JPS5933644A - 情報記憶媒体用原盤とその製造方法 - Google Patents
情報記憶媒体用原盤とその製造方法Info
- Publication number
- JPS5933644A JPS5933644A JP14260982A JP14260982A JPS5933644A JP S5933644 A JPS5933644 A JP S5933644A JP 14260982 A JP14260982 A JP 14260982A JP 14260982 A JP14260982 A JP 14260982A JP S5933644 A JPS5933644 A JP S5933644A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- forming layer
- signal information
- layer
- tracking guide
- tracking
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B23/00—Record carriers not specific to the method of recording or reproducing; Accessories, e.g. containers, specially adapted for co-operation with the recording or reproducing apparatus ; Intermediate mediums; Apparatus or processes specially adapted for their manufacture
- G11B23/0057—Intermediate mediums, i.e. mediums provided with an information structure not specific to the method of reproducing or duplication such as matrixes for mechanical pressing of an information structure ; record carriers having a relief information structure provided with or included in layers not specific for a single reproducing method; apparatus or processes specially adapted for their manufacture
Landscapes
- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は、集光したレーザー光による情報の書込み又は
歪取シ可能な情報記憶媒体を多量に生産する場合に用い
られる情報記憶媒体用原盤及びその製造方法に関するも
のである。
歪取シ可能な情報記憶媒体を多量に生産する場合に用い
られる情報記憶媒体用原盤及びその製造方法に関するも
のである。
情報記憶媒体としては、ディジ゛タルオーディオディス
ク(DAD )に用いられるコンノにクトディスク(C
D)や光学式ビデイオディスクに代表されるようにディ
スク形状やテープ形状をし、集光したレーザー光によシ
情報を読取ることが可能な読取り専用の情報記憶媒体、
画像ファイルやコンピュータアウトプットメモリ(CO
M )などに用いられているもののようにディスク形状
やテープ形状をし、集光したレーザー光によシ記録層に
対して情報の書込みやそこからの情報の読取りが可能な
記録再生用情報記憶媒体及び消去nJ能な情報記憶媒体
などを挙げることができる。
ク(DAD )に用いられるコンノにクトディスク(C
D)や光学式ビデイオディスクに代表されるようにディ
スク形状やテープ形状をし、集光したレーザー光によシ
情報を読取ることが可能な読取り専用の情報記憶媒体、
画像ファイルやコンピュータアウトプットメモリ(CO
M )などに用いられているもののようにディスク形状
やテープ形状をし、集光したレーザー光によシ記録層に
対して情報の書込みやそこからの情報の読取りが可能な
記録再生用情報記憶媒体及び消去nJ能な情報記憶媒体
などを挙げることができる。
このような情報記憶媒体は、情報の高密fヒを図るため
にトラックピッチが狭くなっている。このだめ、読取り
又は書込み時に光学ヘッドを所定のトラックに追従させ
るだめに、予め情報記憶媒体にはトラッキングガイドが
設けられている。さらに情報を記録した位置を示すトラ
ック番号やセクタ位置を事前に記録しておけば、配録再
生装置によるンプトウエアが楽になるため、前記トラッ
キングガイドは信号情報用ビットを併せ備えだもの(プ
リフォーマツチイングイ」きトラッキングガイド)とな
っている。
にトラックピッチが狭くなっている。このだめ、読取り
又は書込み時に光学ヘッドを所定のトラックに追従させ
るだめに、予め情報記憶媒体にはトラッキングガイドが
設けられている。さらに情報を記録した位置を示すトラ
ック番号やセクタ位置を事前に記録しておけば、配録再
生装置によるンプトウエアが楽になるため、前記トラッ
キングガイドは信号情報用ビットを併せ備えだもの(プ
リフォーマツチイングイ」きトラッキングガイド)とな
っている。
上記トラッキングガイドとイに性情報用ピントd、表面
との凹凸によって形成されており、イとからの反射光量
の相違などを情報として読取るようになっている。よっ
てトラッキングガイドは、これから反射した光の回折・
平ターンによるトラックずれ検知信号を大きくして安定
したトラッキングができるように、例えば深さがλ/8
(λは読取用レーザー光の波長である。以下同じ)で、
幅が0.6〜0,8μm 程度の方形状の凹溝となって
いる。
との凹凸によって形成されており、イとからの反射光量
の相違などを情報として読取るようになっている。よっ
てトラッキングガイドは、これから反射した光の回折・
平ターンによるトラックずれ検知信号を大きくして安定
したトラッキングができるように、例えば深さがλ/8
(λは読取用レーザー光の波長である。以下同じ)で、
幅が0.6〜0,8μm 程度の方形状の凹溝となって
いる。
まだ信号情報用ビットは、最大の変調度(信号情報用ビ
ットの真上に読取り用レーザー光を照射したとき、そこ
からの反射光強度が最も小さいということ)をとれるよ
うに、深さがλ/4で、幅が読取用レーザー光のスーツ
トサイズの1/3程度に設定されている。
ットの真上に読取り用レーザー光を照射したとき、そこ
からの反射光強度が最も小さいということ)をとれるよ
うに、深さがλ/4で、幅が読取用レーザー光のスーツ
トサイズの1/3程度に設定されている。
このようなトラッキングガイドや信号情報用ビットを備
えた情報記憶媒体を多量に生産するためには、トラッキ
ングガイドや信号情報用ビットを形成すべき凹凸を備え
た原盤を作成し、この原板の凹凸を種々の工程によって
情報記憶媒体の基板表面に転湿することになる。
えた情報記憶媒体を多量に生産するためには、トラッキ
ングガイドや信号情報用ビットを形成すべき凹凸を備え
た原盤を作成し、この原板の凹凸を種々の工程によって
情報記憶媒体の基板表面に転湿することになる。
ところで、上記原盤の製造段階でトラッキングガイドと
信号情報用ビットを作るだめの方法としては次のものが
知られている。すなわち、表面を研磨したガラス基板上
にフォトレジスト層を形成し、信号情報用ビットを形成
する部分では充分な光量のレーザー光を照射することに
よって基板に到達するまで穴をあけ、トラッキングガイ
ドを形成する部分ではレーザー光の光量を減らしてフォ
トレジスト層の途中の深さまで溝を設けてゆく。
信号情報用ビットを作るだめの方法としては次のものが
知られている。すなわち、表面を研磨したガラス基板上
にフォトレジスト層を形成し、信号情報用ビットを形成
する部分では充分な光量のレーザー光を照射することに
よって基板に到達するまで穴をあけ、トラッキングガイ
ドを形成する部分ではレーザー光の光量を減らしてフォ
トレジスト層の途中の深さまで溝を設けてゆく。
このようにして深さの異なるトラッキングガイドと信号
情報用ビットと゛を形成する。しかしながら、フォトレ
ジスト層の感度はレーザー露光前のフォトレジスト層の
状態により異なったυ、或いtよトラッキングガイドの
深さが至る所で均一になるようにレーザー光の露光量を
制御することは極めて難しいため、トラッキングガイド
や信号情報用ビットを精度良く形成することができない
という問題点がちった。
情報用ビットと゛を形成する。しかしながら、フォトレ
ジスト層の感度はレーザー露光前のフォトレジスト層の
状態により異なったυ、或いtよトラッキングガイドの
深さが至る所で均一になるようにレーザー光の露光量を
制御することは極めて難しいため、トラッキングガイド
や信号情報用ビットを精度良く形成することができない
という問題点がちった。
また特開昭48−85025に記載されているように、
感度を異にするフォトレジスト層ヲIN Kt層形成し
てトラッキングガイドや信号情報用ピソトを設ける方法
があるが、フォトレジストは溶剤に溶けやすいので、溶
剤に溶かした数種の7オトレジストを積層して塗布する
とき、下地のフォトレジスト層が侵されやすいという問
題点があった。
感度を異にするフォトレジスト層ヲIN Kt層形成し
てトラッキングガイドや信号情報用ピソトを設ける方法
があるが、フォトレジストは溶剤に溶けやすいので、溶
剤に溶かした数種の7オトレジストを積層して塗布する
とき、下地のフォトレジスト層が侵されやすいという問
題点があった。
さらにフォトレジストを均一に複数層塗布することは技
術的に困難であるという問題点があった。
術的に困難であるという問題点があった。
さら、に、上述のような方法で製造された情報記憶媒体
用原盤はトラッキングガイドや信号情報用ビットの寸法
精度が悪いので、このような原盤によって量産された情
報記憶媒体からの情報の読取シを正確に行なうことがで
きないという問題点があった。
用原盤はトラッキングガイドや信号情報用ビットの寸法
精度が悪いので、このような原盤によって量産された情
報記憶媒体からの情報の読取シを正確に行なうことがで
きないという問題点があった。
本発明は上記事情に鑑みてなされたものであシ、比較的
容易な方法で作成することができるとともに、トラッキ
ングガイドと信号情報用ビットの精度が良好鬼へで、ひ
いては情報記憶媒体の生産性の向上と製造コストの低減
とを図ることのできる情報記憶媒体用原盤及びその製造
方法を提供することを目的とするものである。
容易な方法で作成することができるとともに、トラッキ
ングガイドと信号情報用ビットの精度が良好鬼へで、ひ
いては情報記憶媒体の生産性の向上と製造コストの低減
とを図ることのできる情報記憶媒体用原盤及びその製造
方法を提供することを目的とするものである。
第1の発明は記憶された情報をレーザー光によって読取
ることが可能な情報記憶媒体を製造するための原盤にお
いて、基板と、この基板上に設けられた信号情報形成層
と、この信号情報形成層上にこれと異なった材質で設け
られたトラッキングガイド形成層と、このトラッキング
ガイド形成層に形成されたトラッキングガイドと、前記
信号情報形成層に形成された信号情報用ビットとを具備
することを特徴とするものである。
ることが可能な情報記憶媒体を製造するための原盤にお
いて、基板と、この基板上に設けられた信号情報形成層
と、この信号情報形成層上にこれと異なった材質で設け
られたトラッキングガイド形成層と、このトラッキング
ガイド形成層に形成されたトラッキングガイドと、前記
信号情報形成層に形成された信号情報用ビットとを具備
することを特徴とするものである。
第2の発明は記憶された情報を集光したレーザー光によ
って読取ることが可能な情報記憶媒体の原盤を製造する
にあたり、少なくとも、基板上に信号情報形成層を設け
る第1工程と、前記信号情報形成層にこれと異なる材質
のトラッキングガイド形成層を設けるとともに、これに
トラッキングガイドを形成する第2工程と、前記ドラッ
ギングガイドをトレースしながら、前記信号情報形成層
の所望の位置に信号情報用ビットを設ける第3工程とを
含むことを特徴とするものである。
って読取ることが可能な情報記憶媒体の原盤を製造する
にあたり、少なくとも、基板上に信号情報形成層を設け
る第1工程と、前記信号情報形成層にこれと異なる材質
のトラッキングガイド形成層を設けるとともに、これに
トラッキングガイドを形成する第2工程と、前記ドラッ
ギングガイドをトレースしながら、前記信号情報形成層
の所望の位置に信号情報用ビットを設ける第3工程とを
含むことを特徴とするものである。
次に本発明を図面を参照しながら説明する。
第1図(a)〜(b)は本発明の第1の実施例たる製造
方法を工程順に示す断面図である。
方法を工程順に示す断面図である。
先ず、第1図(a)に示すように、表面を研磨したガラ
ス基板1上に信号情報形成層2を設ける。この信号情報
形成層2は、公知の真空蒸着法やスパッタ蒸着法などに
より、AI又はCuを厚さ700Xで形成されている。
ス基板1上に信号情報形成層2を設ける。この信号情報
形成層2は、公知の真空蒸着法やスパッタ蒸着法などに
より、AI又はCuを厚さ700Xで形成されている。
ここで、厚さ700χは一例であり、読取用レーザー光
の波長をλとした場合においてλ/8に相当するもので
ある。そして前記信号情報形成層2にネガタイプのフォ
トレジストをスピナコーティングしてフォトレジスト層
3を形成する。
の波長をλとした場合においてλ/8に相当するもので
ある。そして前記信号情報形成層2にネガタイプのフォ
トレジストをスピナコーティングしてフォトレジスト層
3を形成する。
そして、集光したレーザー光で前記フォトレジスト層3
0表面を同心円状又はスAイラル状に露光し、その後こ
れを現像定着して第1図(b)に示すように被露光部の
みを残す。このようにして残った被露光部がトラッキン
グガイドに対応するマスクである。
0表面を同心円状又はスAイラル状に露光し、その後こ
れを現像定着して第1図(b)に示すように被露光部の
みを残す。このようにして残った被露光部がトラッキン
グガイドに対応するマスクである。
次に第1図(c)に示すように、スパッタ蒸着法又は真
空蒸着法によシ前記フォトレジスト層3よりも薄く、例
えば厚さ700XでCr又はNiなどかう成るトラッキ
ングガイド形成層4を設ける。こノトキ、フォトレジス
ト層3の上方側部を露出するようにする。そして、有機
溶剤によって前記フォトレジスト層3を溶解してその上
部にあるトラッキングガイド形成層4を除去する(以下
却にリフトオフともいう)。これによって、前記信号情
報形成層2と直接密着しているトラッキングガイド形成
層4の部分だけが残ってトラッキングガイド5が形成さ
れる(第1図(d)参照)。
空蒸着法によシ前記フォトレジスト層3よりも薄く、例
えば厚さ700XでCr又はNiなどかう成るトラッキ
ングガイド形成層4を設ける。こノトキ、フォトレジス
ト層3の上方側部を露出するようにする。そして、有機
溶剤によって前記フォトレジスト層3を溶解してその上
部にあるトラッキングガイド形成層4を除去する(以下
却にリフトオフともいう)。これによって、前記信号情
報形成層2と直接密着しているトラッキングガイド形成
層4の部分だけが残ってトラッキングガイド5が形成さ
れる(第1図(d)参照)。
さらに、第1図(d)に示すように、再度フォトレジス
トをスピナコーティングしてフォトレジスト層6を形成
する。その後前記基板1をターンテーブルに載置して回
転し、対物レンズ7で集光したレーザービームスポット
により前述のトラッキングガイド5をトレースする。こ
のトレース中所留の位置で局所的にレーデ−光の光量を
増大してフォトレジスト露光部8を形成する。そしてこ
のフオドレジスト層6を現像定着し、これによって前記
フォトレジスト露光部8の位置に対応して前記信号情報
形成層2が局所的に露出される。
トをスピナコーティングしてフォトレジスト層6を形成
する。その後前記基板1をターンテーブルに載置して回
転し、対物レンズ7で集光したレーザービームスポット
により前述のトラッキングガイド5をトレースする。こ
のトレース中所留の位置で局所的にレーデ−光の光量を
増大してフォトレジスト露光部8を形成する。そしてこ
のフオドレジスト層6を現像定着し、これによって前記
フォトレジスト露光部8の位置に対応して前記信号情報
形成層2が局所的に露出される。
次に、第1図(、)に示すように、エツチング液によっ
て信号情報形成層2を局所的にエツチングして信号情報
用ピット9を形成する。なお前記エツチング液は、信号
情報形成層2がAI である場合には10チ水酸化す
l−IJウム液を使用し、Cu である場合にはクロ
ム酸48 g/l に硫酸3Iccを加えた溶液を使用
することが望ましい。
て信号情報形成層2を局所的にエツチングして信号情報
用ピット9を形成する。なお前記エツチング液は、信号
情報形成層2がAI である場合には10チ水酸化す
l−IJウム液を使用し、Cu である場合にはクロ
ム酸48 g/l に硫酸3Iccを加えた溶液を使用
することが望ましい。
そして有機溶剤によってフォトレジスト層6を完全に溶
解して除去すると、第1図(f)に示すようにドラッギ
ングがイド5と信号情報用ビット9とを備えた原盤が形
成されることになる。このような原盤は第1図(f)か
ら明らかなようにトラッキングガイド形成層及び信号情
報形成層の厚さによってトラッキングガイド及び信号情
報用ビットの深さ寸法が規制されているので、トラッキ
ングガイドや信号情報用ビットの深さが均一となってい
る。
解して除去すると、第1図(f)に示すようにドラッギ
ングがイド5と信号情報用ビット9とを備えた原盤が形
成されることになる。このような原盤は第1図(f)か
ら明らかなようにトラッキングガイド形成層及び信号情
報形成層の厚さによってトラッキングガイド及び信号情
報用ビットの深さ寸法が規制されているので、トラッキ
ングガイドや信号情報用ビットの深さが均一となってい
る。
上記のような方法によって情報記録媒体用原盤?製造す
れば以下のような特有の効果を発揮することができる。
れば以下のような特有の効果を発揮することができる。
(イ) トラッキングガイド形成層と信号情報形成層の
厚さは、予め均一にできるので、トラッキングガイドの
深さと信号情報用ビットの深さとを均一に精度良く形成
することができる。
厚さは、予め均一にできるので、トラッキングガイドの
深さと信号情報用ビットの深さとを均一に精度良く形成
することができる。
(ロ) トラッキングガイド形成層と信号情報形成層と
は異なる材質でできているため、信号情報用ビットの形
成に際してはトラッキングガイドに悪影響を及ぼすこと
がなく、ひいては信号情報用ぎットとトラッキングガイ
ドの形成を互いに独立して行なうことができ、製浩の容
易化を図ることができる。
は異なる材質でできているため、信号情報用ビットの形
成に際してはトラッキングガイドに悪影響を及ぼすこと
がなく、ひいては信号情報用ぎットとトラッキングガイ
ドの形成を互いに独立して行なうことができ、製浩の容
易化を図ることができる。
(ハ)信号情報用ピット形成時には、第1図(e)に示
すように、トラッキングガイドはフォトレジスト層によ
ってマスキングされているので、仮にトラッキングガイ
ド形成層の物質が信号情報形成層のエツチング液に侵さ
れ易くとも、トラッキングガイドが変形又は変質するこ
とがなく、ひいては製造の容易化に寄与することができ
る。
すように、トラッキングガイドはフォトレジスト層によ
ってマスキングされているので、仮にトラッキングガイ
ド形成層の物質が信号情報形成層のエツチング液に侵さ
れ易くとも、トラッキングガイドが変形又は変質するこ
とがなく、ひいては製造の容易化に寄与することができ
る。
に) トラッキングガイド形成層の形成後、リフトオフ
の工程によって極めて容易にトラッキングガイドを形成
することができる。
の工程によって極めて容易にトラッキングガイドを形成
することができる。
(ホ) トラッキングガイド形成層と基板との間に予め
信号情報形成層が設けられているので、トラッキングガ
イドを形成した後直ちに信号情報用ビットの形成に移行
でき、製造工程の簡素化と円滑な処理とを図ることがで
きる。
信号情報形成層が設けられているので、トラッキングガ
イドを形成した後直ちに信号情報用ビットの形成に移行
でき、製造工程の簡素化と円滑な処理とを図ることがで
きる。
しだがって上記方法で製造された情報記憶媒体用原盤に
あってはトラッキングガイドや信号情報用ビットの寸法
精度が良好であるので製品の(i軸性を向上させること
ができ、ひいてはこのような原盤によって量産された情
報記憶媒体からの情報の読取りを正確に行うことが可能
になる。
あってはトラッキングガイドや信号情報用ビットの寸法
精度が良好であるので製品の(i軸性を向上させること
ができ、ひいてはこのような原盤によって量産された情
報記憶媒体からの情報の読取りを正確に行うことが可能
になる。
次に、本発明の第2の実施例を図面を参照しながら謂、
明する。第2図(a)〜(d)は本発明の第2の実施例
たる製造方法を工程順に示す断面図である。
明する。第2図(a)〜(d)は本発明の第2の実施例
たる製造方法を工程順に示す断面図である。
先ず、第2図<a)に示すように、表面を研磨したガラ
ス基板l上に信号情報形成層2を設ける。この信号情報
形成層2は、公知の真空蒸着法やス・やツタ蒸着法など
によシ、例えばCr を厚さ700iで形成されてい
る。ここで、厚さ700 Kは一例であり、読取用レー
ザー光の波長をλとした場合においてλ/8に相当する
ものである。そして前記信号情報形成層2にトラッキン
グガイド形成層4を設ける。このトラッキングガイド形
成層4は真空蒸着法やスパッタ蒸着法などにより、例え
ばCuを厚さ700Xで形成したものである。そしてこ
のトラッキングガイド形成層4の上表面にフォトレジス
トをスピナーコーティングしてフォトレジスト層3を形
成する。さらに集光しだレージ”−光で前記フォトレジ
スト層3の表面を同心円状又はスパイラル状に露光し、
その後これを現像定着して前記フォトレジスト層3に同
心円状又はス・やイラル状の溝を形成する。
ス基板l上に信号情報形成層2を設ける。この信号情報
形成層2は、公知の真空蒸着法やス・やツタ蒸着法など
によシ、例えばCr を厚さ700iで形成されてい
る。ここで、厚さ700 Kは一例であり、読取用レー
ザー光の波長をλとした場合においてλ/8に相当する
ものである。そして前記信号情報形成層2にトラッキン
グガイド形成層4を設ける。このトラッキングガイド形
成層4は真空蒸着法やスパッタ蒸着法などにより、例え
ばCuを厚さ700Xで形成したものである。そしてこ
のトラッキングガイド形成層4の上表面にフォトレジス
トをスピナーコーティングしてフォトレジスト層3を形
成する。さらに集光しだレージ”−光で前記フォトレジ
スト層3の表面を同心円状又はスパイラル状に露光し、
その後これを現像定着して前記フォトレジスト層3に同
心円状又はス・やイラル状の溝を形成する。
次に、前記フォトレジスト層3をマスクとして前記トラ
ッキングガイド形成層4を局所的にエツチングし、トラ
ッキングガイド5を形成する(第2図(hl参照)。な
お、前記エツチング液としては、例えば37%塩化第2
鉄水溶液を使用した。そして残存しているフォトレジス
ト層3を有機溶剤で除去し、さらにその上に新たなフォ
トレジスト層6を形成する。その後第2図()、)に示
すよりに、前記基板1をターンテーブルに載置して回転
し、対物レンズ7で集光しだレージ′−ビームス?ット
により前述のトラッキングガイド5をトレースする。こ
のトレース中、所望の位置で局所的にレーザー光の光量
を増大してフォトレジスト露光s8を形成する。そして
このフォトレジスト層6を現像定着し、これによって前
記フォトレジスト露光部8の位置に対応して前記信号情
報形成層2が局所的に露出される。
ッキングガイド形成層4を局所的にエツチングし、トラ
ッキングガイド5を形成する(第2図(hl参照)。な
お、前記エツチング液としては、例えば37%塩化第2
鉄水溶液を使用した。そして残存しているフォトレジス
ト層3を有機溶剤で除去し、さらにその上に新たなフォ
トレジスト層6を形成する。その後第2図()、)に示
すよりに、前記基板1をターンテーブルに載置して回転
し、対物レンズ7で集光しだレージ′−ビームス?ット
により前述のトラッキングガイド5をトレースする。こ
のトレース中、所望の位置で局所的にレーザー光の光量
を増大してフォトレジスト露光s8を形成する。そして
このフォトレジスト層6を現像定着し、これによって前
記フォトレジスト露光部8の位置に対応して前記信号情
報形成層2が局所的に露出される。
次に、第2図(c)に示すように、局所的に露出されて
いるイバ号情報形成層2をエツチングして信号情報用ビ
ット9を形成する。エツチング液としては、例えば過マ
ンガン酸力+)50g/lにカセイソーダ15.9を加
えた溶液を使用することが望ましい。
いるイバ号情報形成層2をエツチングして信号情報用ビ
ット9を形成する。エツチング液としては、例えば過マ
ンガン酸力+)50g/lにカセイソーダ15.9を加
えた溶液を使用することが望ましい。
そして有機溶剤によってフォトレジスト層6を完全に溶
解して除去すると、第2図(d)に示すようにトラッキ
ングガイド5と信号情報用ビット9とを備えだ原盤が形
成されることになる。なおl・ラッキングガイド5の深
さは7oo1であり、読取用レーザー光の波長をλとし
た場合にはλ/8に相当している。また信号情報用ビッ
ト9の深さは14001であり、読取用レーデ−光の波
長をλとした場合にはλ/4に相当している。
解して除去すると、第2図(d)に示すようにトラッキ
ングガイド5と信号情報用ビット9とを備えだ原盤が形
成されることになる。なおl・ラッキングガイド5の深
さは7oo1であり、読取用レーザー光の波長をλとし
た場合にはλ/8に相当している。また信号情報用ビッ
ト9の深さは14001であり、読取用レーデ−光の波
長をλとした場合にはλ/4に相当している。
このような第2実施例によると、@1実施例による効果
のうちリフトオフによる特有の効果以外の全ての効果を
得ることがでなる。
のうちリフトオフによる特有の効果以外の全ての効果を
得ることがでなる。
次に本発明の第3の実施例を図面を参照しながら説明す
る。第3図(、)〜(d)は本発明の第3の実施例たる
製造方法を工程順に示す断面図である。
る。第3図(、)〜(d)は本発明の第3の実施例たる
製造方法を工程順に示す断面図である。
先ず、第31C<I (a)に示すように、表面を研磨
したガラス基板1上に信号情報形成層2を設ける。この
信号情報形成層2は、公知の真空蒸着法やスパッタ蒸着
法などによυ、例えばCr を厚さ7007゜で形成
されている。ここで、厚さ700Xは一例であり、読取
用レーデ−光の波長をλとした場合においてλ/8に相
当するものである。そして前記信号情報形成H2にトラ
ッキングガイド形成層4を設ける。仁のトラッキングガ
イド形成層4は真空蒸着法やスパッタ蒸着法などにより
、前記信号情報形成層2の構成材質よりも表面硬度の高
い材質例えばCu を厚さ700Xで形成したもので
ある。そして、機械的カッティングの刃例えばダイアモ
ンド針11で前記トラッキングガイド形成層に同心円状
又はス・ぞイラル状の溝を設けて深さ700にのトラッ
キングガイド5を形成する。なお信号情報形成層2はト
ラッキングガイド形成層4よりも硬質でおるので、ダイ
アモンド針は信号情報形成層2とトラッキングガイド形
成層4との境界面よりも深く入ることがない。このため
トラッキングガイド5の深さはトラッキングガイド形成
層4の厚さによって一義的に定まシ均一となる。
したガラス基板1上に信号情報形成層2を設ける。この
信号情報形成層2は、公知の真空蒸着法やスパッタ蒸着
法などによυ、例えばCr を厚さ7007゜で形成
されている。ここで、厚さ700Xは一例であり、読取
用レーデ−光の波長をλとした場合においてλ/8に相
当するものである。そして前記信号情報形成H2にトラ
ッキングガイド形成層4を設ける。仁のトラッキングガ
イド形成層4は真空蒸着法やスパッタ蒸着法などにより
、前記信号情報形成層2の構成材質よりも表面硬度の高
い材質例えばCu を厚さ700Xで形成したもので
ある。そして、機械的カッティングの刃例えばダイアモ
ンド針11で前記トラッキングガイド形成層に同心円状
又はス・ぞイラル状の溝を設けて深さ700にのトラッ
キングガイド5を形成する。なお信号情報形成層2はト
ラッキングガイド形成層4よりも硬質でおるので、ダイ
アモンド針は信号情報形成層2とトラッキングガイド形
成層4との境界面よりも深く入ることがない。このため
トラッキングガイド5の深さはトラッキングガイド形成
層4の厚さによって一義的に定まシ均一となる。
次に、第3図(b)に示すように前記トラッキングガイ
ド形成層4の上表面にフォトレジストラスビナコーティ
ングしてフォトレジスト層3余形成する。そして前記基
板lをターンテーブルに載置して回転し、対物レンズ7
で集光したレーデ−ビームスポットにより前述のトラッ
キングガイド5をトレースする。このトレース中所望の
位置で局所的にレーザー光の光量を増大してフォトレジ
スト露光部8を形成する。そしてこのフォトレジスト層
3を現像定着し、これによって前記フォトレジスト露光
部8の位置に対応して前記信号情報形成層2が局所的に
露出される。
ド形成層4の上表面にフォトレジストラスビナコーティ
ングしてフォトレジスト層3余形成する。そして前記基
板lをターンテーブルに載置して回転し、対物レンズ7
で集光したレーデ−ビームスポットにより前述のトラッ
キングガイド5をトレースする。このトレース中所望の
位置で局所的にレーザー光の光量を増大してフォトレジ
スト露光部8を形成する。そしてこのフォトレジスト層
3を現像定着し、これによって前記フォトレジスト露光
部8の位置に対応して前記信号情報形成層2が局所的に
露出される。
次に、第3図(c)に示すように、局D1的に露出され
ている信号情報形成層2をエツチングして信号情報用ビ
ット9を形城する。エツチング液としては、例えば過マ
ンガン酸カリ50g/lにカセイソーダ15gを加えた
溶液を使用した。
ている信号情報形成層2をエツチングして信号情報用ビ
ット9を形城する。エツチング液としては、例えば過マ
ンガン酸カリ50g/lにカセイソーダ15gを加えた
溶液を使用した。
そして有機溶剤によってフォトレジスト層3を完全に溶
解して除去すると、第3図(d)に示すようにトラッキ
ングガイド5と信号情報用ビット9とを備えた原盤が形
成されることになる。なお、トラッキングガイド5の深
さは700スであり、読取用レーザー光の波長をλとし
た場合にはλ/8に相当している。また信号情報用ビッ
ト9の深さは14oo1であり、読取用レーデ−光の波
長をλとした場合にはJ/4に相当している。
解して除去すると、第3図(d)に示すようにトラッキ
ングガイド5と信号情報用ビット9とを備えた原盤が形
成されることになる。なお、トラッキングガイド5の深
さは700スであり、読取用レーザー光の波長をλとし
た場合にはλ/8に相当している。また信号情報用ビッ
ト9の深さは14oo1であり、読取用レーデ−光の波
長をλとした場合にはJ/4に相当している。
このような第3実施例によっても前記第2実施例の場合
と殆んど同一の効果を得ることができる。
と殆んど同一の効果を得ることができる。
上記発明の各実施例は一例であり、本発明の要旨め範囲
内において種々の変形実施が可能である。
内において種々の変形実施が可能である。
例えば信号情報形成層、トラッキングガイド形成層の各
材質は上記各実施例に限定されるものではなく、例えば
第2の実施例においては、トラツキグガイド形成層をC
uとし、信号情報形成層を、ktとすることもできる。
材質は上記各実施例に限定されるものではなく、例えば
第2の実施例においては、トラツキグガイド形成層をC
uとし、信号情報形成層を、ktとすることもできる。
−また同じく第2の実施例においてトラッキングガイド
形成層をCuとし信号情報形成層をステンレスとするこ
ともできる。また第3の実施例において、トラッキング
ガイド形成層をCuとし、信号情報形成層をステンレス
とし、エツチング液として酸化第2鉄を用いることもで
きる。また、上記実施例においてはケミカルエツチング
上用いたが、その他にドライエツチングを用いることも
可能である。
形成層をCuとし信号情報形成層をステンレスとするこ
ともできる。また第3の実施例において、トラッキング
ガイド形成層をCuとし、信号情報形成層をステンレス
とし、エツチング液として酸化第2鉄を用いることもで
きる。また、上記実施例においてはケミカルエツチング
上用いたが、その他にドライエツチングを用いることも
可能である。
以上の説明から明らかなように本発明の情報記憶媒体用
原盤にあっては信号情報形成層とトラッキングガイド形
成層とは異なった材質で順次基板上に積層され、かつ各
層6厚さによってトラッキングガイド及び信号情報用ビ
ットの深さ寸法が規制されているので、トラッキングガ
イド及び信号情報形成層の寸法制度が良好であシ、その
結果原盤の信頼性を向上させることができ、ひいてはこ
のような原盤によって量産される情報記憶媒体からの情
報の読取シを正確に行なうことが可能になる・などの優
れた効果を有するものである。またこのような原盤を製
造するだめのものである本発明の情報記憶媒体用原盤の
製造方法にあっては、比較的容易な方法で作成すること
ができるとともに、トラッキングガイドと信号情報用ビ
ットとを精度良く形成することができ、ひいては情報記
憶媒体の生産性の向上と製造コストの低減とを図ること
ができるなどの優れた効果を有するものである。
原盤にあっては信号情報形成層とトラッキングガイド形
成層とは異なった材質で順次基板上に積層され、かつ各
層6厚さによってトラッキングガイド及び信号情報用ビ
ットの深さ寸法が規制されているので、トラッキングガ
イド及び信号情報形成層の寸法制度が良好であシ、その
結果原盤の信頼性を向上させることができ、ひいてはこ
のような原盤によって量産される情報記憶媒体からの情
報の読取シを正確に行なうことが可能になる・などの優
れた効果を有するものである。またこのような原盤を製
造するだめのものである本発明の情報記憶媒体用原盤の
製造方法にあっては、比較的容易な方法で作成すること
ができるとともに、トラッキングガイドと信号情報用ビ
ットとを精度良く形成することができ、ひいては情報記
憶媒体の生産性の向上と製造コストの低減とを図ること
ができるなどの優れた効果を有するものである。
第1図(、)〜(f)は、本発明の第1の実施例たる製
造方法を工程順に示す断面図、第2図(a)〜(d)は
本発明の第2の実施例たる製造方法を工程順に示す断面
図、第3図(、)〜(d)は本発明の第3の実施例たる
製造方法を工程順に示す断面図である。 1・・・基板、2・・・信号情報形成層、3・・・フォ
トレジスト層、4・・・トラッキングガイド形成層、5
・・・トラッキングガイド、6・・・フォトレジスト層
、7・・・対物レンズ、8・・・フォトレジスト露光部
1.9・・・信号情報用ビット、11・・・機械的)ツ
ティングの刃(ダイアモンド針)。 代理人弁理士 則 近 憲 佑 (ほか1名)
造方法を工程順に示す断面図、第2図(a)〜(d)は
本発明の第2の実施例たる製造方法を工程順に示す断面
図、第3図(、)〜(d)は本発明の第3の実施例たる
製造方法を工程順に示す断面図である。 1・・・基板、2・・・信号情報形成層、3・・・フォ
トレジスト層、4・・・トラッキングガイド形成層、5
・・・トラッキングガイド、6・・・フォトレジスト層
、7・・・対物レンズ、8・・・フォトレジスト露光部
1.9・・・信号情報用ビット、11・・・機械的)ツ
ティングの刃(ダイアモンド針)。 代理人弁理士 則 近 憲 佑 (ほか1名)
Claims (6)
- (1)記憶された情報をレーザー光によって読取ること
が可能な情報記憶媒体を製造するだめの原盤において、
基板と、この基板上に設けられた信号情報形成層と、こ
の信号情報形成層上にこれと異なった材質で設けられた
トラッキングガイド形成層と、このトラッキングガイド
形成層に形成されたトラッキングガイドと、前記信号情
報形成層に形成された信号情報用ビットとを具備するこ
とを特徴とする情報記憶媒体用原盤。 - (2)記憶された情報を集光したレーザー光によって読
取ることが可能な情報記憶媒体の原盤を製造するにあだ
シ、少なくとも、基板上に信号情報形成層を設ける第1
工程と、前記信号情報形成層にこれと異なる材質のトラ
ッキングガイド形成層を設けるとともに1これにトラッ
キングガイドを形成する第2工程と、前記トラッキング
ガイドをトレースしながら、前記信号情報形成層の所望
の位置に信号情報用ビットを設ける第3工程とを含むこ
とを特徴とする情報記憶媒体用原盤の製造方法。 - (3)前記第2工程は、前記信号情報形成層にトラッキ
ングガイドに対応するマスクを形成し、さらにこのマス
クよりも薄くトラッキングガイド形成層を設け、その後
前記マスクを除去するととにより同時にトラッキングガ
イドが形成されることを特徴とする特許請求の範囲第2
項記載の情報記憶媒体用原盤の製造方法。 - (4)前記第2工程は、前記信号情報形成層にトラッキ
ングガイド形成層を設けた後、このトラッキングガイド
形成層をエツチングして、ドラッギングガイドを形成す
ることを特徴とする/L¥8’F R?を求の範囲第2
項記載の情報記憶媒体用原盤の製造方法。 - (5) 前記第2工程は、前記信号情報形成層にトラ
ッキングガイド形成層を設けた後、このトラッキングガ
イド形成層を機械的にカッティングしてトラッキングガ
イドを形成することを特徴とする特許請求の範囲第2項
n13載の情報記憶媒体用原盤の製造方法。 - (6) 前記第3工程は、前記信号情報形成層をエツ
チングして信号情報用ビットを形成することを特徴とす
る特許請求の範囲@2項乃至第5項のいずれか1項に記
載の情報記憶媒体用原盤の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14260982A JPS5933644A (ja) | 1982-08-19 | 1982-08-19 | 情報記憶媒体用原盤とその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14260982A JPS5933644A (ja) | 1982-08-19 | 1982-08-19 | 情報記憶媒体用原盤とその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5933644A true JPS5933644A (ja) | 1984-02-23 |
Family
ID=15319304
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14260982A Pending JPS5933644A (ja) | 1982-08-19 | 1982-08-19 | 情報記憶媒体用原盤とその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5933644A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007305276A (ja) * | 2006-05-15 | 2007-11-22 | Sharp Corp | 微細パターンの形成方法、光ディスク用スタンパ及び光ディスク用基板並びに光ディスク媒体 |
-
1982
- 1982-08-19 JP JP14260982A patent/JPS5933644A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007305276A (ja) * | 2006-05-15 | 2007-11-22 | Sharp Corp | 微細パターンの形成方法、光ディスク用スタンパ及び光ディスク用基板並びに光ディスク媒体 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS5911551A (ja) | 光学式情報記憶媒体 | |
| JPH0363947A (ja) | 光ディスク原盤の作製方法 | |
| JP3490356B2 (ja) | 光記録媒体、並びに、光記録媒体用原盤およびその製造方法 | |
| US4925776A (en) | Optical memory element and manufacturing method thereof | |
| JPH01149243A (ja) | ディスク状光記録媒体の製造方法および製造用フォトマスク | |
| JPH0453015B2 (ja) | ||
| WO2003058616A1 (fr) | Procede de production d'une matrice de pressage destinee la production d'un support de donnees, matrice de donnees et matrice de pressage intermediaire dotee d'un disque maitre | |
| JPH11259910A (ja) | 光ディスクおよびその原盤製造方法 | |
| JP2644840B2 (ja) | 光ディスク | |
| JPS5933644A (ja) | 情報記憶媒体用原盤とその製造方法 | |
| JPH0512776B2 (ja) | ||
| JPH10241213A (ja) | 光ディスク用スタンパーの製造方法 | |
| EP1460626A1 (en) | Method for manufacturing stamper for information medium manufacture, stamper, and photoresist original disk | |
| US6071586A (en) | Manufacturing method of a master disk for forming an optical disk, and the master disk | |
| JP2566111B2 (ja) | 光磁気メモリ素子 | |
| JPS5933645A (ja) | 情報記憶媒体用原盤及びその製造方法 | |
| JPS5821335B2 (ja) | エンバンジヨウジヨウホウシンゴウキロクバイタイ | |
| JPS60147946A (ja) | 光メモリ素子の製造方法 | |
| JPH10241214A (ja) | 光ディスク用スタンパーの製造方法 | |
| JPS5940338A (ja) | 情報記憶媒体用原盤及びその製造方法 | |
| JP3749520B2 (ja) | 情報媒体製造用スタンパの製造方法、スタンパ、及び原盤付スタンパ中間体 | |
| JPS5940337A (ja) | 情報記憶媒体用原盤及びその製造方法 | |
| JPS5938947A (ja) | 情報記憶媒体用原盤 | |
| US7068585B2 (en) | Optical information recording medium | |
| JP3146766B2 (ja) | 光ディスク及び光ディスクの再生方法 |