JPS5942390A - セフアロスポリン化合物の製造法 - Google Patents
セフアロスポリン化合物の製造法Info
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- -1 cephalosporin compound Chemical class 0.000 title claims description 14
- 229930186147 Cephalosporin Natural products 0.000 title claims description 6
- 229940124587 cephalosporin Drugs 0.000 title claims description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 99
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims abstract description 35
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 19
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 16
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims abstract description 14
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims abstract description 9
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 claims abstract description 9
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 8
- 125000005002 aryl methyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 8
- 125000006615 aromatic heterocyclic group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N acetic acid Substances CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 46
- 239000012038 nucleophile Substances 0.000 claims description 16
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 14
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 13
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 11
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 10
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 8
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 8
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims description 4
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims 2
- FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N potassium nitrate Chemical compound [K+].[O-][N+]([O-])=O FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- UQLLWWBDSUHNEB-CZUORRHYSA-N Cefaprin Chemical compound N([C@H]1[C@@H]2N(C1=O)C(=C(CS2)COC(=O)C)C(O)=O)C(=O)CSC1=CC=NC=C1 UQLLWWBDSUHNEB-CZUORRHYSA-N 0.000 claims 1
- 229910001516 alkali metal iodide Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229940081090 cefa Drugs 0.000 claims 1
- 150000001780 cephalosporins Chemical class 0.000 claims 1
- 235000010333 potassium nitrate Nutrition 0.000 claims 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 abstract description 7
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 230000000269 nucleophilic effect Effects 0.000 abstract description 5
- 239000002994 raw material Substances 0.000 abstract description 5
- 239000003242 anti bacterial agent Substances 0.000 abstract description 4
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 abstract 1
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 57
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 43
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000012456 homogeneous solution Substances 0.000 description 17
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 15
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 15
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 14
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 9
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 9
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 9
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 9
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M sodium;chloride;hydrate Chemical class O.[Na+].[Cl-] HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 8
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 7
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 7
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 5
- RTEXIPZMMDUXMR-UHFFFAOYSA-N benzene;ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O.C1=CC=CC=C1 RTEXIPZMMDUXMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- MDHYEMXUFSJLGV-UHFFFAOYSA-N beta-phenethyl acetate Natural products CC(=O)OCCC1=CC=CC=C1 MDHYEMXUFSJLGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 5
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical class [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 4
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 4
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N phenylbenzene Natural products C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 4
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N Acetic anhydride Chemical compound CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 3
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 description 3
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Chemical compound BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 3
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 125000005982 diphenylmethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])(*)C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 3
- NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M potassium iodide Chemical compound [K+].[I-] NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 125000006239 protecting group Chemical group 0.000 description 3
- FVAUCKIRQBBSSJ-UHFFFAOYSA-M sodium iodide Chemical compound [Na+].[I-] FVAUCKIRQBBSSJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 3
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 101150041968 CDC13 gene Proteins 0.000 description 2
- LVRCEUVOXCJYSV-UHFFFAOYSA-N CN(C)S(=O)=O Chemical compound CN(C)S(=O)=O LVRCEUVOXCJYSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BWGNESOTFCXPMA-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen disulfide Chemical compound SS BWGNESOTFCXPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N Formamide Chemical compound NC=O ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NVGBPTNZLWRQSY-UWVGGRQHSA-N Lys-Lys Chemical compound NCCCC[C@H](N)C(=O)N[C@H](C(O)=O)CCCCN NVGBPTNZLWRQSY-UWVGGRQHSA-N 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N Trichloro(2H)methane Chemical compound [2H]C(Cl)(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N 0.000 description 2
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003668 acetyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)O[*] 0.000 description 2
- 229910001963 alkali metal nitrate Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 2
- 229940088710 antibiotic agent Drugs 0.000 description 2
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 2
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 2
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 2
- 230000020176 deacylation Effects 0.000 description 2
- 238000005947 deacylation reaction Methods 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 2
- 108010054155 lysyllysine Proteins 0.000 description 2
- MBABOKRGFJTBAE-UHFFFAOYSA-N methyl methanesulfonate Chemical compound COS(C)(=O)=O MBABOKRGFJTBAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 2
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000002516 radical scavenger Substances 0.000 description 2
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 2
- VWDWKYIASSYTQR-UHFFFAOYSA-N sodium nitrate Chemical compound [Na+].[O-][N+]([O-])=O VWDWKYIASSYTQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FADJIMDKDQYNCG-UHFFFAOYSA-N 1h-azet-2-one Chemical compound O=C1NC=C1 FADJIMDKDQYNCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 2-Methylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N Chlorine Chemical compound ClCl KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100025027 E3 ubiquitin-protein ligase TRIM69 Human genes 0.000 description 1
- 101100145155 Escherichia phage lambda cIII gene Proteins 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101000830203 Homo sapiens E3 ubiquitin-protein ligase TRIM69 Proteins 0.000 description 1
- KDXKERNSBIXSRK-UHFFFAOYSA-N Lysine Natural products NCCCCC(N)C(O)=O KDXKERNSBIXSRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004472 Lysine Substances 0.000 description 1
- NIPNSKYNPDTRPC-UHFFFAOYSA-N N-[2-oxo-2-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethyl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(CNC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 NIPNSKYNPDTRPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007832 Na2SO4 Substances 0.000 description 1
- 235000008753 Papaver somniferum Nutrition 0.000 description 1
- 240000001090 Papaver somniferum Species 0.000 description 1
- 241000219289 Silene Species 0.000 description 1
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical class [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 125000006242 amine protecting group Chemical group 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 description 1
- UAZSJWADJKHHSJ-CYBMUJFWSA-N benzyl (6R)-8-oxo-5-thia-1-azabicyclo[4.2.0]oct-2-ene-2-carboxylate Chemical compound C(C1=CC=CC=C1)OC(=O)C1=CCS[C@H]2N1C(C2)=O UAZSJWADJKHHSJ-CYBMUJFWSA-N 0.000 description 1
- BXJMTCVRAHYQLE-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-ethylbut-3-enoate Chemical compound CCC(C=C)C(=O)OCC1=CC=CC=C1 BXJMTCVRAHYQLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004369 butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 1
- 229910052918 calcium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001733 carboxylic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 125000006244 carboxylic acid protecting group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000012230 colorless oil Substances 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 125000006182 dimethyl benzyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- MYWUZJCMWCOHBA-VIFPVBQESA-N methamphetamine Chemical compound CN[C@@H](C)CC1=CC=CC=C1 MYWUZJCMWCOHBA-VIFPVBQESA-N 0.000 description 1
- VUQUOGPMUUJORT-UHFFFAOYSA-N methyl 4-methylbenzenesulfonate Chemical compound COS(=O)(=O)C1=CC=C(C)C=C1 VUQUOGPMUUJORT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004923 naphthylmethyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)C* 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 125000000636 p-nitrophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)[N+]([O-])=O 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M potassium benzoate Chemical class [K+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 125000005630 sialyl group Chemical group 0.000 description 1
- URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N sodium aluminosilicate Chemical compound [Na+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000009518 sodium iodide Nutrition 0.000 description 1
- 235000010344 sodium nitrate Nutrition 0.000 description 1
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L sodium thiosulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=S AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000019345 sodium thiosulphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 229950005792 tenoate Drugs 0.000 description 1
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D501/00—Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
- C07D501/02—Preparation
- C07D501/08—Preparation by forming the ring or condensed ring systems
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
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- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、セファロスポリン化合物の製造法に関する。
より詳しくは、本発明は、一般式〔式中、Ｒはアル＋ル
基、アルケニル基、置換もしくは非置換のアリール基、
置換もしくは非置換のアリールメチル基又は置換もしく
は非置換のフェノ＋ジメチル基を示し、Ｒはカルボ十シ
ル基又は保護されたカルボ十シル基を示し、Ｙは求核剤
残基を示す。〕 で表わされるしファＤスポリン化合物の製造法に関する
。
基、アルケニル基、置換もしくは非置換のアリール基、
置換もしくは非置換のアリールメチル基又は置換もしく
は非置換のフェノ＋ジメチル基を示し、Ｒはカルボ十シ
ル基又は保護されたカルボ十シル基を示し、Ｙは求核剤
残基を示す。〕 で表わされるしファＤスポリン化合物の製造法に関する
。
一般式（■）で表わされるセファロスポリン化合物は、
抗菌作用を有し、抗菌剤として有用な化合物である。ま
た、該化合物は、７位ア三ド、基の脱アシル化及び再ア
シル化により、一般に広く使用されているセファ０スポ
リシ系抗生物質へと変換できる重要な合成中間体である
。
抗菌作用を有し、抗菌剤として有用な化合物である。ま
た、該化合物は、７位ア三ド、基の脱アシル化及び再ア
シル化により、一般に広く使用されているセファ０スポ
リシ系抗生物質へと変換できる重要な合成中間体である
。
本発明の目的とする所は、上記一般式（Ｈのセファロス
ポリン化合物を安価で入手容易な原料化合物から簡便な
操作で、高純度且つ高収率にて製造し得る方法を提供す
ることにある。
ポリン化合物を安価で入手容易な原料化合物から簡便な
操作で、高純度且つ高収率にて製造し得る方法を提供す
ることにある。
上記一般式（Ｖ）において、Ｒで表わされるアル＋ル基
としては、メチル、エチル、づ０じル、イソづ０じル、
ブチル、ｌ−ブチル等の炭素数１−４の低級アル＋ル基
を例示でき、アルケニル基トシて、アリル、ブテニル、
へ十寸ニル等の炭素数２−６の低級アルケニル基を例示
できる。またアリール基としては、フェニル、ナフチル
等を、置換アリール基としては、置換基として、低級ア
ル＋ル基、ハロゲン原子、ニド０基、低級アル十ルオ十
シ基等を芳香族環状に有するフェニル基、例えばトリル
、十シリル、ｐ−り００フエニル、戸−ニトロフェニル
、ｐ−メト中ジフェニル等が例示できる。アリールメチ
ル基としては、ベンジル、ナフチルメチル等を、置換ア
リールメチル基としでは、置換基として低級アル十ル基
、ハロゲン原子、ニドＯ爪、低級アル＋ルオ＋シ基等を
フロフェニルメチル、ｐ−メト＋ジフェニルメチル等が
例示できる。置換もしくは非置換のフェノ＋ジメチル基
としては、フェノ＋ジメチル基、置換基として低級Ｐル
＋ル基、ハロゲン原子、ニトロル、戸−り００フエノ＋
シメチｊし、ｐ−二ｌ−ｏフェノ＋ジメチル、戸−メト
＋ジフェニルメチル等を例示できる。
としては、メチル、エチル、づ０じル、イソづ０じル、
ブチル、ｌ−ブチル等の炭素数１−４の低級アル＋ル基
を例示でき、アルケニル基トシて、アリル、ブテニル、
へ十寸ニル等の炭素数２−６の低級アルケニル基を例示
できる。またアリール基としては、フェニル、ナフチル
等を、置換アリール基としては、置換基として、低級ア
ル＋ル基、ハロゲン原子、ニド０基、低級アル十ルオ十
シ基等を芳香族環状に有するフェニル基、例えばトリル
、十シリル、ｐ−り００フエニル、戸−ニトロフェニル
、ｐ−メト中ジフェニル等が例示できる。アリールメチ
ル基としては、ベンジル、ナフチルメチル等を、置換ア
リールメチル基としでは、置換基として低級アル十ル基
、ハロゲン原子、ニドＯ爪、低級アル＋ルオ＋シ基等を
フロフェニルメチル、ｐ−メト＋ジフェニルメチル等が
例示できる。置換もしくは非置換のフェノ＋ジメチル基
としては、フェノ＋ジメチル基、置換基として低級Ｐル
＋ル基、ハロゲン原子、ニトロル、戸−り００フエノ＋
シメチｊし、ｐ−二ｌ−ｏフェノ＋ジメチル、戸−メト
＋ジフェニルメチル等を例示できる。
また、Ｒで表わされる保護されたカルボ＋シル基として
は、一般式Ｃ０ＯＲで表わされるエステ５し、一般式Ｃ
０ＨＨＲ’ で表わされる酸アミド等を例示できる。
は、一般式Ｃ０ＯＲで表わされるエステ５し、一般式Ｃ
０ＨＨＲ’ で表わされる酸アミド等を例示できる。
上記Ｒパとしては、メチル、２．２．２−トリクＤＯエ
チ１し、ジフェニルメチル、ヘンシル、戸−ニトロベン
ジル、イソブチル、ｌ−ブチル等の通常のカルボン酸保
護基が例示できる。
チ１し、ジフェニルメチル、ヘンシル、戸−ニトロベン
ジル、イソブチル、ｌ−ブチル等の通常のカルボン酸保
護基が例示できる。
また、Ｙで表わされる求核剤残基としては、一５Ｒで表
わされる基、水酸基、保護された水酸基、ニトロオ＋シ
基（−ＱＮＯ２）−４を例示できる。
わされる基、水酸基、保護された水酸基、ニトロオ＋シ
基（−ＱＮＯ２）−４を例示できる。
上記Ｒとしては、ハロゲン原子を置換基として有するこ
とのある炭素数１−４の低級アル＋ル基、例えばメチル
、エチル、づ口じル、イソづＯじル、ブチル、ｌ−づチ
ル又はフェニル基又はＩｆ置換基して低級アル＋ル基、
ハロゲン原子、ニドＤ基、低級アル＋ルオ十シ基等を有
するフェニル基、例えばトリＪし、戸−り００フエニル
、戸−二トＯフェニル、戸−メト＋ジフェニル等を例示
できる。
とのある炭素数１−４の低級アル＋ル基、例えばメチル
、エチル、づ口じル、イソづＯじル、ブチル、ｌ−づチ
ル又はフェニル基又はＩｆ置換基して低級アル＋ル基、
ハロゲン原子、ニドＤ基、低級アル＋ルオ十シ基等を有
するフェニル基、例えばトリＪし、戸−り００フエニル
、戸−二トＯフェニル、戸−メト＋ジフェニル等を例示
できる。
またＲ は、上記Ｒと同一か又は置換もしくは非置換の
芳香族複素ＰＪ残基、例えば 上記において、Ｒとしては水酸基、カルボ＋シル基若し
くはアミンの保護基、例えばメチル、エチル、プＤヒル
尋の低級アル＋ル基１等を例示できは前記に同じ。〕を
例示できる。
芳香族複素ＰＪ残基、例えば 上記において、Ｒとしては水酸基、カルボ＋シル基若し
くはアミンの保護基、例えばメチル、エチル、プＤヒル
尋の低級アル＋ル基１等を例示できは前記に同じ。〕を
例示できる。
本発明によれば、上記一般式（Ｖ）のセファ０スポリン
化合物は、以下の如くして製造できる。
化合物は、以下の如くして製造できる。
即ち、一般式
〔式中、Ｒ及びＲは前記に同じ。〕
で表わされるチアソリノアセチジノン誘導体を、後述す
る方法により、求核剤と反応させて二重結合の位置を変
えることなく、求核剤残基を導入して、一般式 〔式中、Ｒ１、Ｒ２及びＹは前記に同じ。〕で表わされ
るチアリリノアセチジノン誘導体金得る。
る方法により、求核剤と反応させて二重結合の位置を変
えることなく、求核剤残基を導入して、一般式 〔式中、Ｒ１、Ｒ２及びＹは前記に同じ。〕で表わされ
るチアリリノアセチジノン誘導体金得る。
次いで、該化合物を含水溶媒中、一般式％式％（）
〔式中、Ｚは置換もしくは非置換のアリール基又は置換
もしくは非置換の芳香族複素環残基を示し、Ｘはハロゲ
ン原子を示す。〕 で表わされる含硫黄化合物と反応させて、一般式〔式中
、Ｒ１、Ｒ２、Ｙ及びＺは前記に同じ。〕で表わされる
アでチジノン誘導体を得る。
もしくは非置換の芳香族複素環残基を示し、Ｘはハロゲ
ン原子を示す。〕 で表わされる含硫黄化合物と反応させて、一般式〔式中
、Ｒ１、Ｒ２、Ｙ及びＺは前記に同じ。〕で表わされる
アでチジノン誘導体を得る。
次いで上記一般式（ｆｆ）の化合物に、有機溶媒中アン
モニアを作用させることにより前記一般式（Ｖ）の化合
物を得ることができる。
モニアを作用させることにより前記一般式（Ｖ）の化合
物を得ることができる。
本発明において出発物質とする前記一般式（１）の化合
物は、例えば一般式 １ 〔式中、Ｒ１及びＲ２は前記に同じ。〕で表わされる・
公知チアソリノアセチジノン誘導体から、既報の方法、
例えばＴｅｔｒａｋｔｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ。
物は、例えば一般式 １ 〔式中、Ｒ１及びＲ２は前記に同じ。〕で表わされる・
公知チアソリノアセチジノン誘導体から、既報の方法、
例えばＴｅｔｒａｋｔｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ。
２２．３１９３（１９８１）に従い賽易に合成できる。
本発明において、中間体である一般式（１１）の化合物
は、一般式（Ｉ）の出発原料化合物と求核剤との反応で
得られる。この反応では、一般式（１）の化合物のＣ＝
Ｃ二重結合の位置を変えることなく、求核剤によシアリ
ル位の塩素原子を置換して、一般式（置）の化合物を得
ることが必須である。
は、一般式（Ｉ）の出発原料化合物と求核剤との反応で
得られる。この反応では、一般式（１）の化合物のＣ＝
Ｃ二重結合の位置を変えることなく、求核剤によシアリ
ル位の塩素原子を置換して、一般式（置）の化合物を得
ることが必須である。
従来、下記反応式で示される数工程反応による一般式（
１）の化合物（Ｒ＝メチル、ｔ−ｊチル、ているＣ１．
Ａｍ、Ｃｈｔｍ、Ｓｏｔ、、 ９９ 、 ２４８（１９
７７））。
１）の化合物（Ｒ＝メチル、ｔ−ｊチル、ているＣ１．
Ａｍ、Ｃｈｔｍ、Ｓｏｔ、、 ９９ 、 ２４８（１９
７７））。
しかし、この方法には、■−プＯモスクシンイミド（＃
ＢＳ）専の高価な反応剤を使用する必要があり、２重結
合の移動を伴うため数工程の反応工程を必要とし、全工
程をｍ しての収率が低い等の難点があり、実用的方法
とは到底言えなかった。
ＢＳ）専の高価な反応剤を使用する必要があり、２重結
合の移動を伴うため数工程の反応工程を必要とし、全工
程をｍ しての収率が低い等の難点があり、実用的方法
とは到底言えなかった。
これに対し、本発明においては簡便な方法で、二重結合
の移動を伴うことなく、高収率で一般式（１）の化合物
を得ることができる３゜本発明の一般式（１）の化合物
から一般式（１）の化合物への変換は、ｆ記反応式（Ａ
） −（Ｃ）の方法にて夫々行える。
の移動を伴うことなく、高収率で一般式（１）の化合物
を得ることができる３゜本発明の一般式（１）の化合物
から一般式（１）の化合物への変換は、ｆ記反応式（Ａ
） −（Ｃ）の方法にて夫々行える。
反応式（Ａ）
１
２
（１）
１
２
（１）
反応式ＣＢ）
１
２
（１） Ｒ１
（１）
１１
（１）」二記反応式（Ａ）の方法は、Ｙが一５ＣＯＲ３
（式中Ｒは前記に同じ、、〕である一般式（ＩＩ）の化
合物の製造に特に有利である。即ち、一般式（１）の化
合物？、有機溶媒中で、一般式＋１
（１） ＭＳＣＯＲ’ 〔式中、Ａ）はアルカリ金属を示し、Ｒは前記に同じ。
（式中Ｒは前記に同じ、、〕である一般式（ＩＩ）の化
合物の製造に特に有利である。即ち、一般式（１）の化
合物？、有機溶媒中で、一般式＋１
（１） ＭＳＣＯＲ’ 〔式中、Ａ）はアルカリ金属を示し、Ｒは前記に同じ。
〕
で表わされる求核剤と反応させると、二重結合の位置を
変えることなく、一般式（Ｉ）の化合物１ であってＹが−５ＣＯＲ３であるものが、１％収率でＦ
’４られる。上記求核剤（１）は、公知化合物であり特
にナトリウム塩又はカリウム塩の形態のものが好ましい
。上巳有機溶媒としては、一般式（１）の化合物を上記
求核剤（１）を溶１１Ｈするものであれば特に制限なく
使用できるが、好ましくはアセトン、６酸エチル、ジメ
チルスルホ十シト、ジメチルホルムアミド等の非プロト
ン性極性溶媒を用いるのがよい。これら有機溶媒の使用
量は、反応剤を溶解する量であれば持に１ｌｆｌ限はな
いが、通常一般式（Ｉ）の化合物に対し約５−１００重
ｊ倍とすればよい、、一般式（１）の原料化合物と求核
剤（１）との使用割合も広い範四内で適宜選択できるが
、一般に前者に対し後者を等七ルー１０倍℃ル程度用い
るのがよい。該反応は、通常−１０−４０°Ｃ程度、好
ましくは室温付近にて行なわれ、一般に０．５−２時間
で完結する。
変えることなく、一般式（Ｉ）の化合物１ であってＹが−５ＣＯＲ３であるものが、１％収率でＦ
’４られる。上記求核剤（１）は、公知化合物であり特
にナトリウム塩又はカリウム塩の形態のものが好ましい
。上巳有機溶媒としては、一般式（１）の化合物を上記
求核剤（１）を溶１１Ｈするものであれば特に制限なく
使用できるが、好ましくはアセトン、６酸エチル、ジメ
チルスルホ十シト、ジメチルホルムアミド等の非プロト
ン性極性溶媒を用いるのがよい。これら有機溶媒の使用
量は、反応剤を溶解する量であれば持に１ｌｆｌ限はな
いが、通常一般式（Ｉ）の化合物に対し約５−１００重
ｊ倍とすればよい、、一般式（１）の原料化合物と求核
剤（１）との使用割合も広い範四内で適宜選択できるが
、一般に前者に対し後者を等七ルー１０倍℃ル程度用い
るのがよい。該反応は、通常−１０−４０°Ｃ程度、好
ましくは室温付近にて行なわれ、一般に０．５−２時間
で完結する。
は−ＳＲ” Ｃ式中、Ｒは前記に同じ３．〕である一般
式（Ｉｔ）の化合物の製造に特に有利である。
式（Ｉｔ）の化合物の製造に特に有利である。
即ち、まず一般式（Ｉ）の原料化合物とヨウ化アルカリ
、特に好ましくはヨウ化ナトリウム又はヨウ化カリウム
とを有機溶媒中で反応させると、二重結合の位置を変え
ることなく、一般式〔式中、Ｒ及びＲ２は前記に同じ。
、特に好ましくはヨウ化ナトリウム又はヨウ化カリウム
とを有機溶媒中で反応させると、二重結合の位置を変え
ることなく、一般式〔式中、Ｒ及びＲ２は前記に同じ。
〕
で表わされる化合物が得られる。次いで該化合物を有機
溶媒中、一般式 ％式％（２） 〔式中、Ｍはアルカリ金属、Ｙは −５ＣＯＲ３は前記
に同じ。〕 で表わされる求核剤と反応させると、二重結合の位置を
変えることなく一般式（Ｉｆ）の化合物が高収率で得ら
れる。
溶媒中、一般式 ％式％（２） 〔式中、Ｍはアルカリ金属、Ｙは −５ＣＯＲ３は前記
に同じ。〕 で表わされる求核剤と反応させると、二重結合の位置を
変えることなく一般式（Ｉｆ）の化合物が高収率で得ら
れる。
上記一般式（Ｉ）の原料化合物とヨウ化アルカリとの反
応において、有機溶媒としては、両者を溶解するもので
あれば広範囲のものが使用できるが、特に非づ０トン性
極性溶媒、例えばア七トン、ジメチルスルホ千シト、ジ
メチルホルムアミド等を用いるのがよい。これらのうち
でも、特にア七トンが好ましい。これら有機溶媒の使用
量は、通常一般式（Ｉ）の原料化合物に対し、約５−１
００重量倍でよい。一般式（１）の原料化合物と３つ化
アルカリとの使用割合も広範囲から適宜選択できるが、
一般に前者に対し後者を等ｔルー１０倍七ル程度、好ま
しくは等七ルー２倍七ル程度用いればよい。該反応は通
常０−６０°Ｃ程度、好ましくは４０−５５°Ｃ程度に
て行なわれ、一般に０．５−４時間で終了する。
応において、有機溶媒としては、両者を溶解するもので
あれば広範囲のものが使用できるが、特に非づ０トン性
極性溶媒、例えばア七トン、ジメチルスルホ千シト、ジ
メチルホルムアミド等を用いるのがよい。これらのうち
でも、特にア七トンが好ましい。これら有機溶媒の使用
量は、通常一般式（Ｉ）の原料化合物に対し、約５−１
００重量倍でよい。一般式（１）の原料化合物と３つ化
アルカリとの使用割合も広範囲から適宜選択できるが、
一般に前者に対し後者を等ｔルー１０倍七ル程度、好ま
しくは等七ルー２倍七ル程度用いればよい。該反応は通
常０−６０°Ｃ程度、好ましくは４０−５５°Ｃ程度に
て行なわれ、一般に０．５−４時間で終了する。
また、一般式（Ｖｌ）の化合物と求核剤（２）との反応
において、有機溶媒としては、両者を溶解するものでめ
れば広範囲のものが使用できるが、特に非プロトン性極
性溶媒、例えばアセトシ、ジメチルスルホ十シト、ジメ
チルホルムア三Ｆ等が好ましく、特にアセトシが好まし
い。これら有機溶媒は、通常一般式（Ｖｌ）の化合物に
対し約５−１００重量倍程度用いられる。一般式（ＶＩ
）の化合物と求核剤（２）との使用割合は、広い範囲内
で適宜選択できるが、通常前者に対し後者を等七ルー３
倍ｔル程度、好−ましくけ等ｔルー１．５倍七ル程度用
いるのがよい。該反応は、通常−１０−４０℃程度、好
ましくは室温付近で行なわれ、通常０．５−４時間程度
で終ｒする。
において、有機溶媒としては、両者を溶解するものでめ
れば広範囲のものが使用できるが、特に非プロトン性極
性溶媒、例えばアセトシ、ジメチルスルホ十シト、ジメ
チルホルムア三Ｆ等が好ましく、特にアセトシが好まし
い。これら有機溶媒は、通常一般式（Ｖｌ）の化合物に
対し約５−１００重量倍程度用いられる。一般式（ＶＩ
）の化合物と求核剤（２）との使用割合は、広い範囲内
で適宜選択できるが、通常前者に対し後者を等七ルー３
倍ｔル程度、好−ましくけ等ｔルー１．５倍七ル程度用
いるのがよい。該反応は、通常−１０−４０℃程度、好
ましくは室温付近で行なわれ、通常０．５−４時間程度
で終ｒする。
（３）Ｙが一〇■０２である一般式（１）の化合物もま
た前記反応式ＣＢ＞の方法で得られる。即ち、前記（２
）で示した如き方法で得られる一般式（Ｖｌ）の沃素化
合物を、有機溶媒中でアルカリ金属硝酸塩、好ましくは
ＮａＮＯ３又はＫＷＯ、と反応させると、二重結合の位
置を変えることなく、一般式（ＩＩ）の化合物であって
ＹがニドＯオ十シ基であるもの全品収率で収得できる。
た前記反応式ＣＢ＞の方法で得られる。即ち、前記（２
）で示した如き方法で得られる一般式（Ｖｌ）の沃素化
合物を、有機溶媒中でアルカリ金属硝酸塩、好ましくは
ＮａＮＯ３又はＫＷＯ、と反応させると、二重結合の位
置を変えることなく、一般式（ＩＩ）の化合物であって
ＹがニドＯオ十シ基であるもの全品収率で収得できる。
上記有機溶媒としては、特にジメチルスルホ十シトが好
ましい。これら有機溶媒は、一般に一般式（■）の化合
物に対し、０゜５−１０重量倍程度使用される。一般式
（Ｖｌ）の化合物とアルカリ金属硝酸塩との使用割合は
、広い範囲で適宜選択できるが、通常前者に対し後者を
等七ルー１０倍七ル程度、好ましくは等七ルー５倍七ル
程度とすればよい。該反応は、通常０−１００°Ｃ稗度
、好ましくは４０−６０°Ｃ程度にて行なわれる。まだ
副生するヨウ化アルカリを反応系外に除くため、該反応
をメタンスルホン酸メチル又はトルエンスルホン酸メチ
ルの存在下、反応系を３０３０−８Ｏ１１り程度の減圧
下で行なうことができる。該反応は、反応条件にもよる
が、一般に０．５−６時間程度で終了する。
ましい。これら有機溶媒は、一般に一般式（■）の化合
物に対し、０゜５−１０重量倍程度使用される。一般式
（Ｖｌ）の化合物とアルカリ金属硝酸塩との使用割合は
、広い範囲で適宜選択できるが、通常前者に対し後者を
等七ルー１０倍七ル程度、好ましくは等七ルー５倍七ル
程度とすればよい。該反応は、通常０−１００°Ｃ稗度
、好ましくは４０−６０°Ｃ程度にて行なわれる。まだ
副生するヨウ化アルカリを反応系外に除くため、該反応
をメタンスルホン酸メチル又はトルエンスルホン酸メチ
ルの存在下、反応系を３０３０−８Ｏ１１り程度の減圧
下で行なうことができる。該反応は、反応条件にもよる
が、一般に０．５−６時間程度で終了する。
（４）Ｙが′水酸基又は体膜された水酸基である一般式
（Ｋ）の化合物は、特に前記ＣＣ）の反応式に従い有利
に製造できる。即ち、前記（３）の方法で得られるＹが
一〇■０２ 基である一般式（１）の化合物を、酢酸
の存在下で亜鉛と反応させると、一般式 〔式中、Ｒ１及びＲ２は前記に同じ。〕で表わされる化
合物が得られる。この反応において、酢酸はそれ自体反
応溶媒として用いてもよいし、また他の有機溶媒と混合
して用いてもよい。かかる有機溶媒としては、酢酸、亜
鉛及び一般式（１）の化合物（Ｙ＝Ｏｆ’ＪＯ２）
に不活性なものであれば広い範囲のものが使用でき、例
えば＃酸エチ）＋ｖ１酢酸メチル、プロじオシ酸メチル
等の低級カルボン酸の低級アル＋ルエステル類、ジエチ
ルエーテル、テトラしドロフラン、ジオキサン等のエー
テル類、塩化メチレジ、ジクＤルエタυ、クロロホルム
等のハロゲン化炭化水素類、ベンセン、トルエン、十シ
レン等の芳香族炭化水素類等を例示できる。これら不活
性有機溶媒は、酢酸との混合物中、約９０芥量％まで、
好ましくは２０−７０容量％となるよう使用するのがよ
い。酢酸の使用址は、単独使用する場合、他の有機溶媒
と混合使用する場合を問わず、一般式（１）の化合物（
Ｙ−ＯＮ０２）に対し、通常１０−２００倍ｔル程度と
なるような遺とすればよい。一般式（Ｉ）の化合物（Ｙ
−Ｏ■０２）と徂鉛との使用割合は広い範囲で適宜選択
できるが、通常前者に対し後者を約３−１０倍１１：
Ｉｌｚ程度、好ましくは３−５倍℃ル程度とするのがよ
い。反応は通常−３０−５０℃程度、好ましくは−１０
−３０°Ｃ程度で行なわれ、一般に０．５−３時間程度
で完了する。
（Ｋ）の化合物は、特に前記ＣＣ）の反応式に従い有利
に製造できる。即ち、前記（３）の方法で得られるＹが
一〇■０２ 基である一般式（１）の化合物を、酢酸
の存在下で亜鉛と反応させると、一般式 〔式中、Ｒ１及びＲ２は前記に同じ。〕で表わされる化
合物が得られる。この反応において、酢酸はそれ自体反
応溶媒として用いてもよいし、また他の有機溶媒と混合
して用いてもよい。かかる有機溶媒としては、酢酸、亜
鉛及び一般式（１）の化合物（Ｙ＝Ｏｆ’ＪＯ２）
に不活性なものであれば広い範囲のものが使用でき、例
えば＃酸エチ）＋ｖ１酢酸メチル、プロじオシ酸メチル
等の低級カルボン酸の低級アル＋ルエステル類、ジエチ
ルエーテル、テトラしドロフラン、ジオキサン等のエー
テル類、塩化メチレジ、ジクＤルエタυ、クロロホルム
等のハロゲン化炭化水素類、ベンセン、トルエン、十シ
レン等の芳香族炭化水素類等を例示できる。これら不活
性有機溶媒は、酢酸との混合物中、約９０芥量％まで、
好ましくは２０−７０容量％となるよう使用するのがよ
い。酢酸の使用址は、単独使用する場合、他の有機溶媒
と混合使用する場合を問わず、一般式（１）の化合物（
Ｙ−ＯＮ０２）に対し、通常１０−２００倍ｔル程度と
なるような遺とすればよい。一般式（Ｉ）の化合物（Ｙ
−Ｏ■０２）と徂鉛との使用割合は広い範囲で適宜選択
できるが、通常前者に対し後者を約３−１０倍１１：
Ｉｌｚ程度、好ましくは３−５倍℃ル程度とするのがよ
い。反応は通常−３０−５０℃程度、好ましくは−１０
−３０°Ｃ程度で行なわれ、一般に０．５−３時間程度
で完了する。
更にこうして得られる一般式（ＩＸ）の化合物の水酸基
を保護することによシ、Ｙが保護された水酸基である一
般式（ＩＩ）の化合物を高収率で得ることができる。こ
の水酸基の保護は、一般式（Ｎ）の化合物と相当する保
護基導入剤、例えば前記と同じであり、Ａは塩素、臭素
又はヨウ素原子を示す。〕等とを反応させることによシ
行なわれる。該反応は、通常有機溶媒中、酸捕捉剤の存
在下に行なう。好ましい酸捕捉剤としては、ごリジン、
ポリマーサポーテイソドじリジン、分子ふるい、イミダ
ソール等が挙げられる。
を保護することによシ、Ｙが保護された水酸基である一
般式（ＩＩ）の化合物を高収率で得ることができる。こ
の水酸基の保護は、一般式（Ｎ）の化合物と相当する保
護基導入剤、例えば前記と同じであり、Ａは塩素、臭素
又はヨウ素原子を示す。〕等とを反応させることによシ
行なわれる。該反応は、通常有機溶媒中、酸捕捉剤の存
在下に行なう。好ましい酸捕捉剤としては、ごリジン、
ポリマーサポーテイソドじリジン、分子ふるい、イミダ
ソール等が挙げられる。
反応温度は、比較的低温度が望ましく、一般に一５ｏ−
ｉｏ°Ｃ程度が好適である。一般式（ＩＸ）の化合物と
酸捕捉剤との使用割合としては広い範囲から適宜選択で
き、通常前者に対し後者を等℃ルー３０倍ｔル程度、好
ましくは等七ルー１０倍モル程度とすればよい。一般式
（［）の化合物と保護基導入剤との使用割合は、保護基
導入剤の種類、その他の反応条件等によっても変化する
が、通常前者に対し後者を等七ルー３０倍七ル程度、好
ましくは等ｔルー１０倍七ル程度とすればよい。上記有
機溶媒としては、前記反応条件下に不活性な溶媒を広く
使用でき、例えばジエチルエーテル、テトラしドロフラ
ン、ジオ十サン等のエーテル類、塩化メチレン、ジグ０
ルエタン、り００ホルム等のハロゲン化炭化水素類、ベ
ンゼン、トルエン、＋シレン等の芳香族炭化水素類を挙
げることができる。これら有機溶媒の使用量は、一般に
一般式（ＩＸ）の化合物の約１−２０ｉｆｆｉ倍とすれ
ばよい。該反応は、通常０．５−１２時間を要する。
ｉｏ°Ｃ程度が好適である。一般式（ＩＸ）の化合物と
酸捕捉剤との使用割合としては広い範囲から適宜選択で
き、通常前者に対し後者を等℃ルー３０倍ｔル程度、好
ましくは等七ルー１０倍モル程度とすればよい。一般式
（［）の化合物と保護基導入剤との使用割合は、保護基
導入剤の種類、その他の反応条件等によっても変化する
が、通常前者に対し後者を等七ルー３０倍七ル程度、好
ましくは等ｔルー１０倍七ル程度とすればよい。上記有
機溶媒としては、前記反応条件下に不活性な溶媒を広く
使用でき、例えばジエチルエーテル、テトラしドロフラ
ン、ジオ十サン等のエーテル類、塩化メチレン、ジグ０
ルエタン、り００ホルム等のハロゲン化炭化水素類、ベ
ンゼン、トルエン、＋シレン等の芳香族炭化水素類を挙
げることができる。これら有機溶媒の使用量は、一般に
一般式（ＩＸ）の化合物の約１−２０ｉｆｆｉ倍とすれ
ばよい。該反応は、通常０．５−１２時間を要する。
以上（１） −（４）の方法により得られる一般式（１
）の化合物は、次いで一般式 ％式％（） 〔式中、Ｚは置換もしくは非置換のアリール基又は置換
もしくは非置換の芳香族複素環残基を示し、Ｘはハロゲ
ン原子を示す。〕 で表わされる含硫黄化合物と反応させて、一般式（１ｖ
）の化合物を得る。
）の化合物は、次いで一般式 ％式％（） 〔式中、Ｚは置換もしくは非置換のアリール基又は置換
もしくは非置換の芳香族複素環残基を示し、Ｘはハロゲ
ン原子を示す。〕 で表わされる含硫黄化合物と反応させて、一般式（１ｖ
）の化合物を得る。
ここで、Ｚで表わされる置換もしくは非置換のアリール
基としては、フェニル基、置換基としてハロゲン原子、
ニド０基等を有するフェニル基、例えば戸−二ト０フェ
ニル、ペンタクＯＯフェニル、トリゲ００フェニル等が
例示される。また置換もしくは非置換の芳香族複素ｊＪ
ｌ残基としては、２−じリジル、２−ペンリチアリジル
、Ｌ３，４−チアシア９−ルー２−イル、５−メチル−
１，３，４−チアシア９−ルー２−イル等が例示できる
。また、Ｘで示されるハロゲン原子としては、塩素、臭
素、沃累等の各原子が例示でき、特に塩素原子が好まし
い。
基としては、フェニル基、置換基としてハロゲン原子、
ニド０基等を有するフェニル基、例えば戸−二ト０フェ
ニル、ペンタクＯＯフェニル、トリゲ００フェニル等が
例示される。また置換もしくは非置換の芳香族複素ｊＪ
ｌ残基としては、２−じリジル、２−ペンリチアリジル
、Ｌ３，４−チアシア９−ルー２−イル、５−メチル−
１，３，４−チアシア９−ルー２−イル等が例示できる
。また、Ｘで示されるハロゲン原子としては、塩素、臭
素、沃累等の各原子が例示でき、特に塩素原子が好まし
い。
上記一般式（１）の化合物と一般式（ＩＮ）の含硫黄化
合物との反応は、含水有機溶媒中で行なわれる。
合物との反応は、含水有機溶媒中で行なわれる。
有機溶媒としては、ジメチルスルホ千シト、ジオ十ｔシ
、テトラしドロフラジ等が使用でき、これらは通常一般
式（Ｉ）の化合物に対し５−５０重量倍程度用いるのが
好ましい。含水有機溶媒中に占める水の量としては広い
範囲から適宜選択できるが、通常一般式（１）の化合物
に対し約１−５００七ル倍、好ましくは約１０−１００
七ル倍とすればよい。一般式（１）の化合物と一般式（
１）の化合物との使用割合も広い範囲から適宜選択でき
るが。
、テトラしドロフラジ等が使用でき、これらは通常一般
式（Ｉ）の化合物に対し５−５０重量倍程度用いるのが
好ましい。含水有機溶媒中に占める水の量としては広い
範囲から適宜選択できるが、通常一般式（１）の化合物
に対し約１−５００七ル倍、好ましくは約１０−１００
七ル倍とすればよい。一般式（１）の化合物と一般式（
１）の化合物との使用割合も広い範囲から適宜選択でき
るが。
通常前者に対し後者を等七ルー１０倍七ル程度、好まし
くは等七ルー４倍七ル程度用いるのがよい。
くは等七ルー４倍七ル程度用いるのがよい。
該反応は、通常−１０−６０℃程度、好ましくは室温付
近で行なわれ、一般に０．１−２時間程で終了する。尚
、この反応においては、無機酸又は有機酸を存在させる
ことによυ収率が向上することがある。無機酸としては
硫酸、塩酸等が好゛ましく有機酸としてはトリフルオロ
酢酸、戸−トルエンスルホン酸等が好ましい。これら酸
の使用量は、一般式（目）の化合物に対し１−１０倍七
ル程度とすればよい。
近で行なわれ、一般に０．１−２時間程で終了する。尚
、この反応においては、無機酸又は有機酸を存在させる
ことによυ収率が向上することがある。無機酸としては
硫酸、塩酸等が好゛ましく有機酸としてはトリフルオロ
酢酸、戸−トルエンスルホン酸等が好ましい。これら酸
の使用量は、一般式（目）の化合物に対し１−１０倍七
ル程度とすればよい。
尚、上記一般式（Ｉ）の含硫黄化合物は、不活性溶媒、
例えば四塩化炭素、クロロホルム、塩化メチレジ、ジオ
十サン、テトラしドロフラン等の溶媒に、相当するジス
ルフィド又はチオールを溶解し、当七ル電の分子状ハ０
ゲシを反応させることにより製造できる。こうして得ら
れる一般式（ＩＩＩ）の化合物は、反応混合物から単離
して反応に供してもよいし、反応混合物をそのまま反応
（供してもよい。
例えば四塩化炭素、クロロホルム、塩化メチレジ、ジオ
十サン、テトラしドロフラン等の溶媒に、相当するジス
ルフィド又はチオールを溶解し、当七ル電の分子状ハ０
ゲシを反応させることにより製造できる。こうして得ら
れる一般式（ＩＩＩ）の化合物は、反応混合物から単離
して反応に供してもよいし、反応混合物をそのまま反応
（供してもよい。
以上の一般式（１）の化合物と一般式（１）の化合物と
の反応により得られる一般式（Ｎ）の化合物は有！ｓ溶
媒中で、アン七ニアを作用させることにより一般式（’
ｆｉ）の最終化合物へと変換される。上記有機溶媒とし
ては、不活性な非づ０トン性極性溶媒、例えばジメチル
ホルムアミド、ジメチルアセドア三ド等が好ましく、特
にジメチルホルムアミドがよシ好ましい。一般式（Ｗ）
の化合物とアン七ニアとの使用割合としては広い範囲か
ら適宜選択できるが、通常前者に対し後者を等ｔルー１
０倍七ル程度、好ましくは等℃ルー３倍七ル程度とすれ
ばよい。該反応は通常−７８−２０℃程度、好ましくは
−４０−５°Ｃ程度にて行なわれ、一般に０．１−２時
間程度で完結する。
の反応により得られる一般式（Ｎ）の化合物は有！ｓ溶
媒中で、アン七ニアを作用させることにより一般式（’
ｆｉ）の最終化合物へと変換される。上記有機溶媒とし
ては、不活性な非づ０トン性極性溶媒、例えばジメチル
ホルムアミド、ジメチルアセドア三ド等が好ましく、特
にジメチルホルムアミドがよシ好ましい。一般式（Ｗ）
の化合物とアン七ニアとの使用割合としては広い範囲か
ら適宜選択できるが、通常前者に対し後者を等ｔルー１
０倍七ル程度、好ましくは等℃ルー３倍七ル程度とすれ
ばよい。該反応は通常−７８−２０℃程度、好ましくは
−４０−５°Ｃ程度にて行なわれ、一般に０．１−２時
間程度で完結する。
以上により、前記一般式
〔式中、Ｒ１、Ｒ２及びＹは前記に同じ。〕で表わされ
る化合物が得られる。
る化合物が得られる。
尚、上記一般式（ｖ）においてＹが一０Ｎ０２基である
化合物（以下１−化合物（Ｘ）」という）は、更に酢酸
の存在下、亜鉛と反応させることにより一般式 〔式中、Ｒ１及びＲ２は前記に同じ。〕で表わされる化
合物へと訪導できる。
化合物（以下１−化合物（Ｘ）」という）は、更に酢酸
の存在下、亜鉛と反応させることにより一般式 〔式中、Ｒ１及びＲ２は前記に同じ。〕で表わされる化
合物へと訪導できる。
−゛般式（ＸＩ）で表わされるセファ０スポリン化であ
る。また一般式（ｎ）で表わされるセファ０スポリン化 法により種々のエーテル基又はカルボン酸エステルもし
くは無機酸エステルの櫨々のエステル基に変えることに
よジ、又７位アミド基の脱アシル化及び再アシル化によ
り、一般に広く使用されている七ファＤスポリン系抗生
物質に変換できる重要な合成中間体である。
る。また一般式（ｎ）で表わされるセファ０スポリン化 法により種々のエーテル基又はカルボン酸エステルもし
くは無機酸エステルの櫨々のエステル基に変えることに
よジ、又７位アミド基の脱アシル化及び再アシル化によ
り、一般に広く使用されている七ファＤスポリン系抗生
物質に変換できる重要な合成中間体である。
化合物（Ｘ）に酢酸の存在下に亜鉛を作用させて化合物
（ＸＩ）を得る反応において酢酸の使用量としては特に
制限がなく広範囲から適宜選択され得るが、通常酢酸を
反応溶媒として用いるか、特に好ましくは他の有Ｊａ溶
媒と酢酸との混合溶媒として用いる。有４１１＃媒は、
混合溶媒中約９０容量％まで、好ましくは約２０−７０
谷量％程度使用するのがよい。酢酸の使用量は、単独使
用する場合、他の有機溶媒と混合使用する場合を問わず
、化合物（１）に対し、約１０−２００倍七ル程度とす
ればよい。化合物（Ｘ）と亜鉛との使用割合としては特
に限定されず広い範囲で適宜選択できるが、通常化合物
（Ｘ）に対して３借上ルー１０倍ｔル、好ましくは３借
上ルー５倍七ル用いるのがよい。反応温度としては通常
−３０−５０°Ｃ１好１しくは−１０−３０°Ｃで行な
われる。混合溶媒として用いる他の有機溶媒としては、
該反応条件下、酢酸及び亜鉛に不活性な溶媒を広く使用
でき、例えば酢酸エチル、酢酸メチル、プＯヒオン酸メ
チル等のエステル類、ジエチルエーテル、テトラじドロ
フラジ、ジオ十サン等のエーテル類、塩化メチレン、ジ
グ０ルエタン、り００ホルΔ等のハロゲン化炭化水素類
、ベンゼン、トルエン、十シレン等の芳香族炭化水素類
等を挙げることができる。該反応は通常０．２−３時間
程度で完結する。
（ＸＩ）を得る反応において酢酸の使用量としては特に
制限がなく広範囲から適宜選択され得るが、通常酢酸を
反応溶媒として用いるか、特に好ましくは他の有Ｊａ溶
媒と酢酸との混合溶媒として用いる。有４１１＃媒は、
混合溶媒中約９０容量％まで、好ましくは約２０−７０
谷量％程度使用するのがよい。酢酸の使用量は、単独使
用する場合、他の有機溶媒と混合使用する場合を問わず
、化合物（１）に対し、約１０−２００倍七ル程度とす
ればよい。化合物（Ｘ）と亜鉛との使用割合としては特
に限定されず広い範囲で適宜選択できるが、通常化合物
（Ｘ）に対して３借上ルー１０倍ｔル、好ましくは３借
上ルー５倍七ル用いるのがよい。反応温度としては通常
−３０−５０°Ｃ１好１しくは−１０−３０°Ｃで行な
われる。混合溶媒として用いる他の有機溶媒としては、
該反応条件下、酢酸及び亜鉛に不活性な溶媒を広く使用
でき、例えば酢酸エチル、酢酸メチル、プＯヒオン酸メ
チル等のエステル類、ジエチルエーテル、テトラじドロ
フラジ、ジオ十サン等のエーテル類、塩化メチレン、ジ
グ０ルエタン、り００ホルΔ等のハロゲン化炭化水素類
、ベンゼン、トルエン、十シレン等の芳香族炭化水素類
等を挙げることができる。該反応は通常０．２−３時間
程度で完結する。
尚、以上の各反応において得られる一般式（Ｖｌ）、（
１）及び（ｆｆ）の化合物は、夫々単離して後引続く反
応に供してもよいし、反応混合物のまま引続く反応に供
してもよい。また、最終的に得られる一般式（■）の化
合物は、常法に従Ａ溶媒抽出、カラムク０マドクラフイ
ー、再結晶法等を用いて精製することができる。
１）及び（ｆｆ）の化合物は、夫々単離して後引続く反
応に供してもよいし、反応混合物のまま引続く反応に供
してもよい。また、最終的に得られる一般式（■）の化
合物は、常法に従Ａ溶媒抽出、カラムク０マドクラフイ
ー、再結晶法等を用いて精製することができる。
以下、本発明の製造法をより詳しく説明すべ〈実施例を
掲げる。尚、実施例中ｐｈはフェニル基を示す。
掲げる。尚、実施例中ｐｈはフェニル基を示す。
実施例 １
２−（３−フェノ十ジメチルー７−オ十ソー４−チアー
２，６−ジアザじシフｏ （３，２ｔＯＪヘプト−２−
エン−６−イル）−３−りＤＯメチル−３一つテン酸ベ
ンジル３７．２Ｗにア七トシｌ ｍｌを加１ え均一溶液とする。これにＮａ５ＣＯＣ２／１５３５
、２哩を加え、室温下７０分間かきまぜる。次に５ ｍ
ｌの酢酸エチルを加えて希釈し、これを飽和食塩水で洗
浄し、■ａ２ＳＯ４で乾燥したのち濃縮する。得られた
無色油状残渣をシリカゲルカラム上でベンゼン続いてベ
シｔ！シー酢酸エチル（３０：１）を用いてり０マドク
ラフイーを行ない２−（３−フェノ十ジメチルー７−オ
中ソー４−チア−２，６−ジアザじシフｏ （３，２＋
０ ）ヘプト−２エン−６−イル）−エト＋ジチオカル
ボニルチオメチル−３−づテン酸ベンジルを得る（ ３
４．’１ｌｉ１．７９％）。
２，６−ジアザじシフｏ （３，２ｔＯＪヘプト−２−
エン−６−イル）−３−りＤＯメチル−３一つテン酸ベ
ンジル３７．２Ｗにア七トシｌ ｍｌを加１ え均一溶液とする。これにＮａ５ＣＯＣ２／１５３５
、２哩を加え、室温下７０分間かきまぜる。次に５ ｍ
ｌの酢酸エチルを加えて希釈し、これを飽和食塩水で洗
浄し、■ａ２ＳＯ４で乾燥したのち濃縮する。得られた
無色油状残渣をシリカゲルカラム上でベンゼン続いてベ
シｔ！シー酢酸エチル（３０：１）を用いてり０マドク
ラフイーを行ない２−（３−フェノ十ジメチルー７−オ
中ソー４−チア−２，６−ジアザじシフｏ （３，２＋
０ ）ヘプト−２エン−６−イル）−エト＋ジチオカル
ボニルチオメチル−３−づテン酸ベンジルを得る（ ３
４．’１ｌｉ１．７９％）。
ＮＭＲ（δ、 ＣＤＣｌ５）
１．３５（１１３Ｈ１７Ｈ１）、３．８０（Ｓ。
２ｔｉ）、４．６０Ｃｑ、２Ｍ＋７Ｈｚ）、４．９０（
Ｓ 、２）／） 、 ５．０６ （ｓ 、２Ｈ） 、
５．１６（Ｓ９１／／）、５．３７ （ｓ、１／／）
、５．８６及び６．００ （ＡＢｔｉ ｌ ２Ｈｌ ４
ＨＥ ）、６．７−７．４（ｍ、５Ｈ）、７−３２ （
Ｋ 、５／／ ）実施例 ２ ２−（３−ベンジル−７−オ十ソー４−チア−２．６−
ジアザピシクｏ （３＋２＋Ｏ）ヘプト−２−エン−６
−イル）−３−りＯＯメチル−３−ブテン酸メチル２１
．４１１ｇにアセトンｌ ｙｇｔを加え均一溶液Ｉ とする。これにＮａ５ＣＯＣ２Ｈ５２５，４ｗｇを加え
、室温下６０分間かきまぜる。次に５ ｍｌのジメチル
エーテルを加えて希釈し、これを飽和食塩水で洗浄し、
Ｎａ２５Ｏ４で乾燥したのち濃縮する。潜られた淡黄色
油状残渣をシリカゲルカラム上でベシセンー酢酸エチル
（１０：１）を用いてり０マドクラフイーを行ない、２
−（３−ベンジル−７−オ十ソー４−チア−２，６−ジ
アザじシフｏ （３＋２，０ ）へづトー２−ニジ−６
−イル）−３−エト＋ジチオカルボニルチオメチル−３
−ブテン酸メチルを得る（ ２２．８幇、８６％）。
Ｓ 、２）／） 、 ５．０６ （ｓ 、２Ｈ） 、
５．１６（Ｓ９１／／）、５．３７ （ｓ、１／／）
、５．８６及び６．００ （ＡＢｔｉ ｌ ２Ｈｌ ４
ＨＥ ）、６．７−７．４（ｍ、５Ｈ）、７−３２ （
Ｋ 、５／／ ）実施例 ２ ２−（３−ベンジル−７−オ十ソー４−チア−２．６−
ジアザピシクｏ （３＋２＋Ｏ）ヘプト−２−エン−６
−イル）−３−りＯＯメチル−３−ブテン酸メチル２１
．４１１ｇにアセトンｌ ｙｇｔを加え均一溶液Ｉ とする。これにＮａ５ＣＯＣ２Ｈ５２５，４ｗｇを加え
、室温下６０分間かきまぜる。次に５ ｍｌのジメチル
エーテルを加えて希釈し、これを飽和食塩水で洗浄し、
Ｎａ２５Ｏ４で乾燥したのち濃縮する。潜られた淡黄色
油状残渣をシリカゲルカラム上でベシセンー酢酸エチル
（１０：１）を用いてり０マドクラフイーを行ない、２
−（３−ベンジル−７−オ十ソー４−チア−２，６−ジ
アザじシフｏ （３＋２，０ ）へづトー２−ニジ−６
−イル）−３−エト＋ジチオカルボニルチオメチル−３
−ブテン酸メチルを得る（ ２２．８幇、８６％）。
ＮＭＲ（δ、 ＣＤＣｌ５）
１．３９ （１，３Ｈ、７Ｈｌ ）、３．７０ （ｓ。
５Ｈ）、３．８７ （５，２Ｈ）、４．６３（ｑ。
２７／ 、 ７１ｈｒ ）、５．００ （ｓ、Ｌ＃）、
５．０７（Ｓ、ｌ／／）、５．３４（ｓ、ＬＨ）、５．
８７（ｂＳ、２Ｈ）、７．２５（５，５／／）実施例
３ ２−（３−ベンジル−７−オ十ソー４−チア−２，６−
ジアザじシフｏ （３，２，０）ヘプト−２−エン−６
−イル）−３−りｏｐメチル−３−づテン酸ベンジル９
４．６ＨｌにアセトンＬ２＊ｔを加え均一溶液とする。
５．０７（Ｓ、ｌ／／）、５．３４（ｓ、ＬＨ）、５．
８７（ｂＳ、２Ｈ）、７．２５（５，５／／）実施例
３ ２−（３−ベンジル−７−オ十ソー４−チア−２，６−
ジアザじシフｏ （３，２，０）ヘプト−２−エン−６
−イル）−３−りｏｐメチル−３−づテン酸ベンジル９
４．６ＨｌにアセトンＬ２＊ｔを加え均一溶液とする。
こ扛に”ｌｌ６４．３＆ｉｉ／を加え、５５°Ｃに加熱
しながら１．５時間かきまぜる。次に室温まで冷却した
のち５ ｍｌの酢酸エチルを加え希釈し、これを■ａ２
Ｓ２０３水溶液で洗浄、次いで飽和食塩水で洗浄し、Ｎ
ａ ２ ＳＯ４で乾燥したのち濃縮すると２−（３−ベ
ンジル−７−オ＋ソー４−チア−２，６−ジアザじシク
ロ（３，２，０）ヘプト−２−エン−６−イル）−３−
ヨードメチル−３１テン酸ベンジルを無色油状物質とし
て得る（１１３．Ｏｑ、９９％）。
しながら１．５時間かきまぜる。次に室温まで冷却した
のち５ ｍｌの酢酸エチルを加え希釈し、これを■ａ２
Ｓ２０３水溶液で洗浄、次いで飽和食塩水で洗浄し、Ｎ
ａ ２ ＳＯ４で乾燥したのち濃縮すると２−（３−ベ
ンジル−７−オ＋ソー４−チア−２，６−ジアザじシク
ロ（３，２，０）ヘプト−２−エン−６−イル）−３−
ヨードメチル−３１テン酸ベンジルを無色油状物質とし
て得る（１１３．Ｏｑ、９９％）。
ＮＭＲ（δ、 ＣＤＣ１３）
３．６３（５，２Ｈ）、３．８３ （Ｓ、 ２Ｈ）、４
．９５ （１、１＃）、５．１７ （１，２Ｈ）、５．
２３ （Ｅ 、２Ｈ）、５．３８ （Ｓ、１／／ ）、
５．８７ Ｃｈｉ 、 ２Ｈ）、７．２６ （Ｓ、５Ｈ
）、７．３３ （Ｓ、５／／） 実施例 ４ ２−（３−ベンジル−７−オ十ソー４−チア−２，６−
、；アザじシフｏ （３，２，０）ヘプト−２−工、７
−６−イル）−３−りＯｏメチル−３−づテン酸メチル
３７６岬にアセトン１０ｍ１を加え均一溶液とする。こ
れにＮａｌ ２３０ ＃を加え、５５°Ｃに加熱しなが
ら３時間かきまぜる。
．９５ （１、１＃）、５．１７ （１，２Ｈ）、５．
２３ （Ｅ 、２Ｈ）、５．３８ （Ｓ、１／／ ）、
５．８７ Ｃｈｉ 、 ２Ｈ）、７．２６ （Ｓ、５Ｈ
）、７．３３ （Ｓ、５／／） 実施例 ４ ２−（３−ベンジル−７−オ十ソー４−チア−２，６−
、；アザじシフｏ （３，２，０）ヘプト−２−工、７
−６−イル）−３−りＯｏメチル−３−づテン酸メチル
３７６岬にアセトン１０ｍ１を加え均一溶液とする。こ
れにＮａｌ ２３０ ＃を加え、５５°Ｃに加熱しなが
ら３時間かきまぜる。
次に室温まで冷却したのち酢酸エチルを加えて希釈し、
これをＮａ２Ｓ２Ｏ３水溶液で洗浄、次いで飽和食塩水
で洗浄し、Ｎａ２５ｏ４ で乾燥したのち濃縮する。得
られた淡黄色油状＠渣をシリカゲルカラム上で、へ＋サ
ンー酢酸エチル（４：１）を用いてり０マドクラフイー
を行ない、２−（３−ベシジルー７−オ十ソー４−チア
−２，６−ジアザじシフｏ （３，２，０）ヘプト−２
−エン−６−イル）−３−ヨードメチル−３−ラテン酸
メチルを得る（４２５ｑ、９０％）、。
これをＮａ２Ｓ２Ｏ３水溶液で洗浄、次いで飽和食塩水
で洗浄し、Ｎａ２５ｏ４ で乾燥したのち濃縮する。得
られた淡黄色油状＠渣をシリカゲルカラム上で、へ＋サ
ンー酢酸エチル（４：１）を用いてり０マドクラフイー
を行ない、２−（３−ベシジルー７−オ十ソー４−チア
−２，６−ジアザじシフｏ （３，２，０）ヘプト−２
−エン−６−イル）−３−ヨードメチル−３−ラテン酸
メチルを得る（４２５ｑ、９０％）、。
ＮＭＲ（δ、ＣＤ（４３）
３．６２ （ｂｓ １２Ｈ）、３．７４ （１、３１１
）、３．８７ （ｂｌ 、２Ｈ）、５．０４ （１１１
１１）、５．２１ （１、１／／）、５．９１ （ｂｓ
＋ ２Ｈ）、’１．２７ （５，５Ｈ） 実施例 ５ ０ ： Ｃ００ＣＲ２Ｐｋ Ｏ− ＣＯＯＣＨ２Ｐｈ ２−（３−フェノ＋ジメチルー７−オｆソー４テン酸ベ
シジル３７４ｑにアゼトン１０−を加え均一溶液とする
。これにＭａｌ １５４ ｍｇを加え、５５℃に加熱し
ながら３時間かきまぜる。次に室／Ｍまで冷却したのち
酢酸エチルを加えて希釈し、これを■ａ２Ｓ２０３水溶
液で洗浄し、次いで飽和食塩水で洗浄し、■ａ２ＳＯ４
で乾燥したのち濃縮する。
）、３．８７ （ｂｌ 、２Ｈ）、５．０４ （１１１
１１）、５．２１ （１、１／／）、５．９１ （ｂｓ
＋ ２Ｈ）、’１．２７ （５，５Ｈ） 実施例 ５ ０ ： Ｃ００ＣＲ２Ｐｋ Ｏ− ＣＯＯＣＨ２Ｐｈ ２−（３−フェノ＋ジメチルー７−オｆソー４テン酸ベ
シジル３７４ｑにアゼトン１０−を加え均一溶液とする
。これにＭａｌ １５４ ｍｇを加え、５５℃に加熱し
ながら３時間かきまぜる。次に室／Ｍまで冷却したのち
酢酸エチルを加えて希釈し、これを■ａ２Ｓ２０３水溶
液で洗浄し、次いで飽和食塩水で洗浄し、■ａ２ＳＯ４
で乾燥したのち濃縮する。
得られた淡黄色油状残渣をシリカゲルカラム上でベンゼ
シー酢酸エチル（３０： １ ）を用いてり０マドクラ
フイーを行ない、２−（３−フェノ＋ジメチルー７−オ
十ソー４−チア−２，６−ジアザじシフａ （３，２，
０〕へづトー２−エン−６−イル）−３−ヨードメチル
−３−づテン酸ベンジルを得る（３５９ダ、８０％）。
シー酢酸エチル（３０： １ ）を用いてり０マドクラ
フイーを行ない、２−（３−フェノ＋ジメチルー７−オ
十ソー４−チア−２，６−ジアザじシフａ （３，２，
０〕へづトー２−エン−６−イル）−３−ヨードメチル
−３−づテン酸ベンジルを得る（３５９ダ、８０％）。
ＩＲ（ｎｅａｔ ） １７９６．１７３６ ｃＩＩＩ
−１ｔＶＭＲ（Ｊ 、 ＣＤＣｔｔ３） ３．７３ Ｃｂｌ、２Ｈ） 、 ４．９０（ｂｓ１
２ ）ｆ）、ｓ、ｏｏ ＜ ｓ 、ｉＨ）、５．２０
（Ｘ ｊ ３１１ ）、５．４５（Ｓ、１／／）、５．
８５及び６．０１（Ａａｑ 、２Ｎ 、４Ｈｚ ）、６
．７−７．４ （ｍ。
−１ｔＶＭＲ（Ｊ 、 ＣＤＣｔｔ３） ３．７３ Ｃｂｌ、２Ｈ） 、 ４．９０（ｂｓ１
２ ）ｆ）、ｓ、ｏｏ ＜ ｓ 、ｉＨ）、５．２０
（Ｘ ｊ ３１１ ）、５．４５（Ｓ、１／／）、５．
８５及び６．０１（Ａａｑ 、２Ｎ 、４Ｈｚ ）、６
．７−７．４ （ｍ。
５Ｈ）、７．３４Ｃ５，５Ｍ＞
実施例 ６
ｃｏｏｃｌ１２ｐｈ
２−（３−ベンジル−７−オ十ソー４−チア−２，６−
ジアザじシフｏ （３，２，０）ヘプト−２−エン−６
−イル）−３−りｏｎメチル−３−ラテン酸ベシジル２
６．８Ｑにア七トン０．５−を加え均一溶液と′する。
ジアザじシフｏ （３，２，０）ヘプト−２−エン−６
−イル）−３−りｏｎメチル−３−ラテン酸ベシジル２
６．８Ｑにア七トン０．５−を加え均一溶液と′する。
これに■ａ１１８．２岬を加え、５３℃に加熱しながら
１．５時間かきまぜる。次に室温ま室温下２０分間かき
まぜる。これに酢酸エチル３ｍｌを加えて希釈し、これ
金＃ａ２５２０３水溶液で洗浄、次いで飽和食塩水で洗
浄し、ｗａ ａ ｓＯａ で乾燥したのぢ＃縮する。潜
られた淡黄色油状残渣をシリカゲルカラム上で、べｙセ
シー酢酸エチル（８：ｌ）を用いてりＤマドシラフィー
を行ない、２−（３−ベンジル−７−オ千ソー４−チア
−２，６−ジアザじシフｏ （３，２，０、］］ヘプト
ー２−エン−６−イル−３−（１−メチル−１，２，３
，４−テトラリール−５−イ、ルーチオメチル）−３−
ラテン酸ベンジルを得る（２３．８＃、７５％）。
１．５時間かきまぜる。次に室温ま室温下２０分間かき
まぜる。これに酢酸エチル３ｍｌを加えて希釈し、これ
金＃ａ２５２０３水溶液で洗浄、次いで飽和食塩水で洗
浄し、ｗａ ａ ｓＯａ で乾燥したのぢ＃縮する。潜
られた淡黄色油状残渣をシリカゲルカラム上で、べｙセ
シー酢酸エチル（８：ｌ）を用いてりＤマドシラフィー
を行ない、２−（３−ベンジル−７−オ千ソー４−チア
−２，６−ジアザじシフｏ （３，２，０、］］ヘプト
ー２−エン−６−イル−３−（１−メチル−１，２，３
，４−テトラリール−５−イ、ルーチオメチル）−３−
ラテン酸ベンジルを得る（２３．８＃、７５％）。
ＪＲ（ｎｅａｔ） １７７０．１７４０ａＩｔ−１＃
ＭＲ（δ、ＣＤＣ１３） ３．４７及び３．９３ （ＡＢｑ 、 ２Ｈ、１４，５
Ｈｚ ）、３．７１（Ｓ、３／／）、３．８５（１，２
Ｈ）、４．９１（Ｓ、１７／）、５．０９（５，２Ｈ）
、５．１７（Ｓ、１＃）、５．２９（Ｓ、ＩＨ）、５．
８５及び５−９３ （ＡＢｑ 、２ Ｈ＋ ４ＨＳ）、
７．２５（１，５Ｈ）、７．３４（Ｓ、５’／）実施例
７ 実施例６と同様の方法で次の化合物を製造する。
ＭＲ（δ、ＣＤＣ１３） ３．４７及び３．９３ （ＡＢｑ 、 ２Ｈ、１４，５
Ｈｚ ）、３．７１（Ｓ、３／／）、３．８５（１，２
Ｈ）、４．９１（Ｓ、１７／）、５．０９（５，２Ｈ）
、５．１７（Ｓ、１＃）、５．２９（Ｓ、ＩＨ）、５．
８５及び５−９３ （ＡＢｑ 、２ Ｈ＋ ４ＨＳ）、
７．２５（１，５Ｈ）、７．３４（Ｓ、５’／）実施例
７ 実施例６と同様の方法で次の化合物を製造する。
１
実施例 ８
ＣＯＯＣＲ２Ｐｈ
Ａ
ＣＯＯＣＲ２Ｐｈ
２−（３−ベンジル−７−オ＋ソー４−チア−２，６−
ジアザじシフｏ （３，２，０）ヘプト−２−■シー６
−イル）−３−ヨードメチル−３−プテシ酸ベンジル１
０３．５ｑにジメチルスルホ↑シト０．９ゴを加え均一
溶液とする。これにＮａＮ０ｙ、 ８０り、メタンスル
ホン、酸メチル４０ｔｑを加え溶解させる。水流ポンプ
を用いて反応系を４５−５０・ｒｔ＃ｆｙの減圧状態に
保ちながら４８°Ｃに加熱して４時間反応させる。次い
で室温まで放冷したのち、／ｖａ２Ｓ２０３水溶液を加
えてはげしくかきまぜる。これを１酢酸エチルで抽出し
、有機層を飽和食塩水で洗浄し、Ｎａ ２５Ｏ４で乾燥
したのち濃縮する。得らｎた黄色油状残渣をシリカゲル
カラム上でベンセン−酢酸エチル（１５：１）を用いて
りＤマドクラフィーを行ない２−（３−べ、７ジルー７
−オ十ソー４−チア−２，６−ジアザじシフｏ （３，
２，０）ヘプト−２−ニジ−６−イル）−３−二トｏ＋
ジメチルー３−ラテン酸ベシジルを得る（６８．５ｑ。
ジアザじシフｏ （３，２，０）ヘプト−２−■シー６
−イル）−３−ヨードメチル−３−プテシ酸ベンジル１
０３．５ｑにジメチルスルホ↑シト０．９ゴを加え均一
溶液とする。これにＮａＮ０ｙ、 ８０り、メタンスル
ホン、酸メチル４０ｔｑを加え溶解させる。水流ポンプ
を用いて反応系を４５−５０・ｒｔ＃ｆｙの減圧状態に
保ちながら４８°Ｃに加熱して４時間反応させる。次い
で室温まで放冷したのち、／ｖａ２Ｓ２０３水溶液を加
えてはげしくかきまぜる。これを１酢酸エチルで抽出し
、有機層を飽和食塩水で洗浄し、Ｎａ ２５Ｏ４で乾燥
したのち濃縮する。得らｎた黄色油状残渣をシリカゲル
カラム上でベンセン−酢酸エチル（１５：１）を用いて
りＤマドクラフィーを行ない２−（３−べ、７ジルー７
−オ十ソー４−チア−２，６−ジアザじシフｏ （３，
２，０）ヘプト−２−ニジ−６−イル）−３−二トｏ＋
ジメチルー３−ラテン酸ベシジルを得る（６８．５ｑ。
７６％）。
１Ｒｃｎｌｔ’ｌｔ） １７８０，１７４０．１６
４０．１２７５３−１ ＮＭＲ（δ、ＣＤ（４３） ３．８５（５，２Ｈ）、４．７４（ｓ、２／／）、５．
０１ （Ｓ 、’１／／） 、 ５．１８
（ｓ 、２ ）ｆ） 、５．２２（Ｓ 、ｌ／／）、５
．４３ （ｓ、１／／）、５．８９及び５−９３ （Ａ
Ｂｑ 、２” ＋ ４Ｈｊ）、７．２８ （Ｓ、５Ｈ
）、７．３４Ｃ５，５Ｈ）実施例 ９ ＣＯＯＣＨ２Ｐ ｔｒ ２− ＜、３−ベンジル−７−オ十ソー４−チア−２，
６−、；アザじシフｏ （３，２，０）ヘプト−２−ニ
ジ−６−イル）−３−二トロ＋ジメチル−３−プテン酸
ベンジル３１．２”ｌＦに塩化メチレン０．２５ゴを加
え均一溶液とする。これに亜鉛粉末１５櫂を加え０−５
°Ｃに冷却する。これに酢酸０．２５Ｍ／を加え１３０
分間かきまぜながら反応させる。次いで３耐の酢酸エチ
ルを加えて希釈し、飽和＃ａＨ（−０３水溶液で洗浄、
続いて飽和食塩水で洗浄して、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥した
のち減圧上濃縮する。得られた淡黄色油状残渣をシリカ
ゲルカラム上でベンヒンー酢酸エチル（３：ｌ）を用い
てりＤマドシラフィーを行ない、２−（３−ベンジル−
７一オ士ソー４−チアー２，６−ジアザヒシク（３，２
，０）へラド−２−■シー６−イル）−３−ヒト０＋ジ
メチル−３−ラテン酸ベンジルを得る（２２．６ダ、８
０％）。
４０．１２７５３−１ ＮＭＲ（δ、ＣＤ（４３） ３．８５（５，２Ｈ）、４．７４（ｓ、２／／）、５．
０１ （Ｓ 、’１／／） 、 ５．１８
（ｓ 、２ ）ｆ） 、５．２２（Ｓ 、ｌ／／）、５
．４３ （ｓ、１／／）、５．８９及び５−９３ （Ａ
Ｂｑ 、２” ＋ ４Ｈｊ）、７．２８ （Ｓ、５Ｈ
）、７．３４Ｃ５，５Ｈ）実施例 ９ ＣＯＯＣＨ２Ｐ ｔｒ ２− ＜、３−ベンジル−７−オ十ソー４−チア−２，
６−、；アザじシフｏ （３，２，０）ヘプト−２−ニ
ジ−６−イル）−３−二トロ＋ジメチル−３−プテン酸
ベンジル３１．２”ｌＦに塩化メチレン０．２５ゴを加
え均一溶液とする。これに亜鉛粉末１５櫂を加え０−５
°Ｃに冷却する。これに酢酸０．２５Ｍ／を加え１３０
分間かきまぜながら反応させる。次いで３耐の酢酸エチ
ルを加えて希釈し、飽和＃ａＨ（−０３水溶液で洗浄、
続いて飽和食塩水で洗浄して、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥した
のち減圧上濃縮する。得られた淡黄色油状残渣をシリカ
ゲルカラム上でベンヒンー酢酸エチル（３：ｌ）を用い
てりＤマドシラフィーを行ない、２−（３−ベンジル−
７一オ士ソー４−チアー２，６−ジアザヒシク（３，２
，０）へラド−２−■シー６−イル）−３−ヒト０＋ジ
メチル−３−ラテン酸ベンジルを得る（２２．６ダ、８
０％）。
ＩＲ＜ｎｔｌｌｔ） ３３８０．１７７０．１７４
０．１１５０α−１ ＡＩＭ’Ｒ（δ、ｃｎｃｌ） ２．１２ （ｂｓ 、 ＬＨ）、３．８５（Ｓ、２Ｈ）
、３．９７ （５，２Ｈ）、５．００（１，１Ｈ）、５
．０８（Ｓ、１＃）、５．２０Ｃｓ、２Ｈ）、５．２９
（Ｓ、ｌ／／）、５．９１ ＜ ５．２Ｈ）、７．３２
（ｓ、５Ｈ）、７．３ＶＣ５，５Ｈ）実施例 １０ Ｐｋ ＣＯＯＣＲ２Ｐｈ ２−（３−べｙジル−７−オ十ソー４−チア−２，６−
ジアザごシフｏ Ｃ３，２ｒＯ〕へづトトコ２−ン−６
−イル）−３−しドＤ十ジメチルー３−プテシ酸ベンジ
ル２３．８４に塩化メチレン０．３ｖｒｌを加え均一溶
液とする。これを０−５”Ｃに冷却し、無水酢酸２２μ
ｅを加え、続いてじリジン１２μεを加えて１２時間反
応させる。次いで真空ポンプを用いて減圧「溶媒等を留
去する。得られた淡黄色油状残渣をシリカゲルカラム上
でベンぜシー酢酸エチル（１０：１）を用いてクロマト
クラフィーを行ない、２−（３−ベンジル−７−オ十ソ
ー４−チア−２，６−ジアザじシフＯ（３，２，０）へ
づトー２−エン−６−イル）−３−アセト＋ジメチルー
３−′：５テン酸ベシジルを得る（２４．７ｑ。
０．１１５０α−１ ＡＩＭ’Ｒ（δ、ｃｎｃｌ） ２．１２ （ｂｓ 、 ＬＨ）、３．８５（Ｓ、２Ｈ）
、３．９７ （５，２Ｈ）、５．００（１，１Ｈ）、５
．０８（Ｓ、１＃）、５．２０Ｃｓ、２Ｈ）、５．２９
（Ｓ、ｌ／／）、５．９１ ＜ ５．２Ｈ）、７．３２
（ｓ、５Ｈ）、７．３ＶＣ５，５Ｈ）実施例 １０ Ｐｋ ＣＯＯＣＲ２Ｐｈ ２−（３−べｙジル−７−オ十ソー４−チア−２，６−
ジアザごシフｏ Ｃ３，２ｒＯ〕へづトトコ２−ン−６
−イル）−３−しドＤ十ジメチルー３−プテシ酸ベンジ
ル２３．８４に塩化メチレン０．３ｖｒｌを加え均一溶
液とする。これを０−５”Ｃに冷却し、無水酢酸２２μ
ｅを加え、続いてじリジン１２μεを加えて１２時間反
応させる。次いで真空ポンプを用いて減圧「溶媒等を留
去する。得られた淡黄色油状残渣をシリカゲルカラム上
でベンぜシー酢酸エチル（１０：１）を用いてクロマト
クラフィーを行ない、２−（３−ベンジル−７−オ十ソ
ー４−チア−２，６−ジアザじシフＯ（３，２，０）へ
づトー２−エン−６−イル）−３−アセト＋ジメチルー
３−′：５テン酸ベシジルを得る（２４．７ｑ。
９４％）。
Ｊ Ｒ（ｎｔｔｘｔ） １７７５．１７４５．１７
４０（ＳＡ）、１２３（１１−１ ＮＭＲ（ａ 、 ＣＤＣｌ５） ２．００（５，３Ｈ）、３．８４（５，２Ｈ）、４．４
９（１１２／／Ｌ ５．０５（５，２Ｈ）、５．１５（
ｊ、２Ｈ）、５．２９（Ｓ、１／／）、５．８８（ｂｓ
ｌ２Ｈ）、７．２４（ｊ、５／／）、７．３２（Ｓ、
５／／） 実施例 １１ ＣＯＯＣＲ２Ｐｈ Ｃｏ ＣＨＰｋ ２ ２−（３−ベンジル−７−オ十ソー４−チア−２，６−
ジアザじシフ０ （３，２，０）ヘプト−２−エン−６
−イル）−３−しドロ＋ジメチル−３−″ｊテン酸ベン
ジル２８．３ｍｇに塩化メチレｙ０．３ｔｘｔ’ｅ加え
均一溶液とする。これを０−５°Ｃに冷却し、１ ＣＩＣＯＣＨ２ＣＣＩ３１４．４μｌを加え、続いてじ
リジン１５．６μｌを加えて２．５時間反応させる。次
いで５％塩酸を加えて、これを酢酸エチルで抽出する。
４０（ＳＡ）、１２３（１１−１ ＮＭＲ（ａ 、 ＣＤＣｌ５） ２．００（５，３Ｈ）、３．８４（５，２Ｈ）、４．４
９（１１２／／Ｌ ５．０５（５，２Ｈ）、５．１５（
ｊ、２Ｈ）、５．２９（Ｓ、１／／）、５．８８（ｂｓ
ｌ２Ｈ）、７．２４（ｊ、５／／）、７．３２（Ｓ、
５／／） 実施例 １１ ＣＯＯＣＲ２Ｐｈ Ｃｏ ＣＨＰｋ ２ ２−（３−ベンジル−７−オ十ソー４−チア−２，６−
ジアザじシフ０ （３，２，０）ヘプト−２−エン−６
−イル）−３−しドロ＋ジメチル−３−″ｊテン酸ベン
ジル２８．３ｍｇに塩化メチレｙ０．３ｔｘｔ’ｅ加え
均一溶液とする。これを０−５°Ｃに冷却し、１ ＣＩＣＯＣＨ２ＣＣＩ３１４．４μｌを加え、続いてじ
リジン１５．６μｌを加えて２．５時間反応させる。次
いで５％塩酸を加えて、これを酢酸エチルで抽出する。
。
得られた酢酸エチル溶液を飽和食塩水で洗浄し、Ｎａ２
ＳＯ４で乾燥したのち減圧上溶媒を留去する。
ＳＯ４で乾燥したのち減圧上溶媒を留去する。
得られた無色油状残渣をシリカゲルカラム上でベニ、、
ぜ、−酢酸エチル（２０：１）を用いてりＤマドタラフ
ィーを行ない、２−（３−ベンジル−７−オ十ソー４−
チア−２，６−ジアザじシフＤ〔３゜２．０〕ヘプト−
２−エン−６−イル）−３−（２゜２．２−）リフ００
エト＋シ力ルポニルオ十ジメチル）−３−ブテン酸ベン
ジルを得る（３０イ、７５％）。
ぜ、−酢酸エチル（２０：１）を用いてりＤマドタラフ
ィーを行ない、２−（３−ベンジル−７−オ十ソー４−
チア−２，６−ジアザじシフＤ〔３゜２．０〕ヘプト−
２−エン−６−イル）−３−（２゜２．２−）リフ００
エト＋シ力ルポニルオ十ジメチル）−３−ブテン酸ベン
ジルを得る（３０イ、７５％）。
ＪＲ（ｎｅａｔ） １７７０．１７４５ （’す、
１７３０（Ｓす、１２３５０ｇ−１ ＃ＭＲ（δ、ＣＤ（４３） ３．８５（ｓ、、２Ｈ）、４．１０（ｓ、２Ｈ）、４．
２３（ｓ、２Ｈ）、５．０４（ｓ、１／／）、５．１６
（５，３Ｎ）、５．３７（ｓ、１／／）、５．８４及び
５．９１（ＡＢｑ、２Ｈ９４〃ｌ）、７．２５（１，５
Ｈ）、７．３４（ｓ、５／／）実施例 １２ ０ ： Ｃ００ＣＨ２Ｐｉｔ ２−（３−ベンジル−７−オ＋ソー４−チア−２，６−
ジアザじシフｏ （３ｍ２＝０．３ヘプト−２−ニジ−
６−イル）−３−（１−メチル−Ｌ２，３．４−テトラ
リール−５−イル チオメチル）−３−ブテン酸ベンジ
ル２９．７りにジオ十サン０．６ｍ／を加えて均一溶液
とし、続いて５％塩酸６０μｌを加えて室温下１５分間
反応させる。
１７３０（Ｓす、１２３５０ｇ−１ ＃ＭＲ（δ、ＣＤ（４３） ３．８５（ｓ、、２Ｈ）、４．１０（ｓ、２Ｈ）、４．
２３（ｓ、２Ｈ）、５．０４（ｓ、１／／）、５．１６
（５，３Ｎ）、５．３７（ｓ、１／／）、５．８４及び
５．９１（ＡＢｑ、２Ｈ９４〃ｌ）、７．２５（１，５
Ｈ）、７．３４（ｓ、５／／）実施例 １２ ０ ： Ｃ００ＣＨ２Ｐｉｔ ２−（３−ベンジル−７−オ＋ソー４−チア−２，６−
ジアザじシフｏ （３ｍ２＝０．３ヘプト−２−ニジ−
６−イル）−３−（１−メチル−Ｌ２，３．４−テトラ
リール−５−イル チオメチル）−３−ブテン酸ベンジ
ル２９．７りにジオ十サン０．６ｍ／を加えて均一溶液
とし、続いて５％塩酸６０μｌを加えて室温下１５分間
反応させる。
上記操作とは別に２−ベンリチアシリルジスルフィド３
７．９ｗｇにジオ↑サン２ゴを加え、湯浴で加熱しなが
ら均一溶液とし、これに塩素の０．５９Ｍ四塩化炭素溶
液０．１４ｍ１を加えて１５分間反応させる。これを上
記ジオ十ｆｊ：Ｊ溶液に加えて、室温で５分間かきまぜ
ながら反応させる。次いでこの反応混合物を酢酸エチル
を用いて短いシリカゲルカラムに通し、溶出液を減圧濃
縮する。得られた残渣をベンｙンに溶解し、再びベンゼ
ンを減圧でベンゼン、続いてベンセンー酢酸エチル（４
：１）を用いてり０マドタラフイーを行ない、２−〔３
−フェニルアセトアミド−４−（２−ベンリチアシリル
ジチオ）−２−アセチジノシー１−イル）−３−（１−
メチル−１，２，３，４−テトラソール−５−イル チ
オメチル）−３−ブテン酸ベンジルを得る（３５．７ｑ
、８９％）。
７．９ｗｇにジオ↑サン２ゴを加え、湯浴で加熱しなが
ら均一溶液とし、これに塩素の０．５９Ｍ四塩化炭素溶
液０．１４ｍ１を加えて１５分間反応させる。これを上
記ジオ十ｆｊ：Ｊ溶液に加えて、室温で５分間かきまぜ
ながら反応させる。次いでこの反応混合物を酢酸エチル
を用いて短いシリカゲルカラムに通し、溶出液を減圧濃
縮する。得られた残渣をベンｙンに溶解し、再びベンゼ
ンを減圧でベンゼン、続いてベンセンー酢酸エチル（４
：１）を用いてり０マドタラフイーを行ない、２−〔３
−フェニルアセトアミド−４−（２−ベンリチアシリル
ジチオ）−２−アセチジノシー１−イル）−３−（１−
メチル−１，２，３，４−テトラソール−５−イル チ
オメチル）−３−ブテン酸ベンジルを得る（３５．７ｑ
、８９％）。
ＪＲ（ｎｅａｔ） ３２８０．１７８０．１７４０
．１６７０ ［−１ ＮＭＲ（δ、ＣＤＣｌ ） ３．６９Ｃ５，２Ｎ）、３．７４（Ｓ、３／／）、４．
１９（Ｓ、２Ｋ）、５．１０（５，３Ｈ）、５．２３（
ｄｄ、１／／１４．５７／ｊ ｔ ８／／Ｊ ）、５．
３６ （１、１＃） 、 ５．４８ （１ｔ １／７）
、５．５７ （ｄ 、 １／／ 、 ４．５Ｈ１）、６
．７９（ｄ、１Ｈ９８Ｈ１）、７．１−７．６ （−。
．１６７０ ［−１ ＮＭＲ（δ、ＣＤＣｌ ） ３．６９Ｃ５，２Ｎ）、３．７４（Ｓ、３／／）、４．
１９（Ｓ、２Ｋ）、５．１０（５，３Ｈ）、５．２３（
ｄｄ、１／／１４．５７／ｊ ｔ ８／／Ｊ ）、５．
３６ （１、１＃） 、 ５．４８ （１ｔ １／７）
、５．５７ （ｄ 、 １／／ 、 ４．５Ｈ１）、６
．７９（ｄ、１Ｈ９８Ｈ１）、７．１−７．６ （−。
１２Ｈ）、７．６−８．０ （Ｗｌ、２Ｈ）実施例 １
３ 実施例１２と同様の方法で次の化合物を製造する。
３ 実施例１２と同様の方法で次の化合物を製造する。
１
２
２
実施例 １４
ρム
Ｃ００ＣＩＩ２Ｐ ｈ
２−（３−フェノ十ジメチルー７−オ十ソー４〜チア−
２，６−ジアザピシクｏ Ｃ３，２，０）ヘプト−２−
エン−６−イル）−３−エト＋ジチオカルボニルチオメ
チル−３−ラテン酸ベンジル３２．０ダにジオ十サン０
．５ｍｌを加え均−Ｍ液とし、続いて１０％塩酸０．０
９ｍ＋／を加えて室温で１５分間反応させる。
２，６−ジアザピシクｏ Ｃ３，２，０）ヘプト−２−
エン−６−イル）−３−エト＋ジチオカルボニルチオメ
チル−３−ラテン酸ベンジル３２．０ダにジオ十サン０
．５ｍｌを加え均−Ｍ液とし、続いて１０％塩酸０．０
９ｍ＋／を加えて室温で１５分間反応させる。
上記操作とは別にペンタクＤＩ′］ペンセンチオール６
６．６＃にジオ＋サシ１．９耐を加え、湯浴で加熱しな
がら均一溶液とし、これに塩素の１Ｍ四塩化炭素溶液０
．２４ｙｘｌを加えて１５分間反応させる。
６．６＃にジオ＋サシ１．９耐を加え、湯浴で加熱しな
がら均一溶液とし、これに塩素の１Ｍ四塩化炭素溶液０
．２４ｙｘｌを加えて１５分間反応させる。
これを上記ジオ十サン溶液に加え、室温で３０分かきま
ぜながら反応させる。次いでこの反応混合物を酢酸エチ
ルを用いて短いシリカゲルカラムに通し、溶出液を減圧
濃縮する。得られた残渣をベンヒンに溶解し、再びベン
ゼンを減圧下、留去する。このようにして得られた無色
固体及び淡黄色油状物の混合の残渣をシリカゲル上でベ
ンゼン、続いてベンゼン−酢酸エチル（４０： １ ）
を用いてりＯマドタラフィーを行ない、２−（３−フェ
ノ＋シアセトア三ドー４−ペンタク００フェニルジチオ
−２−アセチジノン−１−イル）−３−工１・＋ジチオ
カルボニルチオメチルー３−ブテン酸ベンジルを得る（
１７．１＃、３４％）。得られた化合物の分析値は実施
例１３の値と一致する。。
ぜながら反応させる。次いでこの反応混合物を酢酸エチ
ルを用いて短いシリカゲルカラムに通し、溶出液を減圧
濃縮する。得られた残渣をベンヒンに溶解し、再びベン
ゼンを減圧下、留去する。このようにして得られた無色
固体及び淡黄色油状物の混合の残渣をシリカゲル上でベ
ンゼン、続いてベンゼン−酢酸エチル（４０： １ ）
を用いてりＯマドタラフィーを行ない、２−（３−フェ
ノ＋シアセトア三ドー４−ペンタク００フェニルジチオ
−２−アセチジノン−１−イル）−３−工１・＋ジチオ
カルボニルチオメチルー３−ブテン酸ベンジルを得る（
１７．１＃、３４％）。得られた化合物の分析値は実施
例１３の値と一致する。。
実施例 １５
ρム
０ＯＣＨ３
２−（３−ベシジルー７−オ十ソー４−チア−２，６−
ジアザじシフｏ （３，２，０）ヘプト−２−ニジ−６
−イル）−３−エト十ジカルボニルチオメチル−３−ラ
テン酸メチル２５．１ ｑにジオ十サン０．２５ｍ１を
加え均一溶液とし、続いて５０μｌの水を加える。
ジアザじシフｏ （３，２，０）ヘプト−２−ニジ−６
−イル）−３−エト十ジカルボニルチオメチル−３−ラ
テン酸メチル２５．１ ｑにジオ十サン０．２５ｍ１を
加え均一溶液とし、続いて５０μｌの水を加える。
上記操作とは別に２−メルカプトベンツチアソー ＩＬ
、 ９．４４と沃素１４．２＃ｇをジｔｆ”ｆｆ：ｙｌ
ｌｌ／に溶解する。これを上記ジオ十サシ溶液に加えて
、室温で９０分間反応させる。次いてジエチルエーテル
５ ｍｌを加えて希釈し、これを■ａ２Ｓ２０３水溶液
、飽和食塩水で洗浄し、＃Ｊ、Ｓｏ４で乾燥したのち減
圧ド濃縮する。得られた黄色油状残渣をシリカゲルカラ
ム上でベシセンー酢酸エチル（８：１）を用いてり０マ
ドタラフイーを行ない、２−（３−フェニルアセドアミ
ド−４−（２−ペンリチアソリルジチオ）−２−アゼチ
ジノン−１−イル）−３−エト＋ジチオカルボニルチオ
メチル−３−ラテン酸メチルを得る（１８．２＃、５２
％）。得られた化合物の分析値は実施例１３の値と一致
する。
、 ９．４４と沃素１４．２＃ｇをジｔｆ”ｆｆ：ｙｌ
ｌｌ／に溶解する。これを上記ジオ十サシ溶液に加えて
、室温で９０分間反応させる。次いてジエチルエーテル
５ ｍｌを加えて希釈し、これを■ａ２Ｓ２０３水溶液
、飽和食塩水で洗浄し、＃Ｊ、Ｓｏ４で乾燥したのち減
圧ド濃縮する。得られた黄色油状残渣をシリカゲルカラ
ム上でベシセンー酢酸エチル（８：１）を用いてり０マ
ドタラフイーを行ない、２−（３−フェニルアセドアミ
ド−４−（２−ペンリチアソリルジチオ）−２−アゼチ
ジノン−１−イル）−３−エト＋ジチオカルボニルチオ
メチル−３−ラテン酸メチルを得る（１８．２＃、５２
％）。得られた化合物の分析値は実施例１３の値と一致
する。
実施例 １６
２−〔３−フェニルアセドアミド−４−（２−ペンリチ
アシリルジチオ）−２−アセチジノう−１−イル）−３
−（１−メチル−１，２，３，４−テトラリール−５−
イル チオメチル）−３−ブテン酸ベシジル３５．７１
１１にジメチルホルムアミド０．７ｍｌを加え均一溶液
とする。これを−３０−３５℃に冷却し、アン上ニアガ
スをジメチルホルムアミドに溶かして調整した溶液（約
３．３Ｍ＞２３μｌを加えて１５分間かきまぜながら反
応させる。これを−３０℃に保ったまま、真空ポンプを
用い−Ｃ減圧下過剰のアシ七ニアを留去する。次いで徐
々に温度を室温までもどしながら溶媒を留去する。
アシリルジチオ）−２−アセチジノう−１−イル）−３
−（１−メチル−１，２，３，４−テトラリール−５−
イル チオメチル）−３−ブテン酸ベシジル３５．７１
１１にジメチルホルムアミド０．７ｍｌを加え均一溶液
とする。これを−３０−３５℃に冷却し、アン上ニアガ
スをジメチルホルムアミドに溶かして調整した溶液（約
３．３Ｍ＞２３μｌを加えて１５分間かきまぜながら反
応させる。これを−３０℃に保ったまま、真空ポンプを
用い−Ｃ減圧下過剰のアシ七ニアを留去する。次いで徐
々に温度を室温までもどしながら溶媒を留去する。
得られた淡黄色油状残渣をシリカゲルカラム上でベシゼ
ン、続いてペンｔ！シー酢酸エチル（４： １）を用い
てり０マドクラフイーを行ない、７−フェニルアセドア
三ド−３−（１−メチル−１，，２，３，４−テトラリ
ール−５−イル チオメチル）−３−セフェム−４−カ
ルボン酸ベンジルを得る（ ２４．６岬、９０％）。
ン、続いてペンｔ！シー酢酸エチル（４： １）を用い
てり０マドクラフイーを行ない、７−フェニルアセドア
三ド−３−（１−メチル−１，，２，３，４−テトラリ
ール−５−イル チオメチル）−３−セフェム−４−カ
ルボン酸ベンジルを得る（ ２４．６岬、９０％）。
ＷＭＲ（ａ 、 ＣＤＣう）
３．６１ （Ｓ １２／／） 、３．６６（１，２Ｈ）
、３．８４ （Ｓ、 ３Ｈ） 、 ４．２５及び４．４
５（ＡＢｑ ｓ ２ Ｈ９１３Ｈｌ）、４．９０Ｃｄ。
、３．８４ （Ｓ、 ３Ｈ） 、 ４．２５及び４．４
５（ＡＢｑ ｓ ２ Ｈ９１３Ｈｌ）、４．９０Ｃｄ。
ｌ Ｈ、５／／Ｊ ）、５’、２７ （Ｓ 、 ２１１
）、５．７９ （ｄｄ ｔ ＩＨ１５Ｈ１１７，５Ｍ
ｇ ）、６．３５（ｄ 、 ＩＨ，７，５ＨＩ ）、
７．３０（ｆ、５＃）、７．４７（ｊ、５＃） 実施例 １７ 実施例１６と同様の方法で次の化合物を製造する。
）、５．７９ （ｄｄ ｔ ＩＨ１５Ｈ１１７，５Ｍ
ｇ ）、６．３５（ｄ 、 ＩＨ，７，５ＨＩ ）、
７．３０（ｆ、５＃）、７．４７（ｊ、５＃） 実施例 １７ 実施例１６と同様の方法で次の化合物を製造する。
２
２
実施例 １８
ＣＯＯＣＨ２Ｐ ｋ
１
２−〔３−フェニルア七ドアミド−４−（２−ベン９チ
アシリルジチオ）−２−アセチジノツー１−イルクー３
−アセト十ジメチル−３−ブテン酸ベンジル４３．ＯＷ
にジメチルホルムアミドｏ、５５ｍ１ ｆ ＩＭえ均一
溶液とする。これを−２５°Ｃに冷却し、２８％アンｔ
ニア水１４μｌを加えて１時間かきまぜながら反応させ
る。次に５％塩酸５滴を加えて、かきまぜながら温度を
室温までもどす。
アシリルジチオ）−２−アセチジノツー１−イルクー３
−アセト十ジメチル−３−ブテン酸ベンジル４３．ＯＷ
にジメチルホルムアミドｏ、５５ｍ１ ｆ ＩＭえ均一
溶液とする。これを−２５°Ｃに冷却し、２８％アンｔ
ニア水１４μｌを加えて１時間かきまぜながら反応させ
る。次に５％塩酸５滴を加えて、かきまぜながら温度を
室温までもどす。
これに３ ｍｌの酢酸エチルを加えて希釈し、飽和食塩
水で洗浄してのちｗａ ２ｓＯａで乾燥し、減圧上溶媒
を留去する。得られた淡黄色残渣をシリカゲルカラム上
でベンゼン−酢酸エチル（１０：ｌ）を用いてりＤマド
タラフィーを行ない、７−フエニルア七ドア三ドー３−
アセト＋ジメチル−３−セフェム−４−カルポジ酸ベシ
ジルを得る（ ２２．９ｑ、７２％）。得られた化合物
の分析値は実施例１７の値と一致する。
水で洗浄してのちｗａ ２ｓＯａで乾燥し、減圧上溶媒
を留去する。得られた淡黄色残渣をシリカゲルカラム上
でベンゼン−酢酸エチル（１０：ｌ）を用いてりＤマド
タラフィーを行ない、７−フエニルア七ドア三ドー３−
アセト＋ジメチル−３−セフェム−４−カルポジ酸ベシ
ジルを得る（ ２２．９ｑ、７２％）。得られた化合物
の分析値は実施例１７の値と一致する。
実施例 １９
１
ＣＯＯＣＨ２Ｐ Ａ
７−フェニルアセドアミド−３−二ｔ−ｏ＋ジメチル−
３−セフェム−４−カルボン酸ベンジル１２．９ｗＩｇ
に塩化メチレン０ 、１５ ｄを加え均一溶液とする。
３−セフェム−４−カルボン酸ベンジル１２．９ｗＩｇ
に塩化メチレン０ 、１５ ｄを加え均一溶液とする。
これに亜鉛粉末５．２ｑを加えて０−５°Ｃに冷却する
。これに酢酸０．１５ｍ１を加え１３５分間かきまぜな
がら反応させる。次いで酢酸エチル３ゴを加えて希釈し
、飽和Ｎａ ＨＣＯ３水溶液で洗浄続いて飽和食塩水で
洗浄して、Ｎａ２５ｏ４で乾燥したのち減圧Ｆａ縮する
と７−フェニルアセドア三Ｆ−３−しドロ↑ジメチルー
３−セフェム−４−カルボン酸ベンジルを得る（１０．
０１＃、８５％）。
。これに酢酸０．１５ｍ１を加え１３５分間かきまぜな
がら反応させる。次いで酢酸エチル３ゴを加えて希釈し
、飽和Ｎａ ＨＣＯ３水溶液で洗浄続いて飽和食塩水で
洗浄して、Ｎａ２５ｏ４で乾燥したのち減圧Ｆａ縮する
と７−フェニルアセドア三Ｆ−３−しドロ↑ジメチルー
３−セフェム−４−カルボン酸ベンジルを得る（１０．
０１＃、８５％）。
ＮＭＲ（δ、 ＣＤＣら）
２．６０ （ｂ １ 、 ｌ／／）、３．５２ （５，
２Ｈ）、３．６１（ｓ 、２Ｈ）、４．０２及び４．４
８ＣＡＢｑ 、２Ｈ，１３，５／／ｇ ）、４．９
０（ｄ。
２Ｈ）、３．６１（ｓ 、２Ｈ）、４．０２及び４．４
８ＣＡＢｑ 、２Ｈ，１３，５／／ｇ ）、４．９
０（ｄ。
ｌ Ｈ、４１ｆｔ ）、５．２５ （Ｓ、２’Ｈ）、５
．８１（ｄｄ ＋ＩＨ＋４Ｈｚ ＋９”）、６．５１（
ｄ。
．８１（ｄｄ ＋ＩＨ＋４Ｈｚ ＋９”）、６．５１（
ｄ。
ＩＪＩ、９Ｈｚ ）、７．２８（Ｓ、５／／）、７．３
７（Ｓ、５１Ｉ） （以 上） ９５− １１４９−
７（Ｓ、５１Ｉ） （以 上） ９５− １１４９−
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ■ 一般式 〔式中、Ｒはアル＋ル基、アルケニル基、置換もしくは
非置換のアリール基、置換もしくは非置換のアリールメ
チル基又は置換もしくは非置換のフェノ＋ジメチル基を
示す。Ｒ２は、カルボキシル基又は保護されたカルボキ
シル基を示す。〕 で表わされるチア９リノアセチジノン誘導体と、求核剤
とを有機溶媒中で反応させて、一般式〔式中、Ｒ１及び
Ｒ２は上記に同じ。Ｙは、求核剤残基を示す。〕 で表わされるチア９リノアセチジノン誘導体を得、これ
を含水有機溶媒中、一般式 ％式％（） 〔式中、Ｚは置換もしくは非置換のアリール基又は置換
もしくは非置換の芳香族複素根残基を示す。Ｘは、へ〇
ゲン原子を示す。〕で表わされる含硫黄化合物と反応さ
せて、一般式 〔式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｙ及びＺは前記に同じ。〕で表わ
されるアぜチジノン誘導体を得、これに有機溶媒中、ア
ンモニアを作用させて閉環させることを特徴とする一般
式 〔式中、Ｒ１、Ｒ２及びＹは前記に同じ１．〕で表わさ
れるセファ０スポリン誘導体の製造法。 ■ 求核剤が、一般式 〔式中、Ｍはアルカリ金属を示し、Ｒはハロゲン原子を
置換基として有することのある低級アル＋ル基又は置換
もしくは非置換のフェニル基を示す。〕 で表わされる化合物である特許請求の範囲第１項に記載
の製造法。 ■ 一般式 〔式中、Ｒはアル＋ル基、アルケニル基、置換もしくは
非置換のアリール基、置換もしくは非置換のアリールメ
チル基又は置換もしくは非置換のフェノキジメチル基を
示す。Ｒ２は、カルボ＋シル基又は保護されたカルボ＋
４− シル基を示す。〕 で表わされるチアソリノアゼチジノシ誘導体と、アルカ
リ金属ヨウ化物とを有機溶媒中で、反応させて、一般式 〔式中、Ｒ及びＲ２は前記に同じ。〕 で表わされるチアリリノアセチジノン誘導体を得、これ
を有機溶媒中で求核剤と反応させて、一般式 〔式中、Ｒ１及びＲ２は前記に同じであり、Ｙは求核剤
残基を示す。〕 で表わされるチアリリノアセチジノン誘導体を得、次い
で該化合物を含水溶媒中、一般式％式％（１） 〔式中、Ｚは置換もしくは非置換のアリール基又は置換
もしくは非置換の芳香族複素、！Ｊｔ残基を示す。Ｘは
ハロゲン原子を示す。〕で表わされる含硫黄化合物と反
応させて、一般式 〔式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｙ及びＺは前記に同じ。〕で表わ
されるアセチジノン誘導体を得、これに有機溶媒中、ア
ンモニアを作用させて閉環させることを特徴とする一般
式 〔式中、Ｒ１、Ｒ２及びＹは前記に同じ。〕で表わされ
るセファロスポリン誘導体の製造法。 ■ 求核剤が、一般式 ％式％（） 〔式中、Ｍはアルカリ金属を示し、Ｙは基Ｒはハロゲン
原子を置換基として有することのある低級アル＋ル基又
は置換もしくは非置換のフェニル基を示し、Ｒは置換も
しくは非置換の芳香族複素環残基を示すか又はＲ３と同
一の意味を有する。〕 ７− で表わされる化合物である特許請求の範囲第３項記載の
製造法。 ■ 求核剤が、／％’ａＮＯ３又はＫＮＯ３である特許
請求の範囲第３項記載の製造法。 ■ 一般式 〔式中、Ｒはアル十ル基、アルケニル基、置換もしくは
非置換のアリール基、置換もしくは非置換のアリールメ
チル基又は置換もしくは非置換のフェノ＋ジメチル基を
示す。Ｒ２は、カルボ十シル基又は保護されたカルボ十
シル基を示す。〕 で表わされるチア９リノアセチジノン誘導体を８− 酢酸の存在下、亜鉛と反応させて、一般式〔式中、Ｒ及
びＲ２は前記に同じ。〕 で表わされるチア９リノアセチジノン誘導体を得、次い
で該化合物の水酸基を保護することによシ、一般式 〔式中、Ｒ及びＲ２は前記に同じ。Ｙは保−された水酸
基を示す。〕 で表わされるチア９リノアセチジノン誘導体を得、次い
で該化合物を含水有機溶媒中、一般式％式％（） 〔式中、Ｚは置換もしくは非置換のアリール基又は置換
もしくは非置換の芳香族複素環残基を示す。Ｘはハ０ゲ
シ原子を示す。〕で表わされる含硫黄化合物とを反応さ
せて、一般式 〔式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｙ及びＺは前記に同じ。〕で表わ
されるアセチジノン誘導体を得、これに有機溶媒中、ア
シ上ニアを作用させて閉環させることを特徴とする特許 〔式中、Ｒ１、Ｒ２及びＹは前記に同じ。〕で表わされ
る七ファＯスポリン誘導体の製造法。 １ 又は−０ＣＯＲ３であシ、Ｒ３がハロゲン原子を置換基
として有することのある低級アル＋ル基又は置換もしく
は非置換のフェニル基である特許請求の範囲第６項記載
の製造法。 ■ 一般式 〔式中、Ｒはアル十ル基、アルケニル基、置換もしくは
非置換のアリール基、置換もしくは非置換のアリールメ
チル基又は置換もしくは非置換のフェノ＋ジメチル基を
示し、Ｒ２はカルボ十シル基、又は保護されたカルボ十
シル基を示す。〕 で表わされるセファロスポリン化合物を、酢酸の存在下
、亜鉛と反応させることを特徴とする一般式 〔式中、Ｒ及びＲ２は前記に同じ。〕 で表わされるセファ０スポリシ化合物の製造法・
Priority Applications (8)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57153569A JPS5942390A (ja) | 1982-09-02 | 1982-09-02 | セフアロスポリン化合物の製造法 |
| PCT/JP1983/000291 WO1984000964A1 (fr) | 1982-09-02 | 1983-09-01 | Procede de preparation de composes de cephalosporine |
| EP90110594A EP0397212B1 (en) | 1982-09-02 | 1983-09-01 | Process for preparing cephalosporin compounds |
| US06/609,080 US4665166A (en) | 1982-09-02 | 1983-09-01 | Process for preparing cephalosporin compounds |
| DE3382800T DE3382800T2 (de) | 1982-09-02 | 1983-09-01 | Verfahren zur Herstellung von Cephalosporinen |
| EP83902823A EP0117872B1 (en) | 1982-09-02 | 1983-09-01 | Process for preparing cephalosporin compounds |
| DE8383902823T DE3382382D1 (de) | 1982-09-02 | 1983-09-01 | Herstellungsverfahren von cephalosporinverbindungen. |
| US06/918,248 US4808712A (en) | 1982-09-02 | 1986-10-14 | Process for preparing cephalosporin compounds |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57153569A JPS5942390A (ja) | 1982-09-02 | 1982-09-02 | セフアロスポリン化合物の製造法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20365789A Division JPH02300190A (ja) | 1989-08-04 | 1989-08-04 | セファロスポリン化合物の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5942390A true JPS5942390A (ja) | 1984-03-08 |
| JPH0419997B2 JPH0419997B2 (ja) | 1992-03-31 |
Family
ID=15565357
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57153569A Granted JPS5942390A (ja) | 1982-09-02 | 1982-09-02 | セフアロスポリン化合物の製造法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US4665166A (ja) |
| EP (2) | EP0397212B1 (ja) |
| JP (1) | JPS5942390A (ja) |
| DE (2) | DE3382800T2 (ja) |
| WO (1) | WO1984000964A1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08132954A (ja) * | 1994-03-09 | 1996-05-28 | Yoshimasa Okado | キャンピングカーに転用できる貨客兼用車 |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| USRE35862E (en) * | 1986-08-18 | 1998-07-28 | Emisphere Technologies, Inc. | Delivery systems for pharmacological agents encapsulated with proteinoids |
| US5401516A (en) * | 1992-12-21 | 1995-03-28 | Emisphere Technologies, Inc. | Modified hydrolyzed vegetable protein microspheres and methods for preparation and use thereof |
| US6310052B1 (en) | 1996-06-04 | 2001-10-30 | Queen's University At Kingston | Nitrate esters and their use for neurological conditions |
| CN102140103A (zh) * | 2011-01-24 | 2011-08-03 | 石家庄柏奇化工有限公司 | 以青霉素g/k为原料制备7-氨基-3-氢头孢烷酸的方法 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2099817B (en) * | 1981-04-10 | 1985-05-15 | Otsuka Kagaku Yakuhin | Azetidinone derivatives and process for the preparation of the same |
| US4482491A (en) * | 1981-05-01 | 1984-11-13 | Otsuka Kagaku Yakuhin Kabushiki Kaisha | Thiazolinoazetidinone derivatives and process for the preparation of the same |
| JPS5885894A (ja) * | 1981-11-17 | 1983-05-23 | Otsuka Chem Co Ltd | セフアロスポリン化合物の製造法 |
-
1982
- 1982-09-02 JP JP57153569A patent/JPS5942390A/ja active Granted
-
1983
- 1983-09-01 EP EP90110594A patent/EP0397212B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1983-09-01 US US06/609,080 patent/US4665166A/en not_active Expired - Lifetime
- 1983-09-01 DE DE3382800T patent/DE3382800T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1983-09-01 EP EP83902823A patent/EP0117872B1/en not_active Expired
- 1983-09-01 DE DE8383902823T patent/DE3382382D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1983-09-01 WO PCT/JP1983/000291 patent/WO1984000964A1/ja not_active Ceased
-
1986
- 1986-10-14 US US06/918,248 patent/US4808712A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08132954A (ja) * | 1994-03-09 | 1996-05-28 | Yoshimasa Okado | キャンピングカーに転用できる貨客兼用車 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4808712A (en) | 1989-02-28 |
| DE3382800T2 (de) | 1996-09-19 |
| JPH0419997B2 (ja) | 1992-03-31 |
| DE3382800D1 (de) | 1996-02-22 |
| WO1984000964A1 (fr) | 1984-03-15 |
| EP0397212B1 (en) | 1996-01-10 |
| US4665166A (en) | 1987-05-12 |
| EP0117872B1 (en) | 1991-08-21 |
| EP0117872A1 (en) | 1984-09-12 |
| EP0397212A1 (en) | 1990-11-14 |
| DE3382382D1 (de) | 1991-09-26 |
| EP0117872A4 (en) | 1985-07-30 |
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