JPS5940338A - 情報記憶媒体用原盤及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は、集光したレーザー光による情報の書込み又は
読取シが可能な情報記憶媒体を製造するための情報記憶
媒体用原盤及びその製造方法に関する。

〔発明の技術的背景とその問題点〕

情報記憶媒体としては、ディジタルオーディオディスク
（ＤＡＤ　）に用いられるコンノ母りトディスク（ＣＤ
）や光学式ビイデイオディスクに代表されるようにディ
スク形状やテープ形状をし、集光したレーザー光によ多
情報を読取ることが可能な読取シ専用の情報記憶媒体、
画像ファイルやコ、ンピュータアウトプットメモリ（Ｃ
ＯＭ）などに用いられているもののようにディスク形状
やテープ形状をし、集光したレーザー光によシ記録層に
対して情報の書込みやそこからの情報の読取シが可能な
記録再生用情報記憶媒体及び消去可能な情報記憶媒体な
どを挙げることができる。

このような情報記憶媒体は情報の高密度化を図るために
トラックピッチが狭ζつている。このため、読取シ又は
書込み時に光学ヘッドを所定のトラックに追従させるた
めに、予めこの種の情報記憶媒体には、平坦面に対して
段差を有する溝や凸部から成るトラッキングガイドが形
成されている。

さらに、情報を記録した位置を示すトラック番号やセク
タ位置を事前に記録しておけば、記録再生装置によるソ
フトウェアが容易になるため、前記トラッキングガイド
は、平坦面に対して段差を有する溝や凸部から成る信号
情報用ピットを併せ備えたもの（プリフォーマツティン
グ付きトラッキングガイドともいう）となっている。

上記トラッキングガイドと信号情報用ピットとは、平坦
面との凹凸によって形成されておシ、そこからの反射光
量の相違などを情報として読取られるようになっている
。このため、トラッキングガイドは、そこから反射した
光の回折パターンによるトラックずれ検知信号を大きく
して安定したトラッキングができるように、例えば深さ
がλ／８（λは読取用レーザー光の波長である。以下同
じ）で、幅が０．６〜０．８μｍ程度の方形状の凹溝と
なっている。また信号情報用ビットは、最大の変調度（
信号情報用ビットの真上に読取シ用し−ザー光を照射し
たとき、そこからの反射光強度が最も小さいということ
）をとれるように、深さがλ／４で幅が読取用レーザー
光のスポットサイズの１７３程度に設定されている。

このようなトラッキングガイドや信号情報用ビットを備
えた情報記憶媒体を量産するためには、トラッキングガ
イドや信号情報用ビットを形成すべき凹凸を備えた原盤
を作成し、この原盤の凹凸を種々の工程によって情報記
憶媒体の基板表面に転写することになる。

ところで、上記原盤の製造段階でトラッキングガイドと
信号情報用ビットを作るための方法としては次のものが
知られている。すなわち、表面を研磨したガラス基板上
にフォトレジスト層を形成し、信号情報用ビットを形成
する部分では充分な光量のレーザー光を照射することに
よって基板に到達するまで穴をあけ、トラッキングガイ
ドを形成する部分ではレーザー光の光量を減らしてフォ
トレジスト層の途中の深さまで溝を設けてゆく。

このようにして深さの異なるトラッキングガイドと、信
号情報用ビットとを形成する。しかしながら、フォトレ
ジスト層の感度はレーザー露光前のフォトレジスト層の
状態によシ異なったり、或いはトラッキングガイドの深
さが至る所で均一になるようにレーザー光の露光量を制
御することは極めて難しいため、トラッキングガイドや
信号情報用ビットを精度良く形成することができないと
いう問題点があった〇 また特開昭４８−８５０２５に記載されているように、
感度を異にするフォトレジスト層を複数層形成してトラ
ッキングガイドや信号情報用ビットを設ける方法がある
が、フォトレジストは溶剤に溶けやすいので、溶剤に溶
かした数種のフォトレジストを積層して塗布するとき、
下地のフォトレジスト層が侵されやすいという問題点が
あった。さらにフォトレジストを均一に複数層塗布する
ことは技術的に困難であるという問題点があった。

また、この結果、従来の情報記憶媒体用原盤にあっては
、集光したレーザー光により正確に情報を読取ることが
できるとともに安定したトラッキングを行なうことがで
きる情報記憶媒体を量産することができないという問題
点があった。

〔発明の目的〕

本発明は上記事情に鑑みてなされたものであシ、精度良
く形成されたトラッキングガイドと信号情報用ビットと
を備えることにより、正確な情報の読取シ及び安定した
トラッキングを行なうことのできる情報記憶媒体の量産
に資することができる情報記憶媒体用原盤を提供するこ
とを目的とし、さらにこのような情報記憶媒体用原盤を
比較的容易で、かつ精度良く作成することができ、ひい
ては生産性の向上と製造コストの低減とを図ることので
きる情報記憶媒体用原盤の製造方法を提供することを目
的とするものである。

〔発明の概要〕

第１の発明は集光したレーザー光により情報を読取るこ
とが可能な情報記憶媒体を製造するための情報記憶媒体
用原盤において、基板と、この基板上に設けられたもの
であって基板表面に対して第１の凹凸部を備えたトラッ
キングガイド形成層と、このトラッキングガイド形成層
に積層された部分を有するとともに前記基板表面に対し
て第２の凹凸部を備えた信号情報形成層とを具備するこ
とを特徴とする情報記憶媒体用原盤である。第２の発明
は集光したレーザー光によシ情報を読取ることが可能な
情報記憶媒体の原盤を製造するにあたシ、少なくとも、
基板上にトラッキングガイド形成層を設えてそこに第１
の凹凸部を形成する第１工程と、前記トラッキングガイ
ド形成層に信号情報形成層を積層してそこに第２の凹凸
部を形成する第２工程とを含むことを特徴とする情報記
憶媒体用原盤の製造方法である。

〔発明の実施例〕

以下本発明の情報記憶媒体用原盤の製造方法について図
面を参照しながら説明する。

第１図←）〜（ｆ）は本発明の第１の実施例たる製造方
法を工程順に示す断面図である。

先ず第１図（＆）に示すように、表面を研磨したガラス
製の基板１にネガタイグのフォトフジストをスピナコー
ディングしてフォトレゾスト層２を形成する。そして対
物レンズ３で集光したレーデ−光で前記フォトレジスト
層２を同心円状又はスパイラル状に露光してフォトレジ
スト露光部４を形成する。その後、このフォトレジスト
層２を現像定着して前記フォトレゾスト露光部４以外の
部分を除去する。

そして第１図（ｂ）に示すように、前記基板１及びフォ
トレジスト露光部４上にＣｒを厚さ７００Ｘで真空蒸着
又はスパッタ蒸着することによってトラッキングガイド
形成層５を設ける。このときトラッキングガイド形成層
５は前記フォトレジスト露光部４の厚さよりも薄いので
、フォトレジスト露光部４の側部＼においては前記トラ
ッキングガイド形成層は分断されている。したがって、
第１図（ｃ）に示すようにこのフォトレジスト露光部４
を有機溶剤にて溶解すると、フォトレジスト露光部４上
のトラッキングガイド形成層５も除去され、前記基板１
に接した部分のトラッキングガイド形成層５が存在し、
フォトレジスト露光部４が除去された部分に第１の凹凸
部６が形成されることになる（このような方法を以下単
にリフトオフ法ともいう）。

その後、第１図（ａ）に示すように、前記基板１及びフ
ォトレジスト露光部４上にＮｉを厚さ７００Ｘで真空蒸
着又はスパッタ蒸着することによって信号情報形成層７
を設ける。Ｘ　′ｒ！Ｊ１ｃ＜’Ｃ址Ｙその際、この信
号情報形成層７の表面は、基板１表面に形成されている
１、トラッキングガイド形成層の形状に沿ったものとな
るので、前記第１の凹凸部６の上方には、第１の凹凸部
６と同様の形状から成るトラッキングガイド１２が形成
される。そして、この信号情報形成層７上にポジタイグ
のフォトレジストをスピナコーティングしてフォトレジ
スト層８を形成する。そして前記基板１をターンテーブ
ルに載置して回転させながら対物レンズ９で集光したレ
ーザー光を前記トラッキングガイ、ド１２上のフォトレ
ジスト層８に照射してこれをトレースさせる。このトレ
ースは前記トラッキングガイド１２から反射したレーザ
ー光の回折パターンによるトラックずれ検知信号を得る
ことによって行なう。そして、このトレース中に第２の
凹凸部を設けるべき位置でレーザー光の光量を増大して
前記フォトレジスト層８にフォトレジスト露光部１゜を
形成する。

そして、前記フォトレジスト層８を現像定着して前記フ
ォトレジスト露光部１ｏを除去し、前記信号情報形成層
７を部分的に露出させる。その後、残存しているフォト
レジスト層８をマスクとして、信号情報形成層７の露出
部分をエツチングして除去し、その部分に第２の凹凸部
１１を形成する（第１図（・）参照）。なおエツチング
液としては、３７チ濃度の塩化第２鉄水溶液を使用する
ことが望ましい。

その後、前記フォトレジスト層８を有機溶剤にて除去す
ることにより、第１図（ｆ）に示すように、深さ７００
Ｘのトラッキングガイド１２と、深さ１４００＾の信号
情報用ぎラドに相当する第２の凹凸部１１とを備えた情
報記憶媒体用原盤が製造されることになる。なおトラッ
キングガイド１２及び第２の凹凸部１１の深さ寸法は一
例であり、例えば深さ７００Ｘは、読取用レーデ−光の
波長をλとしたときにはλＡに相当するものである。

上記のような製造方法にあっては、次に挙げる特有の効
果を有する。

（イ）第１の凹凸部及び第２の凹凸部の深さ寸法はトラ
ッキングガイド形成層及び信号情報形成層の厚さによっ
て規制されることになるので、トラッキングガイドや信
号情報用ピットを精度良く形成することができる。

（ロ）第１の凹凸部と第２の凹凸部との形成プロセスは
完全に分離しているので、第１の凹凸部の形成が不良で
あっても、これを廃棄することによシ、第２の凹凸部の
形成の歩留まりを低下させずに済む。

（ハ）第１°の凹凸部と第２の凹凸部との形成プロセス
は完全に分離しているので、第１の凹凸部だけを形成し
たものを予め多数ストックしておき、必裂に応じて該原
盤を迅速に製造するという工程を採用することが可能に
なる。

に）第２の凹凸部を形成するときには、第１の凹凸部の
上を光学的にトレースするので、レーザー光を集光させ
る対物レンズの送υ機構に対しては機械的高精度が特に
要求されることはなく、ひいては製造装置の簡素化及び
小型化を図ることができる。

（ホ）　リフトオフ法によって第１の凹凸部を形成する
ので、特にこの第１の凹凸部のエツジ部分の精度が良好
となり、ひいては高精度のトラッキングガイドを形成す
ることが可能となる。

また上記のような構造を有する情報記憶媒体用原盤にあ
っては、第１の凹凸部及び第２凹凸部が精度良く形成さ
れているので、この原盤を利用して量産される情報記憶
媒体は寸法制度の良好なトラッキングガイドと信号情報
用ピットとが転写され、その結果正確な情報の読取りと
安定したトラッキングを行なうことのできる情報記憶媒
体を量産することができるようになる。

次に本発明の第２の実施例について説明する。

第１の実施例と同様の工程についてはその詳細な説明を
省略する。異なる工程は前記リフトオフ法によって第１
の凹凸部を形成する工程である。すなわち、前記フォト
レジスト露光部４を台形状（断面形状）に形成し、その
後第２図に示すようＫそのフォトレノスト露光部４上に
トラッキングガイド形成層５を設けるようにしたことで
ある。

このようにすれば、基板１と接しているトラッキングガ
イド形成層５０部分と、基板ｌ上に残存しているフォト
レジスト露光部４との間に比較的大きな間隙Ｃが形成さ
れるので、基板１上に残存しているフォトレジスト露光
部４を除去するための有機溶剤を容易かつ迅速にフォト
レジスト露光部４に侵透させることができ、ひいてはリ
フトオフ法による製造の効率化を図ることが可能になる
。

次に本発明の第３の実施例について説明する。

第３図（、）〜（ｆ）は本発明の第３の実施例たる製造
方法を工程順に示す断面図である。第１の実施例と同様
の工程については詳細な説明を省略する。異なる工程は
、第１の凹凸部及び第２の凹凸部を形成する両工程をリ
フトオフ法によって行なったことである。

先ず第３図体）に示すように、表面を研磨したガラス製
の基板１にポジタイゾのフォトレジストをスピナコーテ
ィングしてフォトレジスト層２を形成する。そして対物
レンズ３で集光したレーザー光で前記フォトレジスト層
２を同心円状又はスノ（イラル状に露光してフオトレン
ズ）３ｇ光部４を形成する。その後、このフォトレジス
ト層２を現像定着して前記フォトレジスト露光部４を除
去する。

そして第３図（ｂ）に示すように、前記基板１及び基板
上に残存しているフォトレジスト層２上ＫＣｒを厚さ７
００Ｘで真空蒸着又はスパッタ蒸着することによってト
ラッキングガイド形成層５を設ける。このときトラッキ
ングガイド形成層５は前記フォトレノスト層２の厚さよ
りも薄いので、フォトレジスト層２の側部上おいては前
記トラッキングガイド形成層５は分断されている。した
がってこのフォトレジスト層２を有機溶剤にで溶触する
と、フォトレジスト層２上のトラッキングガイド形成層
５も除去され、前記基板１に接した部分のトラッキング
ガイド形成層５が存在し、これによって第１の凹凸部６
が形成されることになる（第３図（ｃ）参照）。

その後第３図（ｄ）Ｋ示すように、再度ポゾタイゾのフ
ォトレジストをスピナーコーティングしてフォトレジス
ト層８を形成する。そして第１の実施例と同様に対物レ
ンズ９で集光したレーザー光で前記第１の凹凸部６をト
レースし、このトレース中に第２の凹凸部を設けるべき
位置でレーザー光の光量を増大して前記フォトレジスト
層８に７オトレジスト露光部１０を形成する。

そして前記フォトレジスト層８を現像定着してフォトレ
ジスト露光部１０を除去し、第３図（ｅ）に示すように
その上からＣｒを厚さ７００Ｘで真空蒸着又はスパッタ
蒸着することによって信号情報形成層７を設ける。この
ときも、第３図（ｂ）に示す場合とほぼ同様に、前記フ
ォトレジス）Ｍ先部１０を除去した部分においてだけ、
前記信号情報形成層７は前記第１の凹凸部６と直接接触
し、その他の部分は残存しているフォトレジスト層８上
に位置、する。しだがって、このフォトレジスト層８を
有機溶剤によって溶解することにより、第１の凹凸部６
上にある信号情報形成層７だけが残存し、これによって
第２の凹凸部１１が形成されることになる。このように
して、第３図（ｆ）に示すように高さ７００Ｘのトラッ
キングガイドに相当する第１の凹凸部６と、高さ１４０
０Ｘの信号情報用ピットに相当する第２の凹凸部１１と
を備えだ情報記憶媒体用原盤が製造されることになる。

このような第３の実施例においても第１の実施例とほぼ
同様の効果を得ることができる。特に本実施例にあって
は、リフトオフ法という同様の工程を２度繰返えすこと
によって第１の凹凸部と第形成することができる。さら
にトラッキングガイド形成層と信号情報形成層とを同一
の材質で構成したので、両層の密着強度を特に向上させ
ることができるという特有の効果を有する０ 次に本発明の第４の実施例について説明する第４図（ａ
）〜（ｆ）は本発明の第４の実施例たる製造方法を工程
順に示す断面図である。

先ず、第４図（、）に示すように表面を研磨したガラス
製の基板１上に、放射エネルギを吸収して部分的に高温
になることにょ９２種類の物質が混合又は拡散する一組
の物質によってトラッキングガイド形成層５を構成する
。例えば前記基板１上にＡｓ２Ｓ３　ｒ　Ａｓ２５ｓ３
＊　Ａｓ−８−Ｔｅ系、　Ａｓ−８−３ｅ系などから成
るカルコゲナイドガラス層５Ａを形成し、さらにその上
にＣｕやＯｒなどの金属層５Ｂを真空蒸着又はス・やツ
タ蒸着によって形成する。

そして、第４図（ｂ）　Ｋ示すように、対物レンズ３で
集光したレーザー光で前記金属層５Ｂの表面を同心円状
又はスパイラル状に順次露光し、露光部の金属をその下
のカルコゲナイドガラス層５Ａにドーピングさせる。な
お図において５ｃは上記のようにして金属がドーピング
されたカルコゲナイドガラス部を示すものである。その
後、全体をアルカリ溶液に浸すと、金属がドーピングし
たカルコゲナイドガラス部５Ｃ以外のトラッキングガイ
ド形成層５が除去され、第４図（ｃ）に示すように、残
存しているカルコゲナイドがラス部５Ｃによって第１の
凹凸部６が形成されることになる。

次に、上記のようにして形成された基板１及び第１の凹
凸部６上に、放射エネルギを吸収して部分的に高温にな
ることにより２種類の物質が混合又は拡散する一組の物
質によって信号情報形成層７を構成する。これは、例え
ば前記トラッキングガイド形成層５と同一の材質から成
るカルコゲナイドガラス層７Ａと金属層７Ｂとによって
構成されている（第４図（ｄ）参照）。このように形成
された信号情報形成層７の表面は、前記第１の凹凸部６
にほぼ沿った凹凸形状となっている。

そして、第４図（ｅ）に示すように前記基板１をターン
テーブルに載置して回転させながら、対物レンズ９で集
光したレーザー光を前記第１の凹凸部６の上部に位置し
ている金属層７Ｂに照射してこれをトレースさせる。こ
のトレースは、金属層７Ｂから反射したレーザー光の回
折ツクターンによるトラックずれ検知信号を得ることに
よって行なう。

そしてトレース中に信号情報用ピットを設けるべき位置
でレーザー光の光量を増大して前記カルコゲナイドガラ
ス層７Ａに金属層７Ｂの金属をドーピングさせる。なお
、図において７Ｃは上記のようにレーザー光によって金
属がドーピングされたカルコゲナイドガラス部を示すも
のである。

そして、これをアルカリ溶液に浸すと、金属がドーピン
グされたカルコゲナイドガラス部７Ｃを残し、その他の
信号情報形成層７が除去され、第４図（ｆ）に示すよう
に、第１の凹凸部６の上部に第２の凹凸部１１が形成さ
れることになる。このようにして形成された情報記憶媒
体用原盤にあっては、前記第１の凹凸部６がトラッキン
グガイドに相当し、第２の凹凸部１１が信号情報用ピッ
トに相当するものである。なお、第１の凹凸部６及び第
２の凹凸部１１の高さは前記カルコゲナイドガラス層及
び金属層の厚さによって一義的に定まるものであり、例
えば第１の凹凸部６は基板１の表面に対して７００Ｘの
高さを有し、第２の凹凸部１１は基板１の表面に対して
１４００Ｘの高さを有している。

このような第４の実施例によっても前記第１の襖施例と
ほぼ同様の効果を得ることができる。特に、金属をドー
ピングさせるという同様の工程によって第１の凹凸部と
第２の凹凸部とを形成するので、製造ラインの短縮を図
ることができるという特有の効果を有する。

（以下余白） 次に本発明の第５の実施例について説明する。

第５図（ａ）〜（ｄ）は、本発明の第５の実施例たる製
造方法を工程順に示す断面図である。第４の実施例と同
様の工程についてはその詳細な説明を省略する。

異なる工程は、トラッキングガイド形成層をレーザー光
にて精密除去加工して第１の凹凸部を形成することであ
る。すなわち、第５図（、）に示すように研磨したガラ
ス製の基板１上に例えばＣｒを厚さ１４００Ｘで真空蒸
着又はスパッタ蒸着してトラッキングガイド形成層５を
設ける。そして対物ンンズ３で集光したレーザー光で前
記トラッキングガイド形成層５を同心円状又はスパイラ
ル状に露光し、露光部を深さ１４００Ｘで精密除去する
ことによって第１の凹凸部６を形成する。

その後、前記第４の実施例と同様に、第１の凹凸部６及
び基板１上に、放射エネルギを吸収して部分的に高温に
なることによ）２種類の物質が混合又は拡散する一組の
物質によって信号情報形成層７を構成する。これは、例
えば第５図（ｂ）に示すように、カルコゲナイドガラス
部７Ａと、その上にＡｇ　、　Ｃｏ又はＡｔなどをスパ
ッタ蒸着又は真空蒸着した金属層７Ｂとによって構成さ
れている。このようにして構成された信号情報形成層７
の表面は、前記第１の凹凸部６にほぼ沿った凹凸形状と
なっている。なお、前記信号情報形成層７の厚さは例え
ば７００Ｘである。

次に、前記第４の実施例と同様に対物レンズ９で集光し
たレーザー光を前記第１の凹凸部５の上部に位置してい
る金属層７Ｂに照射してこれをトレースさせる（第５図
（ｃ）参照）。このトレース中においては、前記第４の
実施例とは相違し、信号情報用ビットを設けるべき位置
でレーザー光の光量を減少或いは遮光し、その他の部分
ではレーザー光の光量を増大して前記カルコゲナイドガ
ラス部７Ａに前記金属層７Ｂの金属をドーピングさせる
。なお第５図（ｃ）において７Ｃは上記のようにレーザ
ー光によって金属がドーピングされたカルコケ９ナイト
ガラス部を示すものである。

そして、溶媒（Ｃｕに対しては３７％塩化第２鉄溶液、
Ａｔに対しては１０％水酸化ナトリウム水溶液）で前記
金属層７Ｂを溶解し、その後アルカリ溶液に浸すと、金
属がドーピングさ扛たカルコゲナイドガラス部７Ｃを残
しその他のカルコｒナイトガラス層７Ａが除去され、そ
の結果前記比１の凹凸部６上には部分的に第２の凹凸部
１１が形成される。

このような工程を経ることによシ、第５図（ｄ）に示す
ように深さ７００Ｘのトラッキングガイドに相当する第
２の凹凸部１１と、深さ１４００Ｘの信号情報用ピット
に相当する第１の凹凸部６とを表面に具備した情報記憶
媒体用原盤が製造されることになる。

このような第５実施例によっても第１の実施例とほぼ同
様の効果を得ることができる。

次に本発明の第６の実施例について説明する。

第６図（ａ）〜（ｆ）は、本発明の第６の実施例たる製
造方法を工程順に示す断面図である。第１の実施例と同
様の工程についてはその詳細な説明を省略する。異なる
工程は、トラッキングガイド形成層をエツチングして第
１の凹凸部を形成したことである。すなわち、第６図（
ａ）に示すように、表面を研磨したガラス↓の基板１上
にＮｌを真空蒸着又はスＡ’ツタ蒸着してトラッキング
ガイド形成層５を設ける。そして、その上にポノタイゾ
のフォトレジストをスピナーコーティングしてフォトレ
ジスト層２を形成する。その後、対物レンズ３で集光し
たレーザー光で前記フォトレジスト層２を同心円状又は
スパイラル状に露光してフォトレジスト露光部４を形成
し、さらにこのフォトレジスト層２を現像定着して前記
フォトレジストＢ光部４を除去する。次に第６図（ｂ）
に示すように、残存しているフォトレジスト層２をマス
クとし、このマスクから露出されているトラッキングガ
イド形成層５の部分をエツチングにて除去することによ
ってそこに第１の凹凸部６を形成する。なおエツチング
液としては塩化第２鉄水溶液を使用することが望ましい
。

そして、残存しているフォトレジスト層２を有機溶剤で
除去した後、第１の実施例と同様の工程によって信号情
報形成層７を設け、そこに第２の凹凸部１１を形成する
（第６図（ｃ）〜（、）参照）。なお、本実施例におい
ては、信号情報形成層７をＣｕで形成し、それにともな
ってエツチング液としてはクロム酸４８０ｆｌ／！ｌに
硫酸３１ＣＣを添加したものを使用した。このような工
程を経ることによシ、第６図（ｆ）に示すように、トラ
ッキングガイド１２と、信号情報用ビットに相当する第
２の凹凸部工１とを備えた情報記憶媒体用原盤が製造さ
れることになる。なお本実施例におけるトラッキングガ
イド形成層と信号情報形成層との材質の組合わせは、Ａ
ｔとＣｕ　、　ＣｕとＯｒ　、ステンレスとＣｕ又はＣ
ｒと力゛ラスにすることもできる。また、エツチングの
工程については本実施例のようなケばカルエツチングだ
けではなく、他にプラズマエツチングというドライプロ
セスを用いることも可能である。

このような第６実施例によっても第１実施例とほぼ同様
の効果を得ることができる。

なお上記実施例は一例であシ、本発明の要旨の範囲内に
おいて種々の変形実施ができることは言うまでもない。

特に各実施例においては、１つの製造方法と、それＫよ
って製造された情報記憶媒体用原盤について説明したが
、各原盤は当該実施例で説明した方法によって製造され
たものに限定されるものではなく、他の方法によって製
造することも可能である。また各実施例で説明した第１
の凹凸部及び第２の凹凸部が転写されることによってト
ラッキングガイドと信号情報用ビットとを備えた情報記
憶媒体が製造されることになるが、その際のトラッキン
グガイド及び信号情報用ビットのトラックに沿った方向
に直角な断面の幅に関しては、信号情報用ビットの方を
狭くするように前記第１の凹凸部及び第２の凹凸部を形
成することも可能である。このような原盤によって製造
される情報記憶媒体にあっては、トラッキングガイドの
幅のほうが信号情報用ピントの幅に比らべて広くなって
いるので、情報の読取りに際してはトラッキングガイド
の外で反射する光量よシもトラッキングガイドの中から
反射する光量の方が非常に多くなシ、そのため両度射光
の干渉によって従来化じていた光反射強度の低下を抑制
することができる。この結果、トラッキングガイド上で
の光反射レベルが高くなり、信号情報用ビットやその他
の情報を記憶した記録層の部分からの光反射レベルとの
間に大きな光反射レベル差を得ることができるようにな
シ、情報読取シのＳ／Ｎ比を良好にして正確な情報の読
取シが可能になる。

〔発明の効果〕

以上の説明から明らかなように、本発明の情報記憶媒体
用原盤にあっては、トラッキングガイドと信号情報用ビ
ットとが精度良く形成されているので、正確な情報の読
取りや安定したトラッキングを行なうことのできる情報
記憶媒体の量産に資することができるなどの優れた効果
を有するものであシ、さらに本発明の情報記憶媒体用原
盤の製造方法にあっては、トラッキングガイドと信号情
報用ビットとを精度良く、シかも比較的容易に形成する
ことができ、ひいては生産性の向上と製造１コストの低
減とを図ることができるなどの優れた効果を有するもの
である。

【図面の簡単な説明】

第１図（、）〜（ｆ）は本発明の第１の実施例たる製造
方法を工程順に示す断面図、第２図は本発明の第２の実
施例たる製造方法の一部の工程を示す断面図、第３図（
、）〜（ｆ）は本発明の第３の実施例たる製造方法を工
程順に示す断面図、第４図（ａ）〜（ｆ）は本発明の第
４の実施例たる製造方法を工程順に示す断面図、第５図
（、）〜（ｄ）は本発明の第５の実施例たる製造方法を
工程順に示す断面図、第６図（ａ）〜（ｆ）は本発明の
第６の実施例たる製造方法を工程順に示す断面図である
。 １・・・基板、５・・・トラッキングガイド形成層、６
・・・第１の凹凸部、７・・・信号情報形成層、１１・
・・第２の凹凸部。

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. （１）集光したレーザー光により情報を読取ることが可
   能な情報記憶媒体を製造するだめの情報記憶媒体用原盤
   において、基板と、この基板上に設けられたものであっ
   て基板光面に対して第１の凹凸部を備えたトラッキング
   ガイド形成層と、このトラッキングガイド形成層に積層
   された部分を有するとともに前記基板表面に対して第２
   の凹凸部を備えた信号情報形成層とを具備することを特
   徴とする情報記憶媒体用原盤。
2. （２）　　集光したレーザー光によシ情報を読取ること
   が可能な情報記憶媒体の原盤を製造するにあたシ、少な
   くとも、基板上にトラッキングガイド形成層を設けてそ
   こに第１の凹凸部を形成する第１工程と、前記トラッキ
   ングガイド形成層に信号情報形成層を積層してそこに第
   ２の凹凸部を形成する第２工程とを含むことを特徴とす
   る情報記憶媒体用原盤の製造方法。
3. （３）前記第１工程は、基板上に前記第１の凹凸部に対
   応するマスクを形成し、さらにこのマスクよシも薄くト
   ラッキングガイド形成層を設け、その後前記マスクを除
   去することにより前記基板に接しているトラッキングガ
   イド形成層が残存し、残存しているトラッキングガイド
   形成層に基づいて第１の凹凸部を構成することを特徴と
   する特許請求の範囲第２項記載の情報記憶媒体用原盤の
   製造方法。
4. （４）前記第１工程は、放射エネルギを吸収して部分的
   に高温になることによ９２種類の異なる物質が混合又は
   拡散する一組の物質によって前記トラッキングガイド形
   成層を構成し、このトラッキングガイド形成層にレーザ
   ー光を照射して第１の凹凸部を形成することを特徴とす
   る特許請求の範囲第２項記載の情報記憶媒体用原盤の製
   造方法。
5. （５）前記第１工程は、基板上に設けたトラッキングガ
   イド形成層をエツチングすることによって第１の凹凸部
   全形成することを特徴とする特許請求の範囲第２項記載
   の情報記憶媒体用原盤の製造方法。
6. （６）　　前記第２工程は、基板及び第１の凹凸部上に
   前記第２の凹凸部に対応するマスク全形成し、さらにこ
   のマスクよりも薄く信号情報形成層を設け、その後前記
   マスクを除去することにより前記第１の凹凸部に接して
   いる信号情報形成層が残存し、その残存している信号情
   報形成層に基づいて第２の凹凸部を構成することを特徴
   とする特許請求の範囲第２項記載の情報記憶媒体用原盤
   の製造方法。
7. （７）前記第２工程は、放射エネルギを吸収して部分的
   に高温になることによ９２種類の異なる物質が混合又は
   拡散する一組の物質によって前記信号情報形成層を構成
   し、この信号情報形成層にレーザー光を照射して第２の
   凹凸部を形成することを特徴とする特許請求の範囲第２
   項記載の情報記憶媒体用原盤の製造方法。
8. （８）　　前記第２工程は、基板及び第１の凹凸部上に
   設けた信号情報形成層をエツチングすることによって第
   ２の凹凸部を形成することを特徴とする特許請求の範囲
   第２項記載の情報記載媒体用原盤の製造方法。 （以下余白）