JPS5947455B2 - フオトエツチング用マスクの製造方法 - Google Patents
フオトエツチング用マスクの製造方法Info
- Publication number
- JPS5947455B2 JPS5947455B2 JP52001218A JP121877A JPS5947455B2 JP S5947455 B2 JPS5947455 B2 JP S5947455B2 JP 52001218 A JP52001218 A JP 52001218A JP 121877 A JP121877 A JP 121877A JP S5947455 B2 JPS5947455 B2 JP S5947455B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- model
- opaque
- mask
- manufacturing
- resin layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、所定の溝、模様、形状等を加工する一加工
法であるフォトエッチングに使用するマスクの製造方法
に関するものである。
法であるフォトエッチングに使用するマスクの製造方法
に関するものである。
このフォトエッチングにおいて、通常の工程では、使用
するマスクは、フィルム製であるが、このフィルムは傷
つき易いので、このフィルムの画像をガラス、金属等に
複写して、傷がつき難く、かつ変形し難い量産用マスク
を作つてこれを使用している。
するマスクは、フィルム製であるが、このフィルムは傷
つき易いので、このフィルムの画像をガラス、金属等に
複写して、傷がつき難く、かつ変形し難い量産用マスク
を作つてこれを使用している。
ところがこの量産用マスクを作るとき、平なマスクを作
る場合は上記のような方法も適用できるが、被加工物が
曲面で、これに使用するマスクが曲面を呈する場合には
、このようなマスクを作ることは困難である。この発明
は、比較的容易に、精度のよい量産用のマスクの製造方
法の提供を目的とするもので、・ 所定の溝、模様、形
状等の凹部を形成した金属製のモデルを製作または、前
記の凹部が形成された完成品自体をモデルとして準備し
、このモデルに形成された所定の溝、模様、形状等の凹
部に、不透明な樹脂層または不透明なガラス層を形成し
、Ｊ この樹脂層またはガラス層を含めたモデルの表面
全体に透明な樹脂層または透明なガラス層を前工程にお
ける不透明樹脂層または不透明ガラス層と接合するよう
に形成させ、次にモデルを除去するフォトエッチング用
マスクの製造方法で、特に曲ｊ 面のマスクに適した製
造方法である。
る場合は上記のような方法も適用できるが、被加工物が
曲面で、これに使用するマスクが曲面を呈する場合には
、このようなマスクを作ることは困難である。この発明
は、比較的容易に、精度のよい量産用のマスクの製造方
法の提供を目的とするもので、・ 所定の溝、模様、形
状等の凹部を形成した金属製のモデルを製作または、前
記の凹部が形成された完成品自体をモデルとして準備し
、このモデルに形成された所定の溝、模様、形状等の凹
部に、不透明な樹脂層または不透明なガラス層を形成し
、Ｊ この樹脂層またはガラス層を含めたモデルの表面
全体に透明な樹脂層または透明なガラス層を前工程にお
ける不透明樹脂層または不透明ガラス層と接合するよう
に形成させ、次にモデルを除去するフォトエッチング用
マスクの製造方法で、特に曲ｊ 面のマスクに適した製
造方法である。
次にこの発明の第１の実施例を図を参照しながら説明す
る。
る。
先ず第１工程では所定の溝、模様、形状等の凹部をもつ
た完成品と同じような金属製のモデル１を適宜の方法で
作る。場合によつては完成品自体をモデルとしてもよい
。このモデル１は凹部としての溝１１を有し、第２工程
ではこの溝１１の中に紫外線を通さない不透明な樹脂２
またはガラスを第２図のように埋め込んで樹脂層または
ガラス層を形成する。このとき溝１１以外の表面に樹脂
２またはガラスが附着しないように注意し、万一附着し
た場合にはこれを除去する。次工程では第３図に示され
たように、紫外線を通過する透明な樹脂３またはガラス
を前記の不透明樹脂２またはガラス層およびモデル１の
表面１２に被覆附着させる。次の工程では金属製のモデ
ル１を除去してフオトエツチング用のマスク４を得る。
このモデル１の除去は研削、旋削等の機械加工を用いて
もよいが、マスクの変形、傷付きを防止するためにモデ
ルに樹脂またはガラスが附着したままの状態で、これを
金属を溶解する強酸液中に入れて、金属のみを溶解さゼ
ると好結果が得られる。この実施例で得られたマスク４
は通常のマスクとしては十分に役立つが、特に正確な加
工を要する場合には不適当なことがある。即ち不透明膜
の厚さ分だけ被加工物とマスクとの間に隙間が生ずるた
めに露光の際、回折等により透過光が散乱し、露光がさ
れてはならない部分まで露光される場合が生ずるからで
ある。これを防止するためには、以下に示す第２の実施
例に卦いて製造されるマスクを使用すればよい。この第
２の実施例では、第１の実施例と同様に金属製のモデル
１（第１図参照）を用いて、モデル表面の溝１１に不透
明な樹脂２または不透明ガラスを流し込んで（第５図参
照）これを硬化させるまでは同じであるが、次の工程に
｝いては、最初形成されていた溝１１と同じ深さだけ、
樹脂２またはガラスの被覆層以外の金属表面を例えば、
腐蝕等により除去し、モデル１の表面に不透明な樹脂層
またはガラス層を凸部として現出させる。次の工程から
はまた第１の実施例と同様に第７図に示されたように不
透明な樹脂２またはガラスを含めた金属表面１２に、透
明な樹脂３またはガラスの被覆層を作つて、これを硬化
させ、次工程において、金属製モデル１を除去して第８
図に示されたようなフオトエツチング用のマスク５を得
ることが出来る。このマスク５は被加工物との接触面５
１は均一に仕上つているので、被加工物とは完全に密着
し、このマスクを用いて精度の高いフオトエツチング加
工が行える。以上の実施例は説明の便宜上、被加工物に
平板なものを選んだが、この発明は被加工物の表面が立
体形状即ち、球面、円すい面、円筒面等に対するフオト
エツチング用マスクの製造に特に好適であるこの発明の
製造方法によれば、被加工物の加工表面が平面の場合は
勿論、円すい面や球面の場合のフオトエツチング用のマ
スクも比較的容易に作ることができ、特にモデルとして
の金属体を、金属を溶解し易い強酸により腐蝕除去した
ものは、製造過程で加エカを受けないので、変形が殆ど
ない正確な形状をもつたマスクが得られる。
た完成品と同じような金属製のモデル１を適宜の方法で
作る。場合によつては完成品自体をモデルとしてもよい
。このモデル１は凹部としての溝１１を有し、第２工程
ではこの溝１１の中に紫外線を通さない不透明な樹脂２
またはガラスを第２図のように埋め込んで樹脂層または
ガラス層を形成する。このとき溝１１以外の表面に樹脂
２またはガラスが附着しないように注意し、万一附着し
た場合にはこれを除去する。次工程では第３図に示され
たように、紫外線を通過する透明な樹脂３またはガラス
を前記の不透明樹脂２またはガラス層およびモデル１の
表面１２に被覆附着させる。次の工程では金属製のモデ
ル１を除去してフオトエツチング用のマスク４を得る。
このモデル１の除去は研削、旋削等の機械加工を用いて
もよいが、マスクの変形、傷付きを防止するためにモデ
ルに樹脂またはガラスが附着したままの状態で、これを
金属を溶解する強酸液中に入れて、金属のみを溶解さゼ
ると好結果が得られる。この実施例で得られたマスク４
は通常のマスクとしては十分に役立つが、特に正確な加
工を要する場合には不適当なことがある。即ち不透明膜
の厚さ分だけ被加工物とマスクとの間に隙間が生ずるた
めに露光の際、回折等により透過光が散乱し、露光がさ
れてはならない部分まで露光される場合が生ずるからで
ある。これを防止するためには、以下に示す第２の実施
例に卦いて製造されるマスクを使用すればよい。この第
２の実施例では、第１の実施例と同様に金属製のモデル
１（第１図参照）を用いて、モデル表面の溝１１に不透
明な樹脂２または不透明ガラスを流し込んで（第５図参
照）これを硬化させるまでは同じであるが、次の工程に
｝いては、最初形成されていた溝１１と同じ深さだけ、
樹脂２またはガラスの被覆層以外の金属表面を例えば、
腐蝕等により除去し、モデル１の表面に不透明な樹脂層
またはガラス層を凸部として現出させる。次の工程から
はまた第１の実施例と同様に第７図に示されたように不
透明な樹脂２またはガラスを含めた金属表面１２に、透
明な樹脂３またはガラスの被覆層を作つて、これを硬化
させ、次工程において、金属製モデル１を除去して第８
図に示されたようなフオトエツチング用のマスク５を得
ることが出来る。このマスク５は被加工物との接触面５
１は均一に仕上つているので、被加工物とは完全に密着
し、このマスクを用いて精度の高いフオトエツチング加
工が行える。以上の実施例は説明の便宜上、被加工物に
平板なものを選んだが、この発明は被加工物の表面が立
体形状即ち、球面、円すい面、円筒面等に対するフオト
エツチング用マスクの製造に特に好適であるこの発明の
製造方法によれば、被加工物の加工表面が平面の場合は
勿論、円すい面や球面の場合のフオトエツチング用のマ
スクも比較的容易に作ることができ、特にモデルとして
の金属体を、金属を溶解し易い強酸により腐蝕除去した
ものは、製造過程で加エカを受けないので、変形が殆ど
ない正確な形状をもつたマスクが得られる。
またマスクの耐久性は、従来のフイルム製のマスクに比
較し、格段に優れ、しかもフイルム製のマスクで問題に
なることのある粒子のムラと云うようなことは全然ない
ので、被加工物には極めて正確な投影が可能であるマス
クが得られる。
較し、格段に優れ、しかもフイルム製のマスクで問題に
なることのある粒子のムラと云うようなことは全然ない
ので、被加工物には極めて正確な投影が可能であるマス
クが得られる。
第１図ないし第４図はこの発明の第１の実施例を示すフ
オトエッチング用マスクの製造過程を示すもので、第１
図は溝を有するモデルの断面図、第２図はモデルの溝に
不透明な樹脂層またはガラス層を形成した断面図、第３
図は透明な樹脂層またはガラス層をモデルの上面および
不透明な樹脂またはガラス面上に形成した断面図、第４
図は完成したマスクの断面図、第５図ないし第８図は同
じく第２の実施例を示し、第５図はモデルの溝に不透明
な樹脂層またはガラス層を形成した断面図、第６図はモ
デルの一部を除去して不透明な樹脂層またはガラス層を
凸部として現出させた断面図、第７図は不透明樹脂層ま
たはガラス層を含めたモデルの表面に透明な樹脂層また
はガラス層を形成した断面図、第８図は完成したマスク
の断面図を示すものである。 符号の説明、１はモデル、２は不透明な樹脂またはガラ
ス、３は透明な樹脂またはガラス、４はマスク、５はマ
スク。
オトエッチング用マスクの製造過程を示すもので、第１
図は溝を有するモデルの断面図、第２図はモデルの溝に
不透明な樹脂層またはガラス層を形成した断面図、第３
図は透明な樹脂層またはガラス層をモデルの上面および
不透明な樹脂またはガラス面上に形成した断面図、第４
図は完成したマスクの断面図、第５図ないし第８図は同
じく第２の実施例を示し、第５図はモデルの溝に不透明
な樹脂層またはガラス層を形成した断面図、第６図はモ
デルの一部を除去して不透明な樹脂層またはガラス層を
凸部として現出させた断面図、第７図は不透明樹脂層ま
たはガラス層を含めたモデルの表面に透明な樹脂層また
はガラス層を形成した断面図、第８図は完成したマスク
の断面図を示すものである。 符号の説明、１はモデル、２は不透明な樹脂またはガラ
ス、３は透明な樹脂またはガラス、４はマスク、５はマ
スク。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 所定の溝、模様、形状等の凹部を形成した金属製の
モデルを準備し、このモデルに形成された所定の溝、模
様、形状等の凹部に不透明な樹脂層または不透明なガラ
ス層を形成し、この樹脂層またはガラス層を含めたモデ
ルの表面全体に透明な樹脂層または透明なガラス層を前
工程における不透明樹脂層または不透明ガラス層と接合
するように形成させ、次にモデルを除去するフォトエッ
チング用マスクの製造方法。 ２ 特許請求の範囲第１項に記載されたフォトエッチン
グ用マスクの製造方法において、モデルの除去は樹脂ま
たはガラスと、モデルとを金属を溶解する強酸液中に投
入し、モデルのみを溶解除去するフォトエッチング用の
マスクの製造方法。 ３ 特許請求の範囲第１項に記載されたフォトエッチン
グ用マスクの製造方法において、不透明な樹脂層または
不透明なガラス層以外の金属表面を、最初に形成されて
いた凹部の深さと等しくなるまで除去して、樹脂層また
はガラス層を凸部として現出させ、この樹脂層またはガ
ラス層を含めたモデル面に透明な樹脂層または、透明な
ガラス層を、前工程における不透明樹脂層または不透明
ガラス層と接合するように形成させ、次にモデルを除去
するフォトエッチング用マスクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP52001218A JPS5947455B2 (ja) | 1977-01-11 | 1977-01-11 | フオトエツチング用マスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP52001218A JPS5947455B2 (ja) | 1977-01-11 | 1977-01-11 | フオトエツチング用マスクの製造方法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59035392A Division JPS6024016A (ja) | 1984-02-28 | 1984-02-28 | フオトエツチング用マスクの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5387175A JPS5387175A (en) | 1978-08-01 |
| JPS5947455B2 true JPS5947455B2 (ja) | 1984-11-19 |
Family
ID=11495318
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP52001218A Expired JPS5947455B2 (ja) | 1977-01-11 | 1977-01-11 | フオトエツチング用マスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5947455B2 (ja) |
-
1977
- 1977-01-11 JP JP52001218A patent/JPS5947455B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5387175A (en) | 1978-08-01 |
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