JPS5950530A - ベ−パ乾燥機 - Google Patents
ベ−パ乾燥機Info
- Publication number
- JPS5950530A JPS5950530A JP57160989A JP16098982A JPS5950530A JP S5950530 A JPS5950530 A JP S5950530A JP 57160989 A JP57160989 A JP 57160989A JP 16098982 A JP16098982 A JP 16098982A JP S5950530 A JPS5950530 A JP S5950530A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vapor
- wafer
- tank
- supply port
- alcohol
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P72/00—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
- H10P72/04—Apparatus for manufacture or treatment
- H10P72/0402—Apparatus for fluid treatment
- H10P72/0406—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
- H10P72/0408—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for drying
Landscapes
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はベーパ乾燥機に関する。
一般に、半導体装置の製造過程にお（・ては、ウェハや
マスク等につし・て洗浄と乾燥が繰り返し実施されるが
、ウェハ等は自然乾燥させると、乾燥が段階的に進行し
て木の年輪のような乾燥進行模様が描出される場合があ
るため、強制乾燥させることが行なわれている。
マスク等につし・て洗浄と乾燥が繰り返し実施されるが
、ウェハ等は自然乾燥させると、乾燥が段階的に進行し
て木の年輪のような乾燥進行模様が描出される場合があ
るため、強制乾燥させることが行なわれている。
このような強制乾燥を実施する装置として、従来、イソ
ピロピルアルコール（以下アルコールという。）をヒー
タで加熱してベーパを発生させ、このベーパをウェハ等
の表面に接触させ、ウェハ等を強制的に乾燥させるベー
パ乾燥機が徘案されている。
ピロピルアルコール（以下アルコールという。）をヒー
タで加熱してベーパを発生させ、このベーパをウェハ等
の表面に接触させ、ウェハ等を強制的に乾燥させるベー
パ乾燥機が徘案されている。
しかしながら、このような従来のベーパ乾燥機Ｖこあっ
ては、引火性の大ぎｔ・アルコールを加熱するため、極
めて危険であるという欠点があった。
ては、引火性の大ぎｔ・アルコールを加熱するため、極
めて危険であるという欠点があった。
本発明の目的は、前記従来技術の欠点を解消し、危険性
を低減可能なベーパ乾燥機を提供するにある。
を低減可能なベーパ乾燥機を提供するにある。
以下、本発明を図面に示す実施例にしたが−て説明する
。
。
図は本発明によるベーパ乾燥機の一実施例を示す縦断面
図である。
図である。
本実施例において、乾燥槽１の底面中火部にはベーパ供
給口２が開設され、頂面ば犬さく開口してその上方には
排気口３を開設されたフード４が設置されて−・る。乾
燥槽１の内面十部（（は適数の冷却用パイプ５が敷設さ
れ、その底面の隅部には、他端を供給口２に接続された
ドレン路６の一端が接続されて℃・る。
給口２が開設され、頂面ば犬さく開口してその上方には
排気口３を開設されたフード４が設置されて−・る。乾
燥槽１の内面十部（（は適数の冷却用パイプ５が敷設さ
れ、その底面の隅部には、他端を供給口２に接続された
ドレン路６の一端が接続されて℃・る。
ベーパ供給口２には超音波式ペーパ発生装ｇ７が連設さ
れて（・る。この装＃７はベーパ８の発生源となるアル
コール９を溜める槽１０を備えており、この槽１０の頂
面には供給口２に連通する吹出口１１が開設されている
。この槽１（）の胴部には補給口１２が開設され、この
補給口１２にはアルコール貯留タンク１４が連絡路１３
を介して連通されて（・る。タンク１４は補給量制御弁
１５を備えており、補給量を制御することにより槽１０
内に溜まるアルコール９０レベルを常時一定に維持する
ようにな−・ている。
れて（・る。この装＃７はベーパ８の発生源となるアル
コール９を溜める槽１０を備えており、この槽１０の頂
面には供給口２に連通する吹出口１１が開設されている
。この槽１（）の胴部には補給口１２が開設され、この
補給口１２にはアルコール貯留タンク１４が連絡路１３
を介して連通されて（・る。タンク１４は補給量制御弁
１５を備えており、補給量を制御することにより槽１０
内に溜まるアルコール９０レベルを常時一定に維持する
ようにな−・ている。
液槽１０内の底部には振動子１６がアルコール９の甲に
没するように設けられ、この振動子１６は超音波発振器
１７に接続されてし・る。この発振器１７は槽１０内の
アルコール９が浸入しな（・ようにシール状態を維持さ
れている。
没するように設けられ、この振動子１６は超音波発振器
１７に接続されてし・る。この発振器１７は槽１０内の
アルコール９が浸入しな（・ようにシール状態を維持さ
れている。
次に作用を説明する。
洗浄工程を終えて浸潤状態にある被乾燥物としてのウェ
ハ１８はホルダ１９に保持された状態で適当なハンドリ
ング手段２０によって乾燥槽１内に収容される。一方、
液槽１０内において一定レベルに溜ったアルコール９は
超音波発振器１７の振動子１６により振動されて低温の
ままのベーパ（極めて気化し易し・状態にある微粒子の
霧状のもの）８を発生する。このベーパ８は吹出口１１
を経て供給口２から乾燥槽１内に入り、ウェハ１８の表
面に接触して旧着する１、このとき、ベーパ８がウェハ
１８の表面全体に均一に接触付着することが望ましく・
。ベーパがウェハに刺着すると、アルコールヘーハは揮
発（気化）シ易く、かつ脱水作用を備えているから、揮
発時にウェハを湿潤して（・ろ水分または液分を随伴蒸
発させてウェハを乾燥させる。
ハ１８はホルダ１９に保持された状態で適当なハンドリ
ング手段２０によって乾燥槽１内に収容される。一方、
液槽１０内において一定レベルに溜ったアルコール９は
超音波発振器１７の振動子１６により振動されて低温の
ままのベーパ（極めて気化し易し・状態にある微粒子の
霧状のもの）８を発生する。このベーパ８は吹出口１１
を経て供給口２から乾燥槽１内に入り、ウェハ１８の表
面に接触して旧着する１、このとき、ベーパ８がウェハ
１８の表面全体に均一に接触付着することが望ましく・
。ベーパがウェハに刺着すると、アルコールヘーハは揮
発（気化）シ易く、かつ脱水作用を備えているから、揮
発時にウェハを湿潤して（・ろ水分または液分を随伴蒸
発させてウェハを乾燥させる。
ベーパ８が冷却パイプ５に接触すると、ベーパ８は液滴
となり肥大化して乾燥槽１の内面に泊って流下し、ドレ
ン路６から液槽１ （＋内に滴下回収され、再使用され
る。余分なベーパ８が回収されるから、ベーパ８のウェ
ハ１８への均一な４７１着は促進される。
となり肥大化して乾燥槽１の内面に泊って流下し、ドレ
ン路６から液槽１ （＋内に滴下回収され、再使用され
る。余分なベーパ８が回収されるから、ベーパ８のウェ
ハ１８への均一な４７１着は促進される。
また、水分、液分とともに揮発した気化蒸気は槽１内を
上昇してフード４で集められ、排気口３から外部へ排出
され、適当な液化処理または廃棄処理を受けろ。
上昇してフード４で集められ、排気口３から外部へ排出
され、適当な液化処理または廃棄処理を受けろ。
本実施例によれば、乾燥に使用されるベーパがアルコー
ルに機械的振動を加えることにより作り出されるので、
アルコールを加熱してベーパな作り出す従来の場合に比
べて危険性が極めて低減化される。
ルに機械的振動を加えることにより作り出されるので、
アルコールを加熱してベーパな作り出す従来の場合に比
べて危険性が極めて低減化される。
なお、ベーパ発生源としてアルコールを使用した場合に
つき説明したが、これに限らず１例えば、アセトン、ベ
ンジン等揮発性を有する液体で被乾燥物に悪影響を与え
ないもの等が使用ｎＪ能である。
つき説明したが、これに限らず１例えば、アセトン、ベ
ンジン等揮発性を有する液体で被乾燥物に悪影響を与え
ないもの等が使用ｎＪ能である。
また、被乾燥物もウェハ圧限らず、マスク等半導体装置
の製造技術分野は勿論、他の技術分動における強制乾燥
が必要なものを対象とすることができる。
の製造技術分野は勿論、他の技術分動における強制乾燥
が必要なものを対象とすることができる。
以上説明したように、本発明によれば、危険性を低減す
ることができる。
ることができる。
図は本発明の一実施例を示す縦断面図である。
１・・・乾燥槽、２・・・ベーパ供給口、３・・・排気
口、訃・・冷却パイプ、６・・・ドレン路、７・超音波
式ペーパ発生装置、８・・・ベーパ、９・・・アルコー
ル、１０・・・液槽、１１・・・吹出口、１２・・・補
給口、１４・・・タンク、１６・・・振動子、１７・・
超音波発振器、１８・・・ウェハ。
口、訃・・冷却パイプ、６・・・ドレン路、７・超音波
式ペーパ発生装置、８・・・ベーパ、９・・・アルコー
ル、１０・・・液槽、１１・・・吹出口、１２・・・補
給口、１４・・・タンク、１６・・・振動子、１７・・
超音波発振器、１８・・・ウェハ。
Claims (1)
- １、被乾燥物に揮発性を有する液体のベーパを接触させ
て被乾燥物を乾燥させるベーパ乾燥機において、前記液
体に機械的撮動を加え又ベーパを発生させることを判徴
とするベーパ乾燥機。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57160989A JPS5950530A (ja) | 1982-09-17 | 1982-09-17 | ベ−パ乾燥機 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57160989A JPS5950530A (ja) | 1982-09-17 | 1982-09-17 | ベ−パ乾燥機 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5950530A true JPS5950530A (ja) | 1984-03-23 |
Family
ID=15726453
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57160989A Pending JPS5950530A (ja) | 1982-09-17 | 1982-09-17 | ベ−パ乾燥機 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5950530A (ja) |
-
1982
- 1982-09-17 JP JP57160989A patent/JPS5950530A/ja active Pending
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