シリコン酸化物よりなる凹
凸情報形成層を形成し、その上に有機物質よりなる補助
層および金属層を順次形成した後、前記金属層に情報に
より強度変調された集束光を照射して該金属層の所定部
分を穿孔、除去し、次に該金属層除去部分を窓として前
記補助層をエツチングし、次１：該補助層除去部分を窓
とし℃、前記補助層は実質的にエツチングせずに前記凹
凸情報形成層のみをエツチングして該凹凸情報形成層（
＝凹凸よりなる情報を形成し、最後に前記補助層および
前記金属層を除去することを特徴とする情報原盤の製造
方法。 （２）前記有機物質の補助層と前記金属層との中間に安
定化層を介在させる特許請求の範囲第１項に記載の製造
方法。 （６）前記安定化層がカーボン薄膜である特許請求の範
囲第２項に記載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11238882A JPS593731A (ja) | 1982-06-29 | 1982-06-29 | 情報原盤の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11238882A JPS593731A (ja) | 1982-06-29 | 1982-06-29 | 情報原盤の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS593731A true JPS593731A (ja) | 1984-01-10 |
Family
ID=14585422
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11238882A Pending JPS593731A (ja) | 1982-06-29 | 1982-06-29 | 情報原盤の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS593731A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60226041A (ja) * | 1984-04-25 | 1985-11-11 | Hoya Corp | 情報ガラス基板の製造方法 |
| JPS6166242A (ja) * | 1984-09-06 | 1986-04-05 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 情報記録原盤 |
| JPS6299930A (ja) * | 1985-10-25 | 1987-05-09 | Hoya Corp | 光情報記録媒体 |
| JPH01235044A (ja) * | 1988-03-14 | 1989-09-20 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光ディスク基板およびその製造方法 |
| JPH0210535A (ja) * | 1988-06-29 | 1990-01-16 | Nec Home Electron Ltd | 光ディスク原盤の製造方法 |
| FR2654864A1 (fr) * | 1989-11-21 | 1991-05-24 | Digipress Sa | Procede pour la fabrication d'un disque a lecture optique et disques obtenus par ce procede. |
-
1982
- 1982-06-29 JP JP11238882A patent/JPS593731A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60226041A (ja) * | 1984-04-25 | 1985-11-11 | Hoya Corp | 情報ガラス基板の製造方法 |
| JPS6166242A (ja) * | 1984-09-06 | 1986-04-05 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 情報記録原盤 |
| JPS6299930A (ja) * | 1985-10-25 | 1987-05-09 | Hoya Corp | 光情報記録媒体 |
| JPH01235044A (ja) * | 1988-03-14 | 1989-09-20 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光ディスク基板およびその製造方法 |
| JPH0210535A (ja) * | 1988-06-29 | 1990-01-16 | Nec Home Electron Ltd | 光ディスク原盤の製造方法 |
| FR2654864A1 (fr) * | 1989-11-21 | 1991-05-24 | Digipress Sa | Procede pour la fabrication d'un disque a lecture optique et disques obtenus par ce procede. |
| US5166014A (en) * | 1989-11-21 | 1992-11-24 | Digipress | Method for the manufacture of an optically readable disc, and discs obtained by this method |
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