JPS5945440A - 厚膜フアインパタ−ン - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は小ノ１．リコイル、高密１隻コネクター、高密
度配線等の各ｔｉｌｉ　Ｔ（−（、子部品に使用される
微細、高精度、高密黒ユの厚１換パターン処係り、史に
詳しくは高さが２０　ｔｉ以上で、断面形状がはｙ矩Ｊ
［そをイ１し、巾が５〜２００μ、隣接するパターンと
の間隔が１０ｚｔ以１−―で、該Ｉｌｌと高さとの比が
１に以Ｆでああろことを／１．ｌｒ徴とした）＋、５＋
膜ファインパターンに関するものである。

従来のフォトレジストやスクリーン印刷技術を利用した
ファインパターンカ旧−「ではＩｆ！ｌ；３厚に限界が
あり、氾１図に示す如（基板１１−に形成されたファイ
ンパターン２の高５１＋は１　［］　／Ｉ以下であり、
又一部Ｖこは３（］〜５　［、Ｉ　ｆｔの）１，１膜レ
ジストもあろが、この場合υ′ｒ、はパターン２の断面
＝Ｌ法のＩｆ］　ａと高さ１１ノーの１１；は１／１が
１１灸小であり、ノ［（＋常はパターン２σ月１１　ａ
ｌし／シスト膜〕：１．　＜パターンの高さｈに相当）
以下であった。史に凸版印刷用版相のしＩＪ　−フパタ
ーン２′は第２図に示すμ口く、印刷時に力が加わった
時の変形を防ぐために富士型の断面形状を有しており、
このものは隣接するパターンとの間隔が底部に於て接近
していた。従ってこれ等の従来のパターンはレリーフ［
１〕に対してレリーフ高さの高いかつ断面形状が矩形状
を有した厚膜ファインパターンが得られない為に高性能
及び小型化を要〉１ζされる各抑型子部品等にを主便用
することが出来ない欠点があった。

本発明は従来の之等の欠点に鑑み開発した全く新規な技
術であって、特にＩＩＪに比較して旨さが商くかつＫｌ
ｉ而形面が＆ｇｌ、ｒ　′）、ｔｉ形をトＪ１一つた厚
膜ファインパターンに関するものである。

本発明は上述の厚膜ファインパターンを得る為に感）し
性樹脂組成物の中で、特に活性光線の照射により光車台
反応を起こし、光硬化し液状から固状となお）か又は各
神俗削に対イる溶解性が減少するＩ持性を持ったＷ；−
ｔｌｊ合件絹成組成を使用１ｄ二。この種の感光性樹脂
組成物の内でもフォトレジストとして良＜用いられる）
“Ｃ二車量化組成′吻、ジアゾ糸組成物、光：１１［溶
性組成物等は厚膜を硬化させることカカ１１かしく、前
述の如き本発明のＪＶ　膜ファインパターンを製、浩゛
１７１為に用いること目、困’）ｉｌｌである。

ｎノに本発明に於て（よ固状光硬化１’Ｐ　ｌ組成物を
用いず静状尤イ１す！化性組成物を１り団１した。こσ
月ＩＩＩ山は固状）Ｙ、硬化１′１躇１１ＩＩ！４物が
、（；Ｃ１１１町化１１１１分を除去するのに各種溶？
１１１で未硬化Ｈ’ＨｊｉをＭ　Ｉ’＋’ｉ’除去する
ためにレリーフパターンが各種溶削で未イ１す！化１１
ｂ分を溶解除去するために１ノリーフパターンが溶削で
膨潤する欠点があるのに対し、本発明に使用される液状
光硬化性組ＪＪｙ物はｉ４に純に未硬化物を洗い流した
り、場合によってはエアブロ−、シャワー等の４１！械
的手段によっても除去することカ”＝ｎＪ能であり、か
つ鮮明ｌ、Ｃ輪郭を持ったレリーフパターンを得ろこと
が出来る７ｔ−１ｊ徴を持っているからである。

）Ｙシ小合吐組阪物の具体例として（↑、次の通りであ
る。

ＪＪＩＪじ、本発明妊用いられる）′ｒ；重合性川成組
成しては不ｆ１１８１相基のｙＬ屯合を利用したもの、
オギシラン」（；ｉの開環重合を利用するものなど各１
′Φのものが力、ろが、その代表としてはエチレン性不
ｆｒ：５相基を１１するプレＴ１？リマーと必要により
エヂレン？’Ｉ　、（・飽和中１１１〜体、）Ｙ二重合
開始ハ１［、ｉｔ、％重合禁ＩＩ−削とが１っブ、［イ
）舶１戊物℃ある。」二重ブレ７ビリマーとしては、不
ｆＯ相ポリエステル、不飽和ＩＩソリウレタン、オリイ
エスデルアクリレート類、不飽和ポリアミＩパ、不飽和
、ｌｒリイミド、不飽和７１？リエーテル、不飽和ポリ
（メタ）アクリレート及びこれらの各抽変性体、炭素−
炭素二重結合をイエする各イｌハゴノ・化合物等を例示
することができる。これらのプレ＋＋２リマー〇数平均
分子膝は、実質的に５００以」−のものを用いるのが一
般的である。

さら妊、具体的１．６例を示すと、不飽和、ｌ？　ＩＪ
ニスデル及びアルキッドどしては、例えばマレイン酸、
フマル酸、イタコン酸のような不飽和二塙基酔土Ｉこは
その酸無水物とエヂレングリコール、ノロピレングリコ
ール、ジエチレングリコール、トリエヂレングリコール
、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリ（
リット、末端水酸基を有Ｉ−るｉ、４ｙ＋？リゾタジエ
ン、水添または非水添１．２−ポリシタジエン−アクリ
ロニトリル共重合体などの多価アルコールとのポリエス
テル、前記酸成分の一部なコハク酸、アジピン酸、フタ
ル酸、イソフタル酸、無水フタル酸、トリメリットｆｆ
１１．Ｃどの飽和多塩基酸にｉ値き換えたポリエステル
あるいは乾ｆｉｇ油脂肪酸または半乾性油脂肪酸で変性
したポリエステルなどが、不飽和ポリウレタンどしては
、すなわち２個以」−の末塙水酸基を・ｆｊす４　＋ｌ
？ｌオリルと７１？リイソシアネートカ・ら誘導された
ウレタン基を介して連結した化合物の末端インシアネー
ト基あるいは水酸基を利用してイで１加用合性不飽和基
を導入したもの、例えば前記した多重曲アルコール、７
１？リエスデルポリオール、ポリニーデルポリオールな
どの１＋？リオール末端水酸基を有する１、４−ポリブ
タジェン、水添または非水添１．２−ｄ？リプタジエン
、シタジエン−スチレン共ｌ（合体、ブタジェン−アク
リロニトリル共重合体とトルイレンジイソシーアネート
、ジフェニルメタン−４，４′−ジインシアネート、へ
・１′ザメヂレンジイソシ゛アネートなどのポリイソシ
アネートとのボリウ１／タンの末端イソシアネートある
いは水酸基の反応Ｉ１１゛を利用（２て不飽和基を導入
したもの、すｌ、ｃわ′し）、前記１７た不飽和カルボ
ン酸又はソ１ねニスデルのつｒ〕水酸児、カルス１ツキ
シルＪｉｌ、７ミノ＃−７，Ｃどの活性水２くを有する
化合′吻とインシアネートとの反応に７Ｌり不飽和基を
導入したり、カルボーヤシル基を何するものと水酸基と
の反応によりイく胞（１０ｔ・を導入し１こ化合物また
は前記の不飽和・１？り工スブ゛ルをポリイソ７アネー
トで連結した化合物／、【どが、オリコ゛エステルアク
リレート類としては、すなわち多塩基酸と多価アルコー
ルのエステル反応系にアクリル酸またはメタクリル酸を
共存させて、共縮合さ〜１むそれぞれのモル比を調整し
て分子量２００〜５０００程１Ｗとしたもの、例えばア
ジピン酸、フタル酸、イソフタル酸または酸無水物など
とエチレングリコール、プロピ１／ングリコール、ジエ
チレングリコール、トリエチレングリコール、グリセリ
ン、トリメヂロールプロパン、ペンタエリトリットなど
の多価アルコールとのエステル反応系にアクリル酸また
はメタクリル酸を共存させて縮合させたもの、エポキシ
アクリレート類、例えば多価アルコール、多価フェノー
ルまたはポリフェノールとエピクロルヒドリンまたはア
ルキレンオキシビとの重縮合反応によりｉ（）もれるエ
ポキシ基を有する化合物とアクリル酸またはメタクリル
酸とのエステル、側鎖に付加ｎｆ合性炭素−炭素二１１
【結合を有する高分子化合物、例ｔ　ハフ１？リビニル
アルコール、セルロースのような水酸基をもつ高分子化
合物と不飽和カルボン酸また番まそのＣ１夕無水物とを
反応させて得られる化合物や、アクリル酸７トｌ、−は
メタクリル酸の重合体または共重合体のよう１．ｃカル
ボキシル基をもつ高分子化合物に不飽和アルコール、グ
リシジルアクリレートまたはメタクリレートをニスデル
結合させたもの、無１ｌ（７１／イン酸を含イ１する共
ｖ］を合体とアリル゛アルコール、ヒドロキシアルキル
アクリレート寸ｆ、Ｚｋ主メタクリ【／−トとの反応物
など、グリシジルアクリレートまた（′；Ｉ、メタクリ
レートを共重合成分として含イｊする共ル合、体とアク
リル酸またはメタクリル酸との反応物などを挙げること
ができる。

また、各種ゴノ・化合物としては、＋Ｉ１１，４ポリノ
タジエン、１．２−７１？リゾタジエン、ブタジェン−
スチレン共ｆｆｔ合体、シタジエン−アクリロニトリル
共重合体、■弓Ｐ　Ｄ　Ｍ、＋１１．１　、、、ｌ−間
中の水添化物、インブブレーイソブレン共取合体、エチ
レンプロピレン共重合体そ＋２て（Ｉｌに示される各種
ゴムＪｕｌ上の化合物に公知の技術によりエチレン性不
飽和基を導入した不飽和変性イム等゛を例示できる。（
［１の化合物はそのままでも使用できるが、該不飽和基
を／、ｉｙ入寸ろには、末端官能基を有する各種イノ・
什。

合物を用いるのが便利である。また、１，２−ポリブタ
ジェンセグメントを４１するゴム化合物の場合は該化合
物に無水マレイン酸珀を付加することにより、核不ｆイ
ヌ相基な容易に導入できろ。

−Ｉ−記以外のプレポリマーとして、エヂレン性三車結
合の付加以外の機構により）Ｙ；重合する該二重結合を
含有しない化合物例えば、水＋ｉＪ　ｆｇ性ナナイロン
ポリビニルアルコール及びその誘へｔｆ、体を用いても
一向にダ１Ｊ５１一つがえない。

エブーレン＋′１−不飽相単購休としては、公知の種々
の化合物を便用できろが、このような化合物の例として
は、′アクリレート、メタクリル酸のような不飽和カル
ボンｌ’ｉ’？　：）：たはそのニスデル、例えばアル
キル−、シクロアルキル−、ハロゲン化アルへ−ル−、
アルコキシアルギルー、ヒト９０キシアルキル−、アミ
ノアルキル−、クートジヒトゝロノル７リルー、アリル
−、グリシジル−、ベンジル−、フェノ■シーツ゛クリ
１ノー１・及びメタクリレート、アルキレングリコール
、ポリ、オキシアルキレングリコールの・“Ｅノｆたけ
ジアクリレート及びメタクリレート、トリメヂロールプ
ロパントリアクリレート及びメタクリレート、ペンタエ
リトリットテトラアクリレート及びメタクリ１ノートな
ど、アクリルアミド゛、メタクリルアミドまたはその５
力導体、例えばアルキル、ヒドロキシアルギルでＮ　　
ｌｉｅ　Ｉ９！！　”また＆：Ｌ、　Ｎ、　Ｎ’−置換
したアクリルアミド及びメタクリルアミド８、ジアセト
ンアクリルアミ１ご及びメタクリルアミド９、Ｎ、Ｎ’
−アルキレンビスアクリルアミド８及びメタクリルアミ
ド１．（と、アリル化合′吻、例えばアリルアルコール
、アリルイソシアネート、ジアリルフタレート、トリ゛
アリルシアヌ【／−ト／、［と、マレイン酸、無／Ｊ’
Ｃ７１メイン酸、フマル酸マた（土そのニスデル、例え
ばアルギル、ハロゲン化アルギル、アルコキシアルギル
のモノ！！：たはシマ１／エート及びフマレートフ、（
と、その他の不飽相化合物例エバスチレン、ビニルトル
エン、ジビニルベンゼン、Ｎ−ビニルカルバゾール、Ｎ
−ヒニルビロリドン／、（どを挙げ４）ことができ２）
。３）だこれらのｊ）４Ｍ体の１部イｖ・′γシト″糸
化合物例えば４．．４’−ジアジｌゝスヂルベン、］）
−］フェニレンービスアジド４，４′−ジアジド゛ベン
ゾフェノン、４．４’−ジアジドゝフ、ゴーニルメタン
、４．４’ジアジドゝノＪルコン、２，６−ジ（４′−
ジアジド９ベンザル）−シクロへ八−リノン、／１，４
’−ジアジドゝスチルベン−〔Ｙ−／Ｊ　ｎ、−ホン、
４７＋ｌｙ　、４　、４　／−ジアジ１やジフエニノへ
４．４′−ジアジド゛スチルベン−２，２’−ジスルホ
ン酸ソーダなどにｌ＋’１．きかえろことができる。

こねらの＋ｐ、　ｌ・１休はプレ１１ソリマ一１００爪
曜部に対し、〇−：’　ＯＯｉＴ！：；”＋部σ２範囲
で添加ず泊丁よい。

光市合開始炸ｊとし、では公知の種々の光増感剤を用い
ることができる。

ＩＩンに灯ましい）Ｌ重合開始剤は励起波長域におけろ
）°Ｃ７吸収の１１Ｓ較的小さいものｈ豫「ｆしく、こ
のよう／、ｃ　爪７６合開始削を用いた場合は、レリー
フパターンとしてＩｌｌに対して高さが数倍以上に及ぶ
ものも作ＪＪｙひきる。

このよ’Ｊ　７’：Ｃ）Ｙ；重合開始剤のモル吸光係数
εは励起波ｔそ域に１・５いて１０００以ｒが好ましく
、特に１〜７００　／！　／　ｍｏｅ　ｃｍの範囲にあ
るものが５イス士しくゝ。

このような）Ｙ、取合開始バ１ｊの例としては次式で示
されるものがある。

■（１ Ｉｔ、　−Ｃ−Ｃ−Ｒ２ １１ ＯＲ１ １ｔ　＋フェニル基又はｌｉ？（換フェニル基、Ｔ？、
、：１１−１＋ 水酸系、アルコキシ基、ハロゲン、［Ｎ：（：　７Ｋ　
（ｋ’ｌ　Ｊ−１＝、アルコキシ基ん 細工ばベンゾイル、ベンゾインメチルニーデル、ベンツ
インエチルエーテル、ベンゾインゾロビルエーテル、ベ
ンゾインイソゾロビルニーデル、ペンゾインブプリ１−
エーテル、ペンゾインイソプヂＡ／コニ−７−ル、７，
２−シヒｌ−’ｒ＋キシー２フェニルア士トフ１ノン、
２．２−ジメトキシ−２−フエニルア−にトフエノン、
２．２−ジェトキシ−２−フェニルアセト−フェノン、
１．に：どがあり、組成物に対して、Ｄ、　Ｄ　Ｃ］　
１〜１０　ＩＲＩ？ｔ　ｑｂの範囲で使用することがＣ
ざる。

熱重合′！杏＋ｌ−／ｉ’ｌとし′〔は、ハイドロギノ
ン、モノ２Ｌ玉）゛ブールハイド −ジフェニル−Ｐ−ペンゾギノン、ピクリン酸、シＩ）
−フルオロフェニル′１ミン、■）−メトキシノエノー
ル、２．６−ジ第三グチル−Ｐ−クレゾールフ７Ｃどを
あげろことができる。これらの熱ｆｆＴ合禁」１削ば、
熱ｔｉｔ合反応（、　ＩＩＡ反応）を防１トするもので
あることが望まＬ７い。したがって、熱珀合禁１１−削
の添加１）１は、プ１．／　＋ｌ”　ＩＪママ−架橋剤
との総［１１に差１シ２、０．００５〜５１（口ｉ噛の
翁１　ｌｉｔにルンろことがＱ（ましい。

’Ｊ’　ＰＣ　本Ｑ明のＩＩ；　ｌ巨］−ｒインパター
ンの形状及び７１法（上次の、曲りである。即り２Ｊ！
３図に示−す如く、基板３１−に形成された木Ｍｕのフ
ァインパターン４（Ｊ、１ｊ１さ１１が２　　０　　ｔ
ｔ　、１’〕土−（ＩＣましく（土３５ｚＩＪソー１−
）、Ｉｌｌ　ａが５〜２００μ（好ましくは１０〜ｌＯ
Ｏｚｌ）、ＩＩＩ　ａと＋１−らさｈとの比ａ　／　ｈ
が１　／　１．　５以下（好ましくは％以下）、かつパ
ターン４の断面形状がはｒ　ｌｊ−１形をｆ１シ、イ則
曲とノ．（板６どのな−す角度θが９０°゛±１０”（
８［丁′・〜１００°）、史に１しＩ？．１片パターン
４の相ｔ７間隔１）は１０μ以）−である。

又ｎｆｌ　ｉｆ己点支持基板６Ｉ〜てはフイルノ、又は
シート状のものが用いｔ゛）れ、その４’）Ｉ’１４１
としては各４ＩＩｆのプラスブックスフイルノ、、シー
ト、］１゛ｉ層版、金属ンｉ又は金属、）↓ハ　（共、
イ「１帛、ヒラミック板、【ｌい、１，それ宿の複合体
の１１１八（＋ｆ″ｃ　ＰＩ：　ｆｌ、、Ａｔ／，　；
、、薯゛１体斗′Ａ″４等も用いイ〕ことが出家る。１
３ｔｌ　１１ｊ；σ）くν属薄板と１７でにＬス−ｙ−
ル、ステン１７・、ス、神４、゛Ｉルミニウム、６易、
ｌｌｌｊ　ＩＪイ１、マグオン゛・ウノ、イーの仙の合
金板等が用いられるが、導出４’１　、１占）１反θノ
ｌＰｉ″人．１．　ｌ，−こ゛■．ソー１ーングによる
場合Ｑ′１アルミニウム、てｌ；！！＋　＋　’ｌ１１
．６ｉｉ舌ガ〒灯嫡である。これど（ＩＴの材才１、素
４４は・１〆・号に応じて各種の表面処Ｊ１１例えば（
Ａ−、汀１、エツアーング、イσ［磨、２１；１ζ１α
処理等の他に塗装、蒸清などを施して使用することも”
ｌ能である。

続い゛Ｃ本発明のノＩノ膜ファインパターンの作成方法
を図により工程１］ｅ１に説明すると次の；ｒηりであ
る。

即し）、本発明の厚膜ファインパターンを輿造するに当
っては、ｇｒｔ　４図（７１１，１乃至（Ｅｌ或は（Ａ
）′乃至（Ｉｌｌに示」如く、ト述の如き支持基板５と
光ｊｒＥ合件川成組成５と所四のパターンを持つマスク
となる透明画像４１１体６どをごの順序に招層したイｋ
、この４１」体６側より活性）Ｙ；腺７を照射して１．
・ｆ、丸し、′ついで担体６と光ＪＲ重合性組成物の非
露光部を現ｊ束’ｌ（ｆ、　８を吹きイ；１けて除去ず
ろことＫよって０１１述のθ１１＜支持基板６の表面に
厚膜ファインパターン４をｒ／ｆｆ成することが出来る
。図中９はＪ（−、重合性組成物５ど］［１体６との間
に介在された透明プラスヂツクスフイルムである。

１）１１述の支」イ基板、）Ｙ戸ＩＩ１合性絹ＩＪＺ物
（以下単に組成′吻というン及び透明画１！３：４１３
体を扉’、　ｂｒｉニーＪる方法としテハ支持即ｉ）ｒ
Ｍ　−Ｉ：、　！’Ｃ１，ｎ　／Ｊ兄り勿をノ９みが２
０〜２．［ＪＯ（）μに塗布又は該組成物よりなる塗ｊ
ｊ１λ層を転写した後、ｔ〜明画像イ１１体例えば銀ｊ
λＬ（ψによるマスクやクロムマスク、活１′ト）”Ｃ
線に対して実質的に＋４明であるプラスチックへイルノ
、ま／、二はシート１．ガ明ガラスシート、セロファン
等に所甥のパターンヲ印刷１りに」、り設はプ、−ヘ）
のなどを組成′吻Ｊ−二に］１部イ層する。

・または、これとは、ｌＪ！Ｌで、透明画像相体に組成
物層をＴＰ４１ノｌｊ　ｉ７　Ａｊ　ｌニー（１’）　
ｔ−、ｆ持基板をｍ　着装置ｆ！ｉ　Ｌ　テモよく、さ
らにを゛よ、ソＩ！？基板と透明画ｆ′！川休用体み規
制用スヘーリーを用い゛Ｃ一定間隙を設け“Ｃ配置し、
この間隙に１５．状組成物を注入してもよい。活性光線
例えばアーク灯、水銀灯、ギセノンランプ、紫外線用螢
光灯、太陽光、白熱灯、レーザー光、ＬＥｒ）ノ、（ど
の光線の照射に際しては、組成物と透明画像ｊｆｊ体と
を画像再現性の点がら密着配置するごとが好ま（−いが
、該組成物が液状のｌ：１力合には、透明画像坦体と該
組成物との間に透明プラスチックフイルノ＼、剣先ば１
１２リプロピレンフイルム、ポリカーホネートフィルＡ
、ｚｌＹリエヂレンテレノタレートフイルノ１、アセチ
ル１４ルロースフイル人、ポリビニルアルコールフイル
ノ３、セロファン等の中間層ＩＸ−設けることは透明画
像坦体の保護や照射後透明画像旧体と該組成物層との接
着を防止する効果をＴ］゛するのでイ１効で′＋）る。

　：Ｙブ、：、　面百象形成關うＣ；［２プ、−のち該
組成物の非露光部を取除く方法とし′Ｃは、公知の方法
、例えば、像形成露光を終ｒし透明画像坦体を取除いた
ものを）℃重合性組成物面を外（ｔｉｌｌにしてｌ’シ
ラノまたは子板に１＋Ｖり付け、現像液をスプレーによ
つ゛Ｃ該版面に吹きつけて非露光二部を洗い出す方法よ
１．二は現像液中にブラシを浸し、このブラシで非露Ｊ
（１部を除去する方法により行れる。

レリーフパターンの断面の形状は活性光線の照射時間を
調整すイ）ことにより達成される。この用合活＋’ｌｔ
　）Ｙ；腺１ｊ蛤：Ｌ　１ｉｉｌ記］７にもののうち平
行丸線に０１（・ものが９２中し７いが必ずしも限定さ
れない。露光［（：１間の整調は同一のパターンＩｌｌ
を持つテストマスクによる試験１．１′ＨすＹ４に、し
シ）Ｊｊ法が１１・）ともイｊ（＋：実である。

す／、Ｃわ？、レリーツバターンが台１にであれば露光
時間減じ、１１′／！ｆ〒形もｌ７．＜はｉｖＴ王角形
Ｃあれば増加さ）ｔ−イ）。

トν１くのり１１（１彫青じた本発明のＪψ）閘ファイ
ンパターンと用品としても１次の通りであ７．、）。即
ち、レリーフパターン部以外ｉｙｒ謂しリーフパターン
相ＬＬ間の間隙に銅、′し東金、ニッケル、錫等の導電
体を電ｊｉｌＴメッキ等の手段によって形成したノ？２
ハ鉋導電体パターンは例えば小型コイル、品密度コネク
ター、ｊ１’！ｉ　Ｗｉ　ｌ！Ｊ配Ｐ、−として使用す
ることが出来ろ。又前述の例と異／、ｃす、レリーフパ
ターン相互間の間隙にメッキ、ペースト等の埋設によっ
て抵抗体を１ヒ成辻しめた場合にはファインパターン抵
抗体とし゛Ｃパターン発熱体と（７で使用することが出
来る。

本発明の実施例を具体的に説、明すると次の涌りである
。

′）ζ流側１ プロピレンクリコール、ジエヂレンクリコール、゛アジ
ピン酸、フマル酸をモル比０．１５／　０．３５１０．
３５１０．１５の割で縮合させてイ１）だ不飽和、ｒ？
リー１２スプル４７・ｌ　出’ｒ　（Ｉ’＋’￥イ由α
０　）　１０　［コ部にジェヂレンＩす：１−ル、゛ツ
ククリ１．−　ト１２↑Ｘ１（、テトう上チレングリ−
１−〕Ｉ」ジメタアクリ＋、、−−−１・、ろ［）ン′
；μ、ｆγ−ヒト゛ｒ：１ギシｒプルメタクリレ−１・
１８部、ベンゾ・ｆンイソノ″丁ルーＴ−ラ胃し２　ｒ
’１１ｔ、４−ｔｅ百プｆ−ルカデゴール＋１．　（］
　５翻を加えて作成しまた＞Ｙ；　ｉｌ’ｉ介ｔ′１゛
鼾Ｉ成１１勿を月１い次のこ゛ど＜　Ｊｉ、ｌｌ１ｌ°
Ｓノアイン侭ターンイ・−角ＵＪ父しプこ。

ｉ％；Ｑｌ（１ｑｌ（５０／１．　、、−４にＵ？明１
ｌｌ（７［１ｔ’ピッチの宙１気回路パターンの図柄’
７４「−４−るネガフィルムをガラス４ｔ、Ｊ、　、　
Ｉｔ　Ｉｉこ１ン亡き１、その１−をＩＩＪｌさ９　Ｉ
ｌ、の７１ゼリゾロビレンノイルム苓・）・灯Ａ”（プ
１バーイーイ）。、−の−にに、トｄ己感光−１′ｌ゛
川成物ｔＸ：／＋ｉｆ’、　ｌ、こみ、次いでこの一ヒ
にＩ’−ノさ５０μの八ｌ’＝　Ｓ’ｌ＋″１をｊマ３
さ７０／（０アＸペーザーを介して、■鳳ね介わ−ｌζ
１．二のら、ネガフィルム４１１１１より３ＫＷの７に
冷式超高圧水銀灯にて１２０秒間露光する。露光後ホ′
リゾＵビレンフイルノ、をはがして液温４５“′Ｃのポ
ウ酸ソーダ１％水溶液にて非露光未硬化部を洗い流して
Ａｌｌ上上ＩＩ　３０μ、高さ７０μ、間に％　７０μ
ピツチの電気回路状のレリーフをもつ厚膜ファインパタ
ーンを作成し、次いで、バーショウ材用社製ビロリン１
ｌｆ１２銅メッキ液を用いて、Ａｌ箔を陰極とし、陰極
′ａＣ流密度５Ａ／ｄｍ’の条件でｆ同をレリーフパタ
ー、ンの間隙に形成せしめた。その後、デュポン社製ポ
リイミ＋−”フィルム「カシトン」（膜厚２５μｍ　）
上にボスチック社製フェノール樹脂−二トリルゴム系接
着剤ｒＸＡ５６４−４」を乾燥後膜ＩＣ？、が５　ｔｔ
　ｍになるように塗布した絶縁性基板上に、土８〔２電
’ｊ’！Ｆメツキを行ったものをアルミニウム箔を七に
して１５０℃で６０分間熱Ｊ（−一着し、て貼りイく１
け、次いで５取凧噛の水ｉｌｐ化ナトナトリウム水溶液
ｌ箔をエッヂング除去して、配純密１８：　１　［１本
／　ｎｕｎ　、　導体）’Ｇ’７０　ｔｔ、　ＩＴＥ　
７０　Ｉｌ、うｎ体間隔３０１ｔ　ｒ／）　Ｊｌ／ｌ電
膜回路をイζ）た。

実施例２ 実施例１のＬ　、ＴＩｋ合件用件組成物ンゾインイソブ
チルエーテルに代工て、２，２−ジメトキシ−２−フエ
Ｊ−ルーアセトンフェノンを用いｌ：＝　’）’に重合
ｆｌＨ絹ＩＪｙ、’吻を用い゛〔、同４・ηｌｘ、）す
４１１１＾′石気回路を作成１．た。

実か１１例ろ ′工ζ流側１のネガフィルムの代、すに透明部のｒｌ＋
２０μ、不透明部のＩＩＪ　８０μの渦巻状パターンを
有するネガフィルムに代えて２、）Ｙ；　ＦＤ合（’目
１１成物の厚さを６　Ｄ　／（にして実施例１ど同様な
操作により、導体１１８０μ、導体間隔２０μ、導体膜
１９．６０μの渦巻状パターンを有するファインコイル
を作成しｆこ。

実施例４ 実施例１において７０　ｔｔのスベーーリ”−に代えて
、１５０μのスベーザーな用いて、光Ｔ［＜合併組成物
の層のＪ９さを１５０　ｔｒとし、水１９式高川用銀灯
によるｈ光時間を５４０秒間とする他は同様な操作によ
り、アルミ箔上にＩｌｌ　３０μ、高さ１５０　ｔｒ、
間隙７０μピツチの′電気回路状のレリーフを１′Ｊ「
つ厚膜パターンを作成した。（この時の側面と支持基板
のなす角度は９２′であった。）このパターンを用いて
、レリーフの間隙内に実施例１と同様１．ｃ条件に」、
り銅を′重着さｔ７この弓、アルミニウム箔をエツチン
グ除去して、厚膜電回路を作成した。

υζζ何例 ５１セリエヂ１７ンアジベート（ジオール、分子１４２
．００　Ｃ）　）　２ｆｌ　ｒＪ部にトリレンジイソシ
アネートろ５　ＲＩＸ、ジグヂルスズラウレー）０．５
部を加工て、７０　”Ｃで２時間反応さ・１ム、ついで
これにエブーレン刈ヤシｌ−’、プロピレンオキシド共
重合体（エヂレン」キント゛ろ５　ｗｔ　’ｌ’＋　介
干ｊ、グロックＪｌ；　’＋ＴＩｆ本ジメール、分子）
ｒｔ　２．０　［］Ｏ）　Ｉ　Ｄ　０部を加えて反応せ
しめ、両末端にインシアネート基を有〜（イ）ブロック
共重合体をｉ’Ｊ　ｌ、−１，この）Ｅ合体６００）２
１〜にα−ヒｌ−”１７キシ、Ｉ：１−ルメタクリレ−
Ｉ−２５部、ハイド５０ギノン（］１１分え、７０　”
Ｃで２時間反応せしめてポリマーを作成しブ、二。

このポリマー３０〔月′Ｗ１（に、（χ−ヒト２０キシ
ゾロビルメタアクリｔ／−トＺｓ部、α−エチルヘキシ
ルアクリレート１５１ｆｆＸ、　　７Ｌ−ブチルアクリ
レート３０　ｊＮｌ＋、ベンゾインエチルニーデル６部
を加え、混合して九重合性組成物を作成（７た。この組
成物（上水あめ状の組成物である。

この′＃、重合性組成物をノ１？さ１００μのアルミニ
ラｌ、薄板トにｊＴノさ１５０　ｉｔに塗布し２、この
トな９ｔｔ　／’ノさの・）？リプロビｌ／ンフィルノ
、で范いを］〜て、透明部５０μ、非違明部１００μピ
ップ−の雷、気パターンの図柄を有ずろネガフィル人へ
・重ネｆ　（１）ｌ−にガラス板を置いて、実施例１で
用いた光；１１＜％で２４０秒間露光する。ｈｌに尤後
ポリプロピレンフィルムヲ剥カして、液温４０　”Ｃの
′アルキルベンゼンスルフォン酸ンーダ１％水溶液にて
非霧う“Ｃ；未硬化部を洗い′／）ｔｒ、して、アルミ
ニウム薄板−ヒＫ　Ｉｌｌ　５０μ、１１ｉ１隔１００
μビツヂで茜さ１００　ｔｔのレリーフヲもつパターン
を作成しｆこ。このパターンのレリーフ部分Ｐノ外ｋｒ
　実Ｍｆ＋　１′／ｌｌ　１　と同相ｓにしＣｅ’ｆｎ
ｌを″市ノア）ｆ　Ｉ−、１，：のレノ、アルミニウム
）、Ｊ、ｉ−９・ひきはかり１ノ框い（１，気国０洛を
ｆ’、）　７；Ｔ。

【図面の簡単な説明】

記１図及び第２１゛イｌ　ｌｌ’、　？＋’ｌ？来のパ
ターンを示ず説、四回、印、　３　＋：＜＋　＋よＡ＼
゛）′＾明の・ぐターンを示す浦、四回、第４図は木イ
へ明のパターンを、！Ｉ（ｕ　＋／冒る一■ニイ′−を
示す説明図Ｃ訊る。 １、月よδ斗１基イＪｌ！、、　　２．２’、、４はパ
ターン、５り１．　ｙＣ：重合１′１：組成′吻、　　
６心、を相体、　　７は丸線、８（，１月メ、　ｔｒ４
　’８’ｊ、、　　９Ｑ１−〕〕゛ラー：　−Ｙ−ツク
７、７　’イｆｉｖ　Ｊ−−Ｃ鴎）る。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 支１・〜基板」二に光重合性組成物の光硬化物よりｌ、
   Ｃろ高すが２０　ｆｔ以−七のＩ／リーフパターンを形
   成させり厚膜ファインパターンに於て、該レリーフパタ
   ーンの断面形状かはｙ／）４Ｊ形でありかつそのパター
   ンの１１１が５〜２００　ｔｔ、隣接するレリーフパタ
   ーンとの間隔が１０　ｔｔ以七で史に前記＋１’ｌと篩
   さと・１ のＩしか、１−掠以ＦであることをｌＩ’４ｒ徴とした
   １ワ膜フアインパターン。