JPS5941453B2 - 側鎖にスルホンアミド基を有するポリアミドおよびその製造法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は側鎖にスルホンアミド基を有する新規なポリア
ミドスルホンアミドに関する。

〔発明の背景〕

芳香族核にアミド結合が直接結合したいわゆる芳香族ポ
リアミドは、その分子鎖の剛直な故に、機械的特性、高
温での形状安定性、耐熱分解性、電気絶縁性などにすぐ
れ、耐熱性繊維や絶縁用フイルムとして工業的に−きわ
めて価値の高いものである。

しかし一般に芳香族ポリアミドは有機溶媒に対する溶解
性が悪く、例えばポリ（ｍ−フエニレンイソフタルアミ
ド）などはＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミドなどの極性溶
媒にも、数％の無機塩（例えば塩化リチウム、硝酸リチ
ウム、塩化カルシウムなど）の存在でのみ溶解するにす
ぎない。それ故それら芳香族ポリアミドからのフイルム
製造には種々の制限を免れなかつた。またそれら従来の
芳香族ポリアミドフイルムを半透膜として使用する際に
、その顕著な疎水性のため透水性が不充分であるなど特
性上の欠点も指摘された。〔発明の目的〕本発明は前記
従来の芳香族ポリアミドの欠点に鑑みなされたもので、
その目的は、芳香族ポリアミドが本来有する機械的強度
と耐熱性を保持し、有機溶媒に対する溶解性に優れ成膜
し易い材料を提供することであり、さらに水透過性の良
好な半透膜として有用な材料を提供することである。

〔発明の概要〕本発明の芳香族ポリアミドは、側鎖にス
ルホンアミド基を有するポリアミドで、その特徴は、少
なくとも０．５ｄｔ／ｇの還元粘度（溶媒、ジメチルア
セトアミド、濃度０．１ｇ／Ｄｔｌ３Ｏ℃）を有しかつ
下記の一般式で示される反復単位からなることである。

（式中Ａｒは芳香族核に結合するｎ個の ＳＯ２ＮＨ２基を有し、そのＳＯ２ＮＨ２基のそれぞれ
が結合するｎ個の炭素原子のそれぞれと非隣接の関係に
ある２個の炭素原子それぞれにおいてＮＨ基に結合して
いる２価の芳香族残基を表わし、Ｑは２価の芳香族もし
くは脂肪族の残基を表わす。

）具体的にはＡｒは―桑≦ 〜▼ＶＣ轟？番轟
Ｃ′ 会―（ｎは０または１、Ｘは−０−，−Ｓ−，一
ＳＯ２−または−ＣＨ２−である。

）から選ばれる２価の基であり、またＱはｍ−フエニレ
ン基、（Ｙは−０−，−ＳＯ２−または−ＣＯ−である
）、＋ＣＨ２》２〜８から選ばれる２価の基である。上
記した側鎖にスルホンアミド基を有する芳香族ポリアミ
ドは、対応する芳香族ジアミノスルホンアミド（Ｈ２Ｎ
−Ａｒ−ＮＨ２）と二塩基酸ハロゲン化物とを、不活性
溶媒中室温以下の温度において、重縮合させることによ
つて製造することができる。そのような芳香族ジアミノ
スルホンアミド（Ｈ２Ｎ−Ａｒ−ＮＨ２）を具体的に示
すと次の通りである。

３，５−ジアミノベンゼンスルホンアミドベンジジン一
２−スルホンアミド（４，４′−ジアミノジフエニル一
２−スルホンアミドと同義）これらのアミノスルホンア
ミドは２種以上併用することができる。

また他の原料成分（含Ｑ化合物）である二塩基酸ハロゲ
ン化物を具体的に示すと次の通りである。

イソフタル酸ハロゲン化物これらの二塩基酸ハロゲン化
物も２種以上併用することができる。

特に脂肪族ジカルボン酸ハロゲン化物には、芳香族ジカ
ルボン酸ハロゲン化物を併用することが膜の強度上有利
である。本発明の芳香族ポリイミドを製造する際に反応
媒体として、例えばＮ−メチル−２−ピロリドンＮ，Ｎ
−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、ヘキサメチルホスホルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホ
ルムアミドなど反応成分に対し不活性の溶媒が用いられ
る。

また、発生するハロゲン化水素を捕獲するために酸受容
体を使用してもよい。

酸受容体としては種々のものがあるが、一般には例えば
ピリジントリエチルアミン トリ−ｎ−ブチルアミン、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、キノリン、Ｎ−メチルモル
ホリン、Ｎ−エチルモリホリンなどの３級アミンが有用
である。本発明の芳香族ポリアミドは、前記芳香族ジア
ミノスルホンアミドと二塩基酸ハロゲン化物とを、不活
性溶媒中室温付近もしくはそれ以下の温度において反応
させることによつて製造される。

その際両反応成分を実質上等モルの比率（実際には、０
．２モル以下の範囲で増減があつても何ら差し支えない
。）で使用することが望ましく、かくすることによつて
高分子量の、すなわち高い還元粘度を示す芳香族ポリア
ミドを得ることができる。低分子量の芳香族ポリアミド
は成膜しがたく、たとえフイルムにできても機械的性質
に劣る。本発明においては、少なくとも０．５ｄｔ／ｇ
、なるべくは０．８ｄｔ／ｇ以上の還元粘度（溶媒、Ｎ
，Ｎ一ジメチルアセトアミド、濃度０．１ｇ／Ｄｔ．３
Ｏ℃測定）を有する芳香族ポリアミドが好適であり、充
分に反応させることが望ましい。前記に従い得られた芳
香族ポリアミドは、その赤外線吸収スペクトルの波数３
４００〜３２００ａｎ−１の領域にアミド基による吸収
、波数１３５０〜１３２０および１１７０〜１１５０α
−１の領域にスルホンアミド基による吸収を示し、元素
分析値も計算に合致した。

本発明の芳香族ポリアミドは、側鎖として極性の強いス
ルホンアミド基を有しており、この基によつて選択透過
性を膜に発現させ、また、芳香族核を含むポリアミド主
鎖の剛直性によつて膜に高い機械的強度をもたせてすぐ
れた耐王性を釘与している点で極めて特徴的である。

本発明の芳香族ポリアミドは、アミド類などの極性溶媒
に溶け易く、その溶液から慣性の手段により成膜するこ
とができる。

またそのフイルムは良好な水透過性、塩排除率を示し半
透膜として有用である。次に実施例によつて本発明を説
明する。〔発明の実施例〕実施例 １ 温度計、撹拌器、滴下ろう斗および塩化カルシウム管つ
き空冷管を備えた容量１ｔの四ロフラスコに、４，４′
−ジアミノジフエニルエーテル一２，２′−ジスルホン
アミド７１．６ｇｓＮ−メチル−２−ピロリドン５００
ｇおよび塩化リチウム２５ｇを入れ、内容物を撹拌し、
フラスコを氷浴で冷却する。

イソフタル酸クロライド４０．６ｇを徐々に加え、内容
物の温度を１０℃以下に保つた。添加終了後、反応温度
を７℃に保ち、６時間反応させた。その間溶液の粘度は
上昇した。この生成溶液を氷水中に注ぎ、生じたポリア
ミドの沈澱を粉砕し、液の酸性が認められなくなるまで
充分に水で洗浄した。最後にメタノールで洗浄し、淡灰
色をおびた白色の粉末を１２０℃で減圧乾燥した。収量
は９５ｇであつた。生成物の元素分析結果（かつこ内は
計算値）。

Ｃ５Ｏ．Ｏ％（４９．１８％）、Ｈ３．９％（３．２８
％）、Ｎｌｌ．５％（１１．４８％）、Ｓｌ２．ｌ％（
１３．１１％）上記芳香族ポリアミドは３００℃まで軟
化しなかつた。

またその赤外吸収イベクトルは図の如くである。

波数３３００？−１にアミド基による吸収、波数１３２
０ａｎ−１および１１５０？−１にスルホンアミ ｊド
による吸収が認められる。実施例 ２ 実施例１で得た芳香族ポリアミド粉末はＮ−メチル−２
−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ
−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎｌ−ジエチルホルムア
ミド、ジメ子ルスルホキサィドに可溶である。

この芳香族ポリアミドの還元粘度は１．５ｄｔ／ｇ（溶
媒ジメチルアセトアミド、濃度０．１ｇ／Ｄｔ溶液、温
度３０℃、以下測定条件同じ）であつた。

，この芳香族ポリアミドのジメチルアセトアミド２０％
溶液を作り、ガラス板上に流延し、１８０〜２００℃で
乾燥したフイルム（厚さ５０μ）を作製した。このフイ
ルムの引張り強度は１５ｋ９／Ｍ７ｉｌ伸び率は１０％
であつた。またこのフイルム Ｃは空気中で熱重量分析
（昇温速度５℃／ＭＯしたところ、４００℃まで減量し
なかつた。また芳香族ポリアミドを、塩化リチウム５％
を含むジメチルアセトアミドに溶解した］０％溶液をガ
ラス板上に流延し、１１０℃で１５分溶媒を蒸発させた
後氷水中に浸漬してゲル化させ透明な膜を得た。

この膜についてフイードとして５０００ＰＩ］１０）Ｎ
ａｃｔ水溶液を用い、操作圧力５０ｋｇ／ｄの条件下で
逆浸透実験を行つた。水透過量は１．７ｍ′／Ｍ゜・Ｄ
ａｙ、塩排除率６５％であつた。実施例 ３実施例１と
同様の装置を２組用意し、その各々に４，４−ジアミノ
ジフエニルエーテル一２，２′−ジスルホンアミド７１
．６、Ｎ−メチル−２−ピロリドン５００ｇおよび塩化
リチウム２５ｇを人右、内容物を撹拌し、一つのフラス
コは２０℃、他のフラスコは４０℃に保温する。

このフラスコ各々にイソフタル酸クロライド４０．６ｇ
を徐々に加え、６時間所定の温度に保つて反応を完結さ
せる。以下実施例１、並びに実施例２と同様にして、上
記芳香族ポリアミドの還元粘度、並びに形成させた乾燥
フイルムの引張り強度、伸びを測定した。その結果を表
に示す。実施例 ４ 実施例１と同様の装置に４，４′ジアミノジフエニルメ
タン一２，２′−ジスルホンアミド７１．２ｇ，Ｎ−メ
チル−２−ピロリドン２５０ｇ．．Ｎ，Ｎ−ジメチルア
セトアミド２５０ｇ、塩化リチウム２５ｇを入れ、内容
物を撹拌し、フラスコを氷浴で冷却しておく。

この中にイソフタル酸クロライド２８．４２ｇとテレフ
タル酸クロライド１２．１８ｇを徐々に加える。添加終
了後、８℃で５時間反応させた。生成溶液を実施例１と
同様に処理して芳香族ポリアミド粉末９４ｇを得た。こ
の芳香族ポリアミドの還元粘度は２．４ｄｔ／ｇであつ
た。また熱重量分析による減量開始温度は３５０℃であ
つた。元素分析結果（かつこ内は計算値） Ｃ５Ｏ．５％（４９．１８％）、Ｈ４．Ｏ％（３．２８
（：Ｆ６）、Ｎｌｌ．Ｏ％（１１．４８０１））、Ｓｌ
ｌ，５％（１３．１１％）この芳香族ポリアミドはＮ−
メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミ
ド、Ｎ，Ｎ−ジメ手ルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル
ホルムアミド、ジメチルスルホキシドに可溶であつた。

実施例 ５実施例１と同様の装置をとりつけた四ロフラ
スコに、３，５−ジアミノベンゼンスルホンアミド１８
．７ｇ１Ｎ−メチル−２−ピロリドン２００ｇ１塩化リ
チウム１０ｇを入八内容物を撹拌し、フラスコを氷浴で
冷却しておく。

４，４′−ジフエニルエーテルジカルボン酸クロライド
２９．５ｇを徐徐に加え、添加終了後、７℃で５時間反
応させた。

この溶液を実施例１と同様に処理して、芳香族ポリアミ
ド粉末３９ｇを得た。この芳香族ポリアミドの還元粘度
は２．０５ｄｔ／ｇであつた。赤外分光分析の結果、波
数３３００ｃｍ−１はアミド基の吸収１１５０ｃｆｎ−
１並びに１３２０ｃ１ｎ−１にスルホンアミドの吸収が
認められた。実施例 ６ 実施例１と同様の装置に、４，４′−ジアミノジフエニ
ル一２−スルホンアミド１３２．５ｇ，．Ｎ−メチルピ
ロリドン５００ｇ１塩化リチウム２５ｇを人れ内容物を
撹拌し、フラスコを氷浴で冷却しておく。

この中にアジピン酸クロライド９１ｇを徐々に加える。
添加終了後． １０℃以下の温度で５時間反応させた。
生成溶液を実施例１と同様に処理して芳香族ポリアミド
粉末１２０ｇを得た。この芳香族ポリアミドの還元粘度
は１．０５ｄｔ／ｇであつた。元素分析結果（かつこ内
は計算値） Ｃ５８．５％（５７．９％）、Ｈ５．Ｏ％（５．１％）
、ＮｌＯ．９％（１１．３％）、Ｓ８．Ｏ％（８．６％
）赤外分光分析の結果、波数３３００ａｎ−１のアミド
基吸収、１１５０ａｎ−１および１３３０ａｎ−１にス
ルホンアミドの吸収が認められた。

このポリアミドはＮ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ
−ジメ手ルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシドに可溶であつた。この芳香族
ポリアミドのフイルムの引張り強度は１２ｋ９／ｍ丈伸
びは６％であつた。実施例 ７ 実施例１と同様のフラスコに、４，４′−ジアミノジフ
エニルエーテル一２−スルホンアミド２７．９ｇ，．Ｎ
−メチル−２−ピロリドン２００ｇ、塩化リチウム１０
ｇを人れて、内容物を撹拌し、フラスコを氷浴で冷却し
ておく。

この中にイソフタル酸クロライド２０．３ｇを徐々に加
え、添加終了後、７℃で６時間反応させた。実施例１と
同様に処理し、芳香族ポリアミド粉末３８ｇを得た。こ
の芳香族ポリアミドの還元粘度は１．６５ｄｔ／ｇであ
つた。そのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド溶液から実施
例１と同様にして調製した。フイルムの引張強度は１１
ｋｇ／ＭｉｌＳ伸び率は１３％であつた。実施例 ８ 実施例１と同様のフラスコに、４，４′−ジアミノジフ
エニルエーテル一２，２′−ジスルホンアミド７１．６
ｇ．．Ｎ−メチル−２−ピロリドン５００ｇ、塩化リチ
ウム２５ｇを人れ、内容物を撹拌し、フラスコを氷浴で
冷却しておく、４，４′−ジフエニルスルホンジカルボ
ン酸クロライド６８．４ｇを徐々に加え、添加終了後、
７℃で５時間反応させた。

この溶液を実施例１と同様に処理した、芳香族ポリアミ
ド粉末１３０ｇを得た。この芳香族ポリアミドはＮ−メ
チルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキサイドに可溶である。

このポリアミドの還元粘度は１．３ｄｔ／ｇであつた。

赤外分光分析の結果、波数３３００ａｎ−１はアミド基
の吸収１１５０？−１並びに１３２０ａ１−１にスルホ
ンアミドの吸収が認められた。このポリアミドのＮ−メ
チルピロリドン１５％溶液をつくり、ガラス板上に流延
し、１５０〜２００℃で乾燥したフイルム（厚さ４０μ
ｍ）を作製した。

このフイルムの引張り強度は１２ｋ９／砥伸び率は８％
であつた。またこのフイルムは空気中で熱重量分析した
ところ、３８０℃まで減量しなかつた。実施例 ９ 実施例１と同様のフラスコに、４，４′−ジアミノジフ
エニルエーテル一２，２′−ジスルホンアミド７１．６
ｇ．Ｎ−メチル−２−ピロリドン５００ｇ、塩化リチウ
ム２５ｇを入れ、内容物を撹拌し、フラスコを氷浴で冷
却しておく、４，４′−ジフエニルスルホンジカルボン
酸クロライド６１．２ｇを徐々に加え、添加終了後、７
℃で５時間反応させた。

この溶液を実施例１と同様に処理して、芳香族ポリアミ
ド粉末１２０ｇを得た。この芳香族ポリアミドはＮ−メ
チルピロリドンＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ
−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキサイドに可溶である。

このポリアミドの還元粘度は１．８ｄｔ／ｇであつた。

赤外分光分析の結果、波数３３００ＣＴＬ−１はアミド
基の吸収１１５０ｃ１ｎ−１並びに１３２００ｎ−１に
スルホンアミドの吸収が認められた。このポリアミドの
Ｎ−メチルピロリドン１５％溶液をつくり、ガラス板上
に流延し、１５０〜２００℃で乾燥してフイルム（厚さ
４０〃ｍ）を作製した。

このフイルムの引張り強度は１３ｋ９／ＣＩＩ！．伸び
率は９％であつた。またこのフイルムは空気中で熱重量
分析したところ、３８０℃まで減量Ｌなかつた。実施例
１０ 実施例１と同様の装置に、４，４−ジアミノジフエニル
エーテル一２−スルホンアミド２７９ｇ．．Ｎ−メチル
−２−ピロリドン２００ｇ１塩化り千ウム１０ｇを入わ
内容物を撹拌し、フラスコを氷浴で冷却しておく。

この中にコハク酸クロライド１５．４ｇを徐々に加える
。添加終了後、１０℃以下の温度で５時間反応させた。
生成溶液を実施例１と同様に処理して芳香族ポリアミド
粉末４０ｇを得た。この芳香族ポリアミドの還元粘度は
１．０ｄｔ／ｇであつた。元素分析結果（かつこ内は計
算値） Ｃ５４．Ｏ％（５３．２％）、Ｈ４．Ｏ％（４．２％）
、Ｎｌｌ．５％（１１。

６％）、Ｓ８．ｌ％（８．９％）赤外分光分析の結果、
波数３３００ａｎ−１のアミド基吸収、１１５０ａｎ−
１および１３３０Ｃ７！Ｌ−１にスルホンアミドの吸収
が認められた。

このポリアミドはＮ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ
−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、ジメ手ルスルホキシドに可溶であつた。この芳香族
ポリアミドのフイルムの引張り強度は１２ｋ９／Ｍｉ７
Ｌ、伸びは５％であつた。実施例 １１ 実施例１と同様の装置に、４，４′−ジアミノジフエニ
ルエーテル一２−スルホンアミド２７．９ｇ，Ｎ−メチ
ルピロリドン２００ｇ、塩化リチウム１０ｇを入れ内容
物を撹拌し、フラスコを氷浴で冷却しておく。

この中にセバシン酸クロライド２３．８ｇを徐々に加え
る。添加終了後、１０℃以下の温度で５時間反応させた
。生成溶液を実施例１と同様に処理して芳香族ポリアミ
ド粉末４５ｇを得た。この芳香族ポリアミドの還元粘度
は１．５ｄｔ／ｇであつた。元素分析結果（かつこ内は
計算値） Ｃ６Ｏ．Ｏ％（５９．３％）、Ｈ６，Ｏ％（６．１％）
、Ｎ９．ｌ％（９。

４％）、Ｓ６．９％（７．２％）赤外分光分析の結果、
波数３３００ａｎ−１のアミド基吸晩１１５０ａｎ−１
および１３３０ａｎ−１にスルホンアミドの吸収が認め
られた。

このポリアミドはＮ−メチル−２−ピロリドン Ｎ，Ｎ
−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシドに可溶であつた。この芳香族
ポリアミドのフイルムの引張り強度は９ｋ９／ｍ丈伸び
は８％であつた。実施例 １２ 実施例１と同様のフラスコに、４，４′−ジアミノジフ
エニルサルフアイド一２，２′−ジスルホンアミド７４
．８ｇ．Ｎ−メチル−２−ピロリドン５００ｇ、塩化リ
チウム２５ｇを人れ、内容物を撹拌し、フラスコを氷浴
で冷却しておく。

このフラスコに、イソフタル酸クロライド４０．６ｇを
徐徐に加え、添加終了後、７℃で５時間反応させた。こ
の溶液を実施例１と同様に処理して、芳香族ポリアミド
粉末１３２ｇを得た。この芳香族ポリアミドはＮ−メチ
ルピロリドンＮ−Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド Ｎ−Ｎ−ジエチルホルムアミド
ジメチルスルホキサイドに可溶である。

このポリアミドの還元粘度は１．５ｄｔ／ｇであつた。

赤外分光分析の結果、波長３３００ＣＴＩＩ−１にアミ
ド基の吸収、１１５０ａｎ−１並びに１３２０ａＬ−１
にスルホンアミドの吸収が認められた。この芳香族ポリ
アミドのＮ−メチルピロリドン１５％溶液をつくり、ガ
ラス板上に流延し、１５０〜２００℃で乾燥してフイル
ム（厚さ３５μｍ）を作製した。このフイルムの引張り
強度は１６ｋｇ／Ｃｍｌ、伸び率は５％であつた。また
このフイルムに空気中で加熱したところ、４１０℃まで
減量しなかつた。〔発明の効果〕 以上説明したように、本発明によれば芳香族ポリアミド
が本来有する機械的強度と耐熱性を保持し、有機溶媒に
対する溶解性に優れ成膜し易い材料が得られるという効
果がある。

【図面の簡単な説明】

図は赤外吸収スペクトルである。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 少なくとも０．５ｄｌ／ｇの還元粘度（溶媒、ジメ
   チルアセトアミド、濃度０．１ｇ／ｄｌ、３０℃）を有
   しかつ下記の一般式で示される反復単位からなる芳香族
   ポリアミド。 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中Ａｒは ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
   表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼ （ｎは０または１、ＸはＯ、Ｓ、ＳＯ＿２またはＣＨ＿
   ２である）から選ばれる２価の基であり、またＱはｍ−
   フェニレン基、ｐ−フェニレン基、▲数式、化学式、表
   等があります▼（Ｙは、Ｏ、ＳＯ＿２またはＣＯである
   ）、▲数式、化学式、表等があります▼から選ばれる２
   価の基である。 ）２ （Ａ）一般式Ｈ＿２Ｎ−Ａｒ−ＮＨ＿２（式中Ａ
   ｒは▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学
   式、表等があります▼、（ｎは０または１、ＸはＯ、Ｓ
   、ＳＯ＿２またはＣＨ＿２である）から選ばれる２価の
   基である）で示される芳香族ジアミノスルホンアミドと
   、（Ｂ）二塩基酸ハロゲン化物とを、不活性溶媒中室温
   以下の温度において重縮合させることを特徴とする、少
   なくとも０．５ｄｌ／ｇの還元粘度（溶媒、ジメチルア
   セトアミド、濃度０．１ｇ／ｄｌ、３０℃）を有しかつ
   下記の一般式で示される反復単位からなる芳香族ポリア
   ミドの製造法。 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中Ａｒ、ｎは上記（Ａ）の定義の通りであり、また
   Ｑはｍ−フェニレン基、ｐ−フェニレン基▲数式、化学
   式、表等があります▼（ＹはＯ、ＳＯ＿２またはＣＯで
   ある）、▲数式、化学式、表等があります▼から選ばれ
   る２価の基である。 ）