JPS5945620A - 薄膜磁気ヘツド - Google Patents
薄膜磁気ヘツドInfo
- Publication number
- JPS5945620A JPS5945620A JP15389882A JP15389882A JPS5945620A JP S5945620 A JPS5945620 A JP S5945620A JP 15389882 A JP15389882 A JP 15389882A JP 15389882 A JP15389882 A JP 15389882A JP S5945620 A JPS5945620 A JP S5945620A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- thin film
- head
- comb
- recording
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
- G11B5/3116—Shaping of layers, poles or gaps for improving the form of the electrical signal transduced, e.g. for shielding, contour effect, equalizing, side flux fringing, cross talk reduction between heads or between heads and information tracks
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明はＶ’ｌＲ１磁気ディスクなどの磁気記録用磁気
ヘッドに係り、特に高密度記録に好適な薄膜磁気ヘッド
に関する。
ヘッドに係り、特に高密度記録に好適な薄膜磁気ヘッド
に関する。
従来の薄膜磁気ヘッドは、第１図（ａ）、 （ｂ）に示
すように１２．１３で示す磁極構造をしている。同図で
、１１は基板、１５はコイル、ｆ４はギャップ部Ｇｃｌ
はギャップ深を、１６は媒体対向部である。このような
構造では、ギャップ部での反磁界が大きいため、ヘッド
磁極からは十分な記録磁界が得られないという欠点があ
った。しかも、トラック幅Ｔｗも３０μｍ程度と、２μ
ｍ程度のギャップ深さＱｄに比べて大きいため、特開昭
５５−１０１１２４第３図に見られる様にギャップ部で
の磁区構造も大きく、再生波形、出力に再現性もなくノ
イズも大きいという欠点もあった。
すように１２．１３で示す磁極構造をしている。同図で
、１１は基板、１５はコイル、ｆ４はギャップ部Ｇｃｌ
はギャップ深を、１６は媒体対向部である。このような
構造では、ギャップ部での反磁界が大きいため、ヘッド
磁極からは十分な記録磁界が得られないという欠点があ
った。しかも、トラック幅Ｔｗも３０μｍ程度と、２μ
ｍ程度のギャップ深さＱｄに比べて大きいため、特開昭
５５−１０１１２４第３図に見られる様にギャップ部で
の磁区構造も大きく、再生波形、出力に再現性もなくノ
イズも大きいという欠点もあった。
本発明の目的は、記録磁界強度が大きく、磁界分布も急
峻で高密度での記録に適し、かつ再生出力が大きく、出
力ノイズ特性に優れた薄膜磁気ヘッドを提供することに
ある。
峻で高密度での記録に適し、かつ再生出力が大きく、出
力ノイズ特性に優れた薄膜磁気ヘッドを提供することに
ある。
上記目的を達成するための本発明の構成は、磁気コアの
少なくとも一方の磁極が、少なくとも磁気記録媒体対向
面側でトラック幅方向に２ケ所以上に分割されたくし形
にすることにある。
少なくとも一方の磁極が、少なくとも磁気記録媒体対向
面側でトラック幅方向に２ケ所以上に分割されたくし形
にすることにある。
薄膜磁気ヘッドの記録磁界強度、分界分布につきその薄
膜磁極形状依存性について検討したところ、第２図に示
すモデル構造については第３図に示す結果を得た。第２
図に示し、たヘッド構造では、記録磁界はＸ成分に比べ
てＸ成分が大きいので、第３図ではとのＸ成分について
示してあり、記録磁界強度、急峻さは記録電流を０．４
Ａ Ｔとした時の、Ａ位置（Ｓ ＝ ０．３μｍ）で
の仲である。ここで、２１はＭ ｎ −Ｚ ｎフェライ
ト基板、２２は８１．７ｗｔ％ＮｉのＮ ｉ −Ｆ ｅ
薄膜磁極、２３はＡｔ導体コイルである。Ｑｄを２μｍ
、Ｑｄは略５０μｍとしたが、第３図に示した結果はＱ
ｄを５μｍ、２００μｍとしてもほぼ同様であυ、トラ
ック幅Ｔｗと膜厚Ｔとの比Ｔ ｗ ／ Ｔが５０以下で
あれば磁界強度の減少は１／２以下であった。
膜磁極形状依存性について検討したところ、第２図に示
すモデル構造については第３図に示す結果を得た。第２
図に示し、たヘッド構造では、記録磁界はＸ成分に比べ
てＸ成分が大きいので、第３図ではとのＸ成分について
示してあり、記録磁界強度、急峻さは記録電流を０．４
Ａ Ｔとした時の、Ａ位置（Ｓ ＝ ０．３μｍ）で
の仲である。ここで、２１はＭ ｎ −Ｚ ｎフェライ
ト基板、２２は８１．７ｗｔ％ＮｉのＮ ｉ −Ｆ ｅ
薄膜磁極、２３はＡｔ導体コイルである。Ｑｄを２μｍ
、Ｑｄは略５０μｍとしたが、第３図に示した結果はＱ
ｄを５μｍ、２００μｍとしてもほぼ同様であυ、トラ
ック幅Ｔｗと膜厚Ｔとの比Ｔ ｗ ／ Ｔが５０以下で
あれば磁界強度の減少は１／２以下であった。
ここで、膜厚Ｔを１．５μｍとした時に、トラック幅Ｔ
ｗが９０μｍ、３０μｍの場合の磁極部の磁区構造を第
４図（ａ）、（ｂ）に示すが、Ｔｗが小さい程磁区幅も
小さくなシ、磁界印加後の磁区構造の再現性も良かった
。このことに対応して、第２図に示した構造の磁気ヘッ
ドで記録再生を行なった時の再生出力、波形の再現性は
Ｔｗが小さくなる根面上し、出力ノイズ比もほぼ第３図
の実線で示した傾向と一致した。
ｗが９０μｍ、３０μｍの場合の磁極部の磁区構造を第
４図（ａ）、（ｂ）に示すが、Ｔｗが小さい程磁区幅も
小さくなシ、磁界印加後の磁区構造の再現性も良かった
。このことに対応して、第２図に示した構造の磁気ヘッ
ドで記録再生を行なった時の再生出力、波形の再現性は
Ｔｗが小さくなる根面上し、出力ノイズ比もほぼ第３図
の実線で示した傾向と一致した。
計算機シミュレーションにより上記現象を解析した結果
、Ｔｗ／Ｔを小さくするに従い反磁界が減少し、記録磁
界強度が大きく、かつ磁界分布も急峻となることが分っ
た。さらに第４図（ａ）のパターンをｙＩｉｌ１１方向
に略３０μｍ幅の微細パターンに分離した場合には、該
微細パターンの間隔を０．１間 μｍ以上とすれば、各バター４の相互作用もなくなシ、
上記反磁界減少の効果が認められたが、この様子はＴｗ
を変えても変らなかった。
、Ｔｗ／Ｔを小さくするに従い反磁界が減少し、記録磁
界強度が大きく、かつ磁界分布も急峻となることが分っ
た。さらに第４図（ａ）のパターンをｙＩｉｌ１１方向
に略３０μｍ幅の微細パターンに分離した場合には、該
微細パターンの間隔を０．１間 μｍ以上とすれば、各バター４の相互作用もなくなシ、
上記反磁界減少の効果が認められたが、この様子はＴｗ
を変えても変らなかった。
本発明は以上の基礎実験を基にさらに鋭意研究して成さ
れたもので、磁気コアの少なくとも一方の磁極が、少な
くとも磁気記録媒体対向面側でトラック幅方向に２ケ所
以上に分割された、くし形状となっており、より望まし
くは、くシの刃部の間隔を０１μｍ以上とし、さらに該
くし刃部の幅Ｗと、ギャップ部での磁極厚Ｔとの比Ｗ／
Ｔｔ１〜５０とすることで、高性能薄膜磁気ヘッドを提
供するものである。さらに、テープ、ディスク等の磁気
記録媒体走行方向と垂直方向、すなわち、磁気記録媒体
厚み方向に磁化容易軸を有する、いわゆる垂直磁気記録
媒体に記録することで、この方向に強い磁界分布を有す
る本ヘッドにより、より効率よく記録再生を行なうこと
を可能にするものである。
れたもので、磁気コアの少なくとも一方の磁極が、少な
くとも磁気記録媒体対向面側でトラック幅方向に２ケ所
以上に分割された、くし形状となっており、より望まし
くは、くシの刃部の間隔を０１μｍ以上とし、さらに該
くし刃部の幅Ｗと、ギャップ部での磁極厚Ｔとの比Ｗ／
Ｔｔ１〜５０とすることで、高性能薄膜磁気ヘッドを提
供するものである。さらに、テープ、ディスク等の磁気
記録媒体走行方向と垂直方向、すなわち、磁気記録媒体
厚み方向に磁化容易軸を有する、いわゆる垂直磁気記録
媒体に記録することで、この方向に強い磁界分布を有す
る本ヘッドにより、より効率よく記録再生を行なうこと
を可能にするものである。
以下、実施例を用いて詳述する。
−〔発明の実施例〕
第５図は本発明の一実施例としての薄膜磁気ヘッドの概
略断面図である。第５図（ａ）は前記従来の第１図（ａ
）に対応するところのヘッド断面図を示し、第５図（ｂ
）、（Ｃ）は下部磁性層５３、上部磁性層５２の上面図
を示す。５１はＡ４０．−ＴｉＣなどの非磁性基板、５
４はギャップ部、５５ばＣＯ，Ａ４などの導体コイルで
ある。ギャップ長Ｇｄけ２μｍである。ここで、下部磁
性層５３ば８１．５ Ｗ ｔ％Ｎｉのｌ’Ｊｉ−Ｉｉ”
ｅ合金から成シ、膜厚Ｔ３．Ｔ。
略断面図である。第５図（ａ）は前記従来の第１図（ａ
）に対応するところのヘッド断面図を示し、第５図（ｂ
）、（Ｃ）は下部磁性層５３、上部磁性層５２の上面図
を示す。５１はＡ４０．−ＴｉＣなどの非磁性基板、５
４はギャップ部、５５ばＣＯ，Ａ４などの導体コイルで
ある。ギャップ長Ｇｄけ２μｍである。ここで、下部磁
性層５３ば８１．５ Ｗ ｔ％Ｎｉのｌ’Ｊｉ−Ｉｉ”
ｅ合金から成シ、膜厚Ｔ３．Ｔ。
はそれぞれ４．２μｍ、くし部の幅Ｗ１は１５μｍ１間
隔は２μｍ１深さＤｌは４０μｍであシ、トラック幅Ｔ
ｗｌは６６μｍである。上部磁性層５２はｓｉ、ｓｗｔ
％ＮｉのＮ ｉ −ｐ ｅ合金から成り、膜厚Ｔ４．Ｔ
２はそれぞれ３，５，１．７５μｍ、くし部の幅Ｗ２は
２０μｍ１間隔は１゜５μｍ１深さＤ１ｉｌ″ｔ３０μ
ｍであり、トラック幅Ｔｗ２は６３μｍである。第６図
に、上、下部磁性層５２．５３に溝を入れない従来型ヘ
ッドと、上部磁性層５２のみに第５図（Ｃ）のような荷
を入れた場合、下部磁性層５３のみに第５図（ｂ）のよ
うな溝を入れた場合、両方ともｌＷを入れた場合の通常
のＶＴＲ，用テープで評価した時の特性をそれぞれ示す
。６４は従来ヘッド、６２．６３はそれぞれ、５３．５
２のみを溝入りとしたヘッド、６１は５２．５３ともに
溝入りとしたヘッドの記録電流特性であり、上、下部磁
性層のいずれか一方牙第５図（Ｃ）、 （ｂ）に示すよ
うなくし月形とすることで著しく特性が向上することが
わかる。本発明によるヘッドは再生出力、ｅｌ形の再覗
、性も良く、ノイズも少なかつ六。本効果は、Ｗｌ、Ｗ
２にそれぞれ１２μｍ、７μｍ１くし刃部の数をそれぞ
れ３゜４とし、スリット幅を１μｍＸＤＩ、Ｄ２＆それ
ぞれ１０，５μｍとしても昭められ、前記第４図に示し
た効果が第５図（ｂ）、（Ｃ）に示した形状九対してモ
成り立っていることが確認された。
隔は２μｍ１深さＤｌは４０μｍであシ、トラック幅Ｔ
ｗｌは６６μｍである。上部磁性層５２はｓｉ、ｓｗｔ
％ＮｉのＮ ｉ −ｐ ｅ合金から成り、膜厚Ｔ４．Ｔ
２はそれぞれ３，５，１．７５μｍ、くし部の幅Ｗ２は
２０μｍ１間隔は１゜５μｍ１深さＤ１ｉｌ″ｔ３０μ
ｍであり、トラック幅Ｔｗ２は６３μｍである。第６図
に、上、下部磁性層５２．５３に溝を入れない従来型ヘ
ッドと、上部磁性層５２のみに第５図（Ｃ）のような荷
を入れた場合、下部磁性層５３のみに第５図（ｂ）のよ
うな溝を入れた場合、両方ともｌＷを入れた場合の通常
のＶＴＲ，用テープで評価した時の特性をそれぞれ示す
。６４は従来ヘッド、６２．６３はそれぞれ、５３．５
２のみを溝入りとしたヘッド、６１は５２．５３ともに
溝入りとしたヘッドの記録電流特性であり、上、下部磁
性層のいずれか一方牙第５図（Ｃ）、 （ｂ）に示すよ
うなくし月形とすることで著しく特性が向上することが
わかる。本発明によるヘッドは再生出力、ｅｌ形の再覗
、性も良く、ノイズも少なかつ六。本効果は、Ｗｌ、Ｗ
２にそれぞれ１２μｍ、７μｍ１くし刃部の数をそれぞ
れ３゜４とし、スリット幅を１μｍＸＤＩ、Ｄ２＆それ
ぞれ１０，５μｍとしても昭められ、前記第４図に示し
た効果が第５図（ｂ）、（Ｃ）に示した形状九対してモ
成り立っていることが確認された。
第７図に本発明の他の実施例を示す。７１はＭｎ−Ｚｎ
フェライト単結晶基板、７２ｉｄＴｆｆｉが０．２μｍ
）Ｔａが１．２ ｔｔ ｍの８２ｗｔ％ＮｉのＮ ｉ−
Ｆ ｅ（ＪＪｉ！！ａ４ｆｆｉ、７３は高さ６μｍ、幅
５μｍのＡｔコイル、７４は１μｍのｓｉｏ、ギャップ
層、７５は１０Ｉｉｍのポリイミド果樹り旨層であり、
上部磁性層の上面図（ｂ）で、Ｗ３は６μｍ、スリット
幅０．７μｍ、ｐ３は５μｍである。尚、ギャップ長Ｇ
ｄは２μｍとした。本発明より成るヘッドで、ガラス基
板上に形成した、Ｃｏ−Ｚｒ−Ｍ。
フェライト単結晶基板、７２ｉｄＴｆｆｉが０．２μｍ
）Ｔａが１．２ ｔｔ ｍの８２ｗｔ％ＮｉのＮ ｉ−
Ｆ ｅ（ＪＪｉ！！ａ４ｆｆｉ、７３は高さ６μｍ、幅
５μｍのＡｔコイル、７４は１μｍのｓｉｏ、ギャップ
層、７５は１０Ｉｉｍのポリイミド果樹り旨層であり、
上部磁性層の上面図（ｂ）で、Ｗ３は６μｍ、スリット
幅０．７μｍ、ｐ３は５μｍである。尚、ギャップ長Ｇ
ｄは２μｍとした。本発明より成るヘッドで、ガラス基
板上に形成した、Ｃｏ−Ｚｒ−Ｍ。
軟磁性合金層で裏打ちしたＣｏ−Ｃｒ垂直磁気記録媒体
に記録し”Ｃ特性？評ｆ、ｔｆｉ したところ第８図に
示す結果を１尋た。第８図で、８１は本発明のヘッドの
特性、８２（ヴ上部磁性層に溝を入れない」尾合の特性
であり、本発明により、より高密度までの記録が出来、
出力も高いことがわかる。第６図と第８図とを比較する
と、第８図に示した垂直記録の場合の方がより高い出力
が得られており、本発明の効果がより顕著であることが
わかる。
に記録し”Ｃ特性？評ｆ、ｔｆｉ したところ第８図に
示す結果を１尋た。第８図で、８１は本発明のヘッドの
特性、８２（ヴ上部磁性層に溝を入れない」尾合の特性
であり、本発明により、より高密度までの記録が出来、
出力も高いことがわかる。第６図と第８図とを比較する
と、第８図に示した垂直記録の場合の方がより高い出力
が得られており、本発明の効果がより顕著であることが
わかる。
以上の〃）果は、磁極材料を１ｄｌｅ−８ｔ、Ｆｅ −
Ｃｏ、Ｃｏ−Ｚｒ−Ｍｏ系合金としても変わらないこと
ＶＪ％う寸でもない。
Ｃｏ、Ｃｏ−Ｚｒ−Ｍｏ系合金としても変わらないこと
ＶＪ％う寸でもない。
以上詳述した様に、本発明は、磁気コアの所定の領域を
くし形とすることによりギャップ部での反磁界を小さく
せしめノイズの小さい再現性のよい磁気ヘッドを提供し
得る点工業的利益大なるものである。
くし形とすることによりギャップ部での反磁界を小さく
せしめノイズの小さい再現性のよい磁気ヘッドを提供し
得る点工業的利益大なるものである。
第１図（ａ）、および（ｂ）はそれぞれ従来の薄膜ヘッ
ドの断面図および上面図、第２図（ａ）、（ｂ）は本発
明をモテル的に構成したヘッドの１仇面、上面図、第３
図はその特性図、第４図は本発明を説明するための磁極
の（ｍ区構造を示す図、第５図は本発明の一実施例どＩ
７ての薄膜磁気ヘッドの断面、及びその磁極上面図、第
６図は本発明を面内記録時に用いたときの４’４＝ Ｖ
ｔ図、第７図は本発明の他の実施例の薄月瀉磁気ヘッド
断面、磁極上面図、第８図は本発明を垂直記録時に用い
たときの特性図である。 １２．１３，５２，５３．７２・・・薄膜磁杼、１５゜
２３．５５．７３はコイル、２，７１・・・磁性基板、
６１．６２，６３．８１・・・本発明より成るヘッド茅
１ 図 （久）（シ） 第 ？ 図 （０，）（１）ノ 第 ３ 図 茅 ４ 図 （ｄ）Ｃｂ） ′￥Ｊ ５ 口 （０−） 罰 ６ 図 第 ７ 図 （良） 菫 ど 図
ドの断面図および上面図、第２図（ａ）、（ｂ）は本発
明をモテル的に構成したヘッドの１仇面、上面図、第３
図はその特性図、第４図は本発明を説明するための磁極
の（ｍ区構造を示す図、第５図は本発明の一実施例どＩ
７ての薄膜磁気ヘッドの断面、及びその磁極上面図、第
６図は本発明を面内記録時に用いたときの４’４＝ Ｖ
ｔ図、第７図は本発明の他の実施例の薄月瀉磁気ヘッド
断面、磁極上面図、第８図は本発明を垂直記録時に用い
たときの特性図である。 １２．１３，５２，５３．７２・・・薄膜磁杼、１５゜
２３．５５．７３はコイル、２，７１・・・磁性基板、
６１．６２，６３．８１・・・本発明より成るヘッド茅
１ 図 （久）（シ） 第 ？ 図 （０，）（１）ノ 第 ３ 図 茅 ４ 図 （ｄ）Ｃｂ） ′￥Ｊ ５ 口 （０−） 罰 ６ 図 第 ７ 図 （良） 菫 ど 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、磁気コアの少なくとも１方の磁極が、少なくとも磁
気記録媒体対向面側でトラック幅方向に２ケ所以上に分
割された、くし形状となっていることを特徴とする薄膜
磁気ヘッド。 ２、特許請求の範囲第１項において、上記くし形部で、
くシの刃部の間隔を０．１μｍ以上とし、さらに該くし
刃部の幅Ｗと、ギャップ部での磁極厚Ｔとの比Ｗ／Ｔを
１〜５０としたことを特徴とする特許請求の範囲第１項
記載の薄膜磁気ヘッド。 ３、垂直磁気記録用装置に具備せしめてなることを特徴
とする特許請求の範囲第１項、第２項記載の磁気ヘッド
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15389882A JPS5945620A (ja) | 1982-09-06 | 1982-09-06 | 薄膜磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15389882A JPS5945620A (ja) | 1982-09-06 | 1982-09-06 | 薄膜磁気ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5945620A true JPS5945620A (ja) | 1984-03-14 |
Family
ID=15572516
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15389882A Pending JPS5945620A (ja) | 1982-09-06 | 1982-09-06 | 薄膜磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5945620A (ja) |
-
1982
- 1982-09-06 JP JP15389882A patent/JPS5945620A/ja active Pending
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